布局修改方法及系统
    1.
    发明授权

    公开(公告)号:CN103605817B

    公开(公告)日:2016-12-28

    申请号:CN201310218309.3

    申请日:2013-06-04

    Abstract: 本发明提供一种方法,该方法包括:提供存储先前下线的集成电路(IC)布局的至少一部分的局部网表的非易失性机器可读存储介质,该局部网表代表用于制造具有使IC满足第一规格值的IC布局的IC的光掩模组。计算机识别IC布局中多个第一器件的固有子器件,使得由第二器件代替第一器件的固有子器件在修改后的IC布局中满足不同于第一规格值的第二规格值。生成至少一个布局掩模,并且将该至少一个布局掩模存储在可被用于形成至少一个附加光掩模的工具访问的至少一个非易失性机器可读存储介质中,使得将光掩模组和至少一个附加掩模用于根据修改后的IC布局制造IC。本发明还提供了布局修改方法及系统。

    布局修改方法及系统
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103605817A

    公开(公告)日:2014-02-26

    申请号:CN201310218309.3

    申请日:2013-06-04

    Abstract: 本发明提供一种方法,该方法包括:提供存储先前下线的集成电路(IC)布局的至少一部分的局部网表的非易失性机器可读存储介质,该局部网表代表用于制造具有使IC满足第一规格值的IC布局的IC的光掩模组。计算机识别IC布局中多个第一器件的固有子器件,使得由第二器件代替第一器件的固有子器件在修改后的IC布局中满足不同于第一规格值的第二规格值。生成至少一个布局掩模,并且将该至少一个布局掩模存储在可被用于形成至少一个附加光掩模的工具访问的至少一个非易失性机器可读存储介质中,使得将光掩模组和至少一个附加掩模用于根据修改后的IC布局制造IC。本发明还提供了布局修改方法及系统。

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