Patent search ap:("台湾积体电路制造股份有限公司") AND inv:"蔡亚庭" Page 1

1.

发明公开
清洁系统无效

公开(公告)号：CN113206026A

公开(公告)日：2021-08-03

申请号：CN202110226125.6

申请日：2021-03-01

Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司

Inventor： 陈思孜 , 黄俊程 , 蔡亚庭 , 陈盈淙 , 陈科维

IPC: H01L21/67 , B08B1/00 , B08B3/02 , B08B3/12

Abstract: 一种清洁系统，包括至少一清洁模块，配置以在一化学机械研磨(CMP)制程之后接收一基板，并且使用一清洁溶液去除在基板上的多个污染物。清洁系统还包括一清洁溶液供给系统，配置以将清洁溶液供给到至少一清洁模块。清洁溶液供给系统包括至少一温度控制系统。至少一温度控制系统包括：一加热装置，配置以加热清洁溶液、一冷却装置，配置以冷却清洁溶液、一温度感应器，配置以监测清洁溶液的一温度、以及一温度控制器，配置以控制加热装置及冷却装置。

Patent Agency Ranking