一种HiPIMS双靶共溅射制备WS2-Ti复合涂层的装置和方法

    公开(公告)号:CN115287612B

    公开(公告)日:2024-05-24

    申请号:CN202210706659.3

    申请日:2022-06-21

    Abstract: 本发明公开了一种HiPIMS双靶共溅射制备WS2‑Ti复合涂层的装置和方法,该装置包括真空腔体、样品转架、主脉冲电源、从脉冲电源、WS2靶材、Ti靶材和时序控制器,样品转架设置于真空腔体内,WS2靶材和Ti靶材分别固定于真空腔体,WS2靶材和Ti靶材呈八字分布,WS2靶材和Ti靶材分别正对样品转架;主脉冲电源与Ti靶材电连接,从脉冲电源与WS2靶材电连接,时序控制器分别与主脉冲电源和从脉冲电源电连接,时序控制器控制主脉冲电源和从脉冲电源的脉冲时序。该装置可控制两套HiPIMS脉冲电源的脉冲时序,可以有效避免脉冲放电重叠,实现双靶稳定工作,利用该装置制备WS2‑Ti复合涂层,可以改善其耐摩擦磨损性能。

    一种HiPIMS双靶共溅射制备WS2-Ti复合涂层的装置和方法

    公开(公告)号:CN115287612A

    公开(公告)日:2022-11-04

    申请号:CN202210706659.3

    申请日:2022-06-21

    Abstract: 本发明公开了一种HiPIMS双靶共溅射制备WS2‑Ti复合涂层的装置和方法,该装置包括真空腔体、样品转架、主脉冲电源、从脉冲电源、WS2靶材、Ti靶材和时序控制器,样品转架设置于真空腔体内,WS2靶材和Ti靶材分别固定于真空腔体,WS2靶材和Ti靶材呈八字分布,WS2靶材和Ti靶材分别正对样品转架;主脉冲电源与Ti靶材电连接,从脉冲电源与WS2靶材电连接,时序控制器分别与主脉冲电源和从脉冲电源电连接,时序控制器控制主脉冲电源和从脉冲电源的脉冲时序。该装置可控制两套HiPIMS脉冲电源的脉冲时序,可以有效避免脉冲放电重叠,实现双靶稳定工作,利用该装置制备WS2‑Ti复合涂层,可以改善其耐摩擦磨损性能。

    一种与基体表面具有垂直取向关系的碳涂层材料

    公开(公告)号:CN109811306A

    公开(公告)日:2019-05-28

    申请号:CN201910144331.5

    申请日:2019-02-27

    Applicant: 台州学院

    Abstract: 本发明公开了一种新的碳涂层材料,该碳涂层材料具有以下特征:该碳涂层材料具有线性结构;该碳涂层与基体表面具有垂直取向关系;该碳涂层的俄歇电子的范围接近金刚石的俄歇光谱。该碳涂层材料具有以下优势:涂层具有的结构能够使涂层具有“记忆”和“管理”效果;涂层具有润滑剂环境分子在边界层内自组装的机理,具有结构自排效应;涂层具有更高的硬度、更高的耐磨性以及更低的摩擦系数。

    一种网状四方相氧化锆纳米粉体的制备方法

    公开(公告)号:CN104973624A

    公开(公告)日:2015-10-14

    申请号:CN201410139868.X

    申请日:2014-04-09

    Abstract: 本发明公开了一种网状四方相氧化锆纳米粉体的制备方法,其步骤包括:将锆及钇的无机盐溶解到蒸馏水中,然后加入丙烯酰胺、N,N’-亚甲基双丙烯酰胺和过硫酸铵等物质,最后通过控制物质溶度、反应温度、时间和热处理温度获得纳米级的网状四方相氧化锆粉体。本发明得到的网状四方相纳米粉体结晶好,纯度较高,网状直径约为500~1500nm,纳米颗粒直径约为10~20nm。本发明提供制备网状氧化锆粉体的方法具有四方相产物纯度高、颗粒分散好,工艺操作简单、可重复性好、合成速度快,合成原料来源广泛、价格低廉。

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