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公开(公告)号：CN104808451B
公开(公告)日：2017-07-18
申请号：CN201510249494.1
申请日：2015-05-15
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G03F9/00
CPC分类号： G03F7/0007 , G02F1/133516 , G02F2001/133519 , G03F1/42 , G03F7/22 , G03F7/70475 , G03F9/7084
摘要： 本发明公开一种对位曝光方法，涉及显示面板制造技术领域，为解决使用现有的对位曝光方法无法实现对大于掩膜板尺寸的透明基板进行曝光的问题。所述对位曝光方法，包括一次对位曝光过程和二次对位曝光过程，一次对位曝光过程中在透明基板的至少一侧边缘形成多对对位标记，二次对位曝光过程中使用的掩膜板的至少一侧边缘上设有一对标记孔；在二次对位曝光过程的多次掩膜板对位过程中，使掩膜板上的一对标记孔逐一与透明基板上对应侧的各对对位标记对正。本发明提供的对位曝光方法用于对大于掩膜板尺寸的透明基板进行多次拼接的二次曝光。所述对位曝光方法用于显示基板的制作。
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公开(公告)号：CN105136053A
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201510268016.5
申请日：2015-05-22
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G01B11/14
CPC分类号： B65H5/062 , B65H7/02 , B65H2404/1441 , B65H2511/20 , B65H2511/224 , B65H2513/40 , B65H2515/34 , B65H2553/512 , B65H2557/264 , B65H2220/02 , B65H2220/03 , B65H2220/01
摘要： 本发明公开了一种间隙调整装置和间隙调整方法、传送设备。所述间隙调整装置用于调整相对设置的两个滚轮之间的间隙，两个所述滚轮中的至少一者能够相对于另一者上下移动。所述间隙调整装置包括驱动器和控制器，所述驱动器用于驱动能够移动的所述滚轮上下移动，所述控制器内设置有预定间隙范围，所述控制器与所述驱动器相连，用于控制所述驱动器驱动能够移动的所述滚轮上下移动，以使得两个所述滚轮之间的间隙在所述预设间隙范围内。本发明采用驱动器带动滚轮移动，并通过控制器来控制驱动器的动作，实现了对双滚轮间隙进行自动调整，减少了人力成本。此外，本发明采用了位移测量器和压电感应器，提高了间隙调整精度，降低了产品破损风险。
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公开(公告)号：CN104785401A
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201510242285.4
申请日：2015-05-13
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
CPC分类号： B05B13/0278 , B05B13/0221 , B05B15/68 , B05D1/02
摘要： 本发明公开了一种喷涂装置和喷涂方法，涉及喷涂技术领域，能够提高基板上喷涂物质的均一性。该喷涂装置包括多个相互平行的摇杆，每个所述摇杆上设置有多个喷头，所述摇杆的延伸方向与所述基板的移动方向之间具有第一夹角，所述第一夹角为锐角或钝角；每相邻的N个所述摇杆为一组，每组内的所有所述摇杆上设置的喷头交错排布，其中，N为大于等于2且小于等于所述摇杆总数的正整数。本发明应用于喷涂技术领域。
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公开(公告)号：CN105676493B
公开(公告)日：2019-06-28
申请号：CN201610213553.4
申请日：2016-04-07
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G02F1/13 , G02F1/1339
摘要： 本发明提供一种修复设备及修复方法，用于对目标基板上未能正常设置隔垫物的缺陷区域进行修复。其中，所述修复设备包括：存储装置，用于存储液态的修复剂；转换装置，用于向所述存储装置获取液态的修复剂，并将该获取到的液态的修复剂转换为半固态的修复剂；涂覆装置，用于将所述半固态的修复剂，按照隔垫物的形状涂覆在所述缺陷区域上。本发明首次提供一种能够对隔垫物进行修复的方案。
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公开(公告)号：CN104785401B
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201510242285.4
申请日：2015-05-13
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
摘要： 本发明公开了一种喷涂装置和喷涂方法，涉及喷涂技术领域，能够提高基板上喷涂物质的均一性。该喷涂装置包括多个相互平行的摇杆，每个所述摇杆上设置有多个喷头，所述摇杆的延伸方向与所述基板的移动方向之间具有第一夹角，所述第一夹角为锐角或钝角；每相邻的N个所述摇杆为一组，每组内的所有所述摇杆上设置的喷头交错排布，其中，N为大于等于2且小于等于所述摇杆总数的正整数。本发明应用于喷涂技术领域。
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公开(公告)号：CN105676493A
公开(公告)日：2016-06-15
申请号：CN201610213553.4
申请日：2016-04-07
申请人： 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方光电科技有限公司
IPC分类号： G02F1/13 , G02F1/1339
CPC分类号： G02F1/1309 , G02F1/13394
摘要： 本发明提供一种修复设备及修复方法，用于对目标基板上未能正常设置隔垫物的缺陷区域进行修复。其中，所述修复设备包括：存储装置，用于存储液态的修复剂；转换装置，用于向所述存储装置获取液态的修复剂，并将该获取到的液态的修复剂转换为半固态的修复剂；涂覆装置，用于将所述半固态的修复剂，按照隔垫物的形状涂覆在所述缺陷区域上。本发明首次提供一种能够对隔垫物进行修复的方案。
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公开(公告)号：CN104808451A
公开(公告)日：2015-07-29
申请号：CN201510249494.1
申请日：2015-05-15
申请人： 合肥京东方光电科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC分类号： G03F9/00
CPC分类号： G03F7/0007 , G02F1/133516 , G02F2001/133519 , G03F1/42 , G03F7/22 , G03F7/70475 , G03F9/7084
摘要： 本发明公开一种对位曝光方法，涉及显示面板制造技术领域，为解决使用现有的对位曝光方法无法实现对大于掩膜板尺寸的透明基板进行曝光的问题。所述对位曝光方法，包括一次对位曝光过程和二次对位曝光过程，一次对位曝光过程中在透明基板的至少一侧边缘形成多对对位标记，二次对位曝光过程中使用的掩膜板的至少一侧边缘上设有一对标记孔；在二次对位曝光过程的多次掩膜板对位过程中，使掩膜板上的一对标记孔逐一与透明基板上对应侧的各对对位标记对正。本发明提供的对位曝光方法用于对大于掩膜板尺寸的透明基板进行多次拼接的二次曝光。所述对位曝光方法用于显示基板的制作。
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