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公开(公告)号:CN111103317A
公开(公告)日:2020-05-05
申请号:CN201910994618.7
申请日:2019-10-18
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G01N23/2251
Abstract: 本发明一些实施例提供一种用于扫描晶片的方法及系统。所述系统捕捉晶片的缺陷图像,且基于参考图像产生模型产生对应于第一缺陷图像的参考图像。所述系统基于所述缺陷图像及所述参考图像产生缺陷标记图像。
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公开(公告)号:CN111103317B
公开(公告)日:2022-12-06
申请号:CN201910994618.7
申请日:2019-10-18
Applicant: 台湾积体电路制造股份有限公司
IPC: G01N23/2251
Abstract: 本发明一些实施例提供一种用于扫描晶片的方法及系统。所述系统捕捉晶片的缺陷图像,且基于参考图像产生模型产生对应于第一缺陷图像的参考图像。所述系统基于所述缺陷图像及所述参考图像产生缺陷标记图像。
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