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公开(公告)号：CN116053844B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202310055993.1
申请日：2023-01-18
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: H01R13/52 , H01R13/6581 , H01F27/04 , H01F27/29 , H01F27/28
Abstract: 一种高真空条件下抗强脉冲电磁力冲击的引线穿舱结构，包括支撑管，电缆型线圈的多组引线在支撑管内部沿圆周方向排布，相邻两组引线的电流方向不同，所述多组引线的排布中心设置有聚四氟乙烯柱，所述支撑管贯穿真空室设置。本发明解决了多组脉冲大电流引线之间的强脉冲电磁力的冲击问题，实现了穿舱结构在高真空条件下的可靠密封，提高了多组脉冲大电流引线之间的高压绝缘性能。本发明引线的穿舱结构与线圈运动机构兼容，穿舱结构可以跟随线圈运动机构运动，而不影响穿舱功能的实现。
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公开(公告)号：CN115821200A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211551841.2
申请日：2022-12-05
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种细长不锈钢管内表面高密度等离子体渗氮的方法及装置，属于不锈钢管内表面强化技术领域。本发明基于自研的高密度螺旋波等离子体发生装置，对内径10mm，长2000mm的316L不锈钢管11(长径比＝200)内表面进行了渗氮强化处理。本发明采用螺旋波等离子体源这种高密度的等离子源产生直径为1cm的Ar/N2等离子体束流，然后在细长的不锈钢管内表面进行渗氮处理，并通过实验检验了该方法制备的管内表面渗氮层的性能。本发明的创新点：螺旋波等离子可以产生高密度、高能量的等离子体，这对管内渗氮工艺来说是利好的，可以在较短的处理时间内，在细长金属管内表面制备具备良好性能的渗氮层。
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公开(公告)号：CN118555724A
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN202410610857.9
申请日：2024-05-16
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种低能中性粒子束发生装置，属于中性粒子束技术领域。离子束经由引出装置加速进入离子束流偏转装置，此处设置分流通道，在沿离子源轴向通道上安装分子泵。离子束流经过偏转通道后进入离子束流分析装置和中性化装置区域，并通过带电粒子剥离装置。本发明基于离子源产生离子束，并通过离子束流引出装置对离子束流进行准直以及能量调控；通过离子束流偏转和分子泵实现束流中中性成分的剥离；基于表面掠射中和，对离子进行中性化；中性化后的束流通过带电粒子剥离装置，去除束流中的带电成分。通过中性粒子束检测装置，可对获得的中性粒子束的能量分布和束流密度进行定量测量，以便用于中性粒子探测器的校准标定，以及中性束刻蚀的过程研究。
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公开(公告)号：CN116092769A
公开(公告)日：2023-05-09
申请号：CN202310131208.6
申请日：2023-02-17
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种高真空下抗电磁冲击的大型磁体多自由度调节机构，属于机械传动技术领域。所述调节机构包括球铰、摇摆动作组件、平移驱动组件、滑轨及底座；所述球铰与磁体相连接，负责支撑磁体以及提供转动的支点；所述摇摆动作组件固定于滑轨平台上，起到支撑、约束磁体以及提供定轴转动驱动力的作用；所述平移驱动组件位于两道滑轨中间；所述滑轨和底座位于整个机构的最底端，提供整个机构的支撑和平移方向的约束。本发明可以根据等离子体模拟实验的需要，通过球铰结构和滑轨机构的组合使偶极线圈实现三个15°的转动自由度和一个移动自由度。该机械调节结构可以在高真空和强电磁冲击环境中稳定运行，结构紧凑，集成度高，调节机构互相独立，运行可靠稳定。
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公开(公告)号：CN116053844A
公开(公告)日：2023-05-02
申请号：CN202310055993.1
申请日：2023-01-18
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: H01R13/52 , H01R13/6581 , H01F27/04 , H01F27/29 , H01F27/28
