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公开(公告)号:CN104611683A
公开(公告)日:2015-05-13
申请号:CN201410047902.0
申请日:2014-02-11
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/4402 , C23C16/4412 , C23C16/45525 , C23C16/45593 , C23C16/52
Abstract: 本发明提供了为原子层沉积(ALD)工艺供应前体材料的系统和方法。气体供给部将一种或多种前体材料提供给沉积室。沉积室通过输入管线接收一种或多种前体材料。气体循环系统连接至沉积室的输出管线。气体循环系统包括气体成分检测系统,该气体成分检测系统被配置为产生表示通过输出管线离开沉积室的气体的成分的输出信号。气体循环系统也包括循环管线,该循环管线被配置为将离开沉积室的气体传输至输入管线。控制器连接至气体供给部。该控制器基于气体成分检测系统的输出信号控制气体供给部的一种或多种前体材料的供给。
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公开(公告)号:CN104611683B
公开(公告)日:2017-04-12
申请号:CN201410047902.0
申请日:2014-02-11
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: C23C16/455
CPC classification number: C23C16/4402 , C23C16/4412 , C23C16/45525 , C23C16/45593 , C23C16/52
Abstract: 本发明提供了为原子层沉积(ALD)工艺供应前体材料的系统和方法。气体供给部将一种或多种前体材料提供给沉积室。沉积室通过输入管线接收一种或多种前体材料。气体循环系统连接至沉积室的输出管线。气体循环系统包括气体成分检测系统,该气体成分检测系统被配置为产生表示通过输出管线离开沉积室的气体的成分的输出信号。气体循环系统也包括循环管线,该循环管线被配置为将离开沉积室的气体传输至输入管线。控制器连接至气体供给部。该控制器基于气体成分检测系统的输出信号控制气体供给部的一种或多种前体材料的供给。
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