公开(公告)号：CN110941149B

公开(公告)日：2022-03-15

申请号：CN201910895121.X

申请日：2019-09-20

申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司

发明人： 张世明 ,  骆文 ,  刘俊宏 ,  张家华 ,  吴信纬 ,  欧大炜 ,  陈建志 ,  陈建诚

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 本公开提供一种电子束微影系统及电子束微影方法以增加生产量，特别涉及用于电子束微影及增加生产量的方法。由电子束微影系统实现的增加生产量的范例性方法，包括接收包含目标图案的集成电路(IC)设计布局，其中子束微影系统执行第一曝光剂量，以基于集成电路设计布局在工作件上形成目标图案。上述方法还包括插入虚拟图案至集成电路设计布局中，以将集成电路设计布局的图案密度增加到大于或等于临界图案密度，进而产生修改后集成电路设计布局。电子束微影系统执行第二曝光剂量，以基于修改后集成电路设计布局在工作件上形成目标图案，其中第二曝光剂量小于第一曝光剂量。

公开(公告)号：CN110941149A

公开(公告)日：2020-03-31

申请号：CN201910895121.X

申请日：2019-09-20

申请人： 台湾积体电路制造股份有限公司

发明人： 张世明 ,  骆文 ,  刘俊宏 ,  张家华 ,  吴信纬 ,  欧大炜 ,  陈建志 ,  陈建诚

IPC分类号： G03F7/20

摘要： 本公开提供一种电子束微影系统及电子束微影方法以增加生产量，特别涉及用于电子束微影及增加生产量的方法。由电子束微影系统实现的增加生产量的范例性方法，包括接收包含目标图案的集成电路(IC)设计布局，其中子束微影系统执行第一曝光剂量，以基于集成电路设计布局在工作件上形成目标图案。上述方法还包括插入虚拟图案至集成电路设计布局中，以将集成电路设计布局的图案密度增加到大于或等于临界图案密度，进而产生修改后集成电路设计布局。电子束微影系统执行第二曝光剂量，以基于修改后集成电路设计布局在工作件上形成目标图案，其中第二曝光剂量小于第一曝光剂量。