Abstract: 一种高真空条件下抗强脉冲电磁力冲击的引线穿舱结构，包括支撑管，电缆型线圈的多组引线在支撑管内部沿圆周方向排布，相邻两组引线的电流方向不同，所述多组引线的排布中心设置有聚四氟乙烯柱，所述支撑管贯穿真空室设置。本发明解决了多组脉冲大电流引线之间的强脉冲电磁力的冲击问题，实现了穿舱结构在高真空条件下的可靠密封，提高了多组脉冲大电流引线之间的高压绝缘性能。本发明引线的穿舱结构与线圈运动机构兼容，穿舱结构可以跟随线圈运动机构运动，而不影响穿舱功能的实现。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115988725A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202310131207.1
申请日：2023-02-17
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种用于高真空等离子体环境的磁体位置调节机构，属于机械传动技术领域。所述结构包括线圈本体、传动机构和固定支撑机构；所述线圈本体、传动机构和固定支撑机构分为上下两部分，线圈本体被约束固定在真空内部，其垂直方向的运动由传动机构控制，固定支撑机构安装在罐体上，起到固定支撑传动机构和使线圈有且仅有垂直方向的运动自由度的作用；线圈本体的垂直运动通过上下各一套传动机构控制线圈运动，顶部传动机构通过固定架安装于罐体上，底部传动机构同样通过固定架安装在罐体上，固定架固定在地基上的地脚螺栓上；上下线圈各依靠驱动单元同步实现运动。本发明的位置调节机构结构紧凑，系统集成度高，运行稳定可靠。
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公开(公告)号：CN119361398A
公开(公告)日：2025-01-24
申请号：CN202411486379.1
申请日：2024-10-23
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: H01J37/02
Abstract: 一种用于低能离子束中性化的栅板，涉及离子中性化技术领域。限流板、绝缘环与中性化板依次同轴连接固定，限流板正面面对离子束来流方向，中性化板位于限流板背面，限流板中心加工第一通孔，直径Φ0，中性化板中心加工第二通孔，直径Φ1，Φ1≥Φ0，中性化板正面沿纵向均匀加工若干个水平插槽，水平插槽与第二通孔的轴线之间存在纵向倾角θ，并且在所有水平插槽内均插装金属栅片使第二通孔内形成栅板结构的中性化通道。能够减小低能离子束在中性化过程中的能量损耗和角度发散，提高中性束流的品质，同时其结构简单合理，保证了栅板的可加工性。
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公开(公告)号：CN115976452B
公开(公告)日：2023-06-16
申请号：CN202211651441.9
申请日：2022-12-21
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种等离子体环境下抑制磁体表面放电的处理方法，属于磁体表面处理技术领域。所述方法为在磁体本体外表面涂覆包括凝胶涂层、喷砂涂层和导电金属涂层的复合涂层；本体外表面采用锯齿状刮板涂抹凝胶涂层，待固化后进行喷砂涂层的制备，然后在此基础上再次涂抹凝胶涂层，将锯齿填平，凝胶涂层和喷砂涂层的厚度为2～4mm；待最外层凝胶固化后用砂纸打磨掉其尖角、毛刺，进行导电金属涂层的喷涂，导电金属涂层的厚度为80～130μm。凝胶涂层和喷砂涂层的组合可以有效降低线圈本体的放气率，缩短抽真空的时间，且达到真空密封的效果。
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公开(公告)号：CN115976452A
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202211651441.9
申请日：2022-12-21
Applicant: 哈尔滨工业大学
Abstract: 一种等离子体环境下抑制磁体表面放电的处理方法，属于磁体表面处理技术领域。所述方法为在磁体本体外表面涂覆包括凝胶涂层、喷砂涂层和导电金属涂层的复合涂层；本体外表面采用锯齿状刮板涂抹凝胶涂层，待固化后进行喷砂涂层的制备，然后在此基础上再次涂抹凝胶涂层，将锯齿填平，凝胶涂层和喷砂涂层的厚度为2～4mm；待最外层凝胶固化后用砂纸打磨掉其尖角、毛刺，进行导电金属涂层的喷涂，导电金属涂层的厚度为80～130μm。凝胶涂层和喷砂涂层的组合可以有效降低线圈本体的放气率，缩短抽真空的时间，且达到真空密封的效果。
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公开(公告)号：CN116519183A
公开(公告)日：2023-08-01
申请号：CN202310306984.5
申请日：2023-03-27
Applicant: 哈尔滨工业大学
IPC: G01L5/00
Abstract: 一种大型磁体线圈支撑机构受力的测量系统及方法，属于空间磁体线圈研究领域。系统包括控制模块用于控制磁体线圈的脉冲电流和电压的大小，以及给数据采集模块发送触发信号和设置磁体线圈的特征参数；数据采集模块用于采集在给定脉冲电流和电压条件下加速度测量模块输出的加速度数据；加速度测量模块用于固定在线圈本体或者支撑缓冲机构上，输出待检测线圈的最大加速度的数据集合；分析输出模块用于根据最大加速度数据集合得到支撑缓冲结构所承受的力的数据集合，逐个外推计算支撑缓冲机构所受的最大作用力后取均值，最后生成评估报告。本发明基于大型磁体在小电流瞬态放电情况下的加速度数据获得其支撑缓冲机构所受到的最大作用力。
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