公开(公告)号：CN102886733A

公开(公告)日：2013-01-23

申请号：CN201210188917.X

申请日：2012-06-08

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 魏国修 ,  陈科维 ,  王英郎 ,  郭俊廷

IPC: B24B37/20 ,  B24B37/04

CPC classification number: B24B7/228 ,  B24D7/14

Abstract: 本发明涉及用于晶圆研磨的装置。其中，一种研磨砂轮包括：外部基底，具有第一附接的磨粒抛光垫；内部框架，具有第二附接的磨粒抛光垫；以及主轴，通过外部基底和内部框架共享该主轴，其中，外部基底和内部框架中在至少一个可以沿着共享的主轴独立的移动；以及其中，外部基底、内部框架、以及共享主轴均具有相同中心。一种研磨系统包括：上述研磨砂轮；和除了驱动研磨砂轮旋转的电机以外，还包括砂轮头，附接至共享主轴，能够垂直移动；以及卡盘工作台，用于将晶圆固定在卡盘工作台的顶部；其中，研磨砂轮与卡盘工作台的一部分重叠，研磨砂轮和卡盘工作台均能够以另一个的相反方向旋转。

公开(公告)号：CN102886733B

公开(公告)日：2018-01-05

申请号：CN201210188917.X

申请日：2012-06-08

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 魏国修 ,  陈科维 ,  王英郎 ,  郭俊廷

IPC: B24B37/20 ,  B24B37/04

CPC classification number: B24B7/228 ,  B24D7/14

Abstract: 本发明涉及用于晶圆研磨的装置。其中，一种研磨砂轮包括：外部基底，具有附接的第一磨粒抛光垫；内部框架，具有附接的第二磨粒抛光垫；以及主轴，通过外部基底和内部框架共享该主轴，其中，外部基底和内部框架中在至少一个可以沿着共享的主轴独立的移动；以及其中，外部基底、内部框架、以及共享主轴均具有相同中心。一种研磨系统包括：上述研磨砂轮；和除了驱动研磨砂轮旋转的电机以外，还包括砂轮头，附接至共享的主轴，能够垂直移动；以及卡盘工作台，用于将晶圆固定在卡盘工作台的顶部；其中，研磨砂轮与卡盘工作台的一部分重叠，研磨砂轮和卡盘工作台均能够以另一个的相反方向旋转。