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公开(公告)号：CN113046777A
公开(公告)日：2021-06-29
申请号：CN202110235370.3
申请日：2021-03-03
Applicant: 厦门大学
IPC: C25B11/065 , C25B11/081 , C25B11/089 , C25B11/075 , C25B1/04 , H01M4/90 , H01M4/92 , H01M8/0656
Abstract: 本发明提供一种石墨烯复合材料、其制备方法以及在能源存储和转化中的应用。所述石墨烯复合材料包含催化剂活性中心和石墨烯载体两部分，负载催化剂的石墨烯经过电化学调控，将质子转化为氢原子，存储在石墨烯上，得到氢化石墨稀，并实现室温常压下的储氢。本发明方法制备的石墨烯复合材料通过电化学方法将质子转化为氢原子存储在石墨烯上，不仅可以实现氢能的存储和释放，进行储氢、制氢和制氧，而且可以作为化学电源的负极材料，构筑各种类型的电池。
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公开(公告)号：CN113410386B
公开(公告)日：2023-03-14
申请号：CN202110674069.2
申请日：2021-06-17
Abstract: 一种制备具有M/M‑TCNQ肖特基结的纳米线的方法，涉及一种纳米线制备方法。在硅基底上浇注PDMS，固化后的PDMS加工模具孔洞，沉积一层M膜，模具孔洞内浇注树脂，固化剥离后用树脂包埋得到切片用样品进行纳米切片，转移至氧化硅基底上，采用光刻工艺将M纳米线两端涂覆光刻胶保护，暴露出中间部分，置于TCNQ乙腈溶液中充分反应得到M/M‑TCNQ/M纳米线，去除两端光刻胶后再将中间部分涂覆光刻胶保护，沉积一层惰性金属膜用作引出电极，剥离中间部分光刻胶及惰性金属膜，最后进行纳米线的表征。能够高效可控地将M/M‑TCNQ肖特基结构集成于一根纳米线中，制备方法简单、加工效率高、可重复性好。
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公开(公告)号：CN113410386A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN202110674069.2
申请日：2021-06-17
Abstract: 一种制备具有M/M‑TCNQ肖特基结的纳米线的方法，涉及一种纳米线制备方法。在硅基底上浇注PDMS，固化后的PDMS加工模具孔洞，沉积一层M膜，模具孔洞内浇注树脂，固化剥离后用树脂包埋得到切片用样品进行纳米切片，转移至氧化硅基底上，采用光刻工艺将M纳米线两端涂覆光刻胶保护，暴露出中间部分，置于TCNQ乙腈溶液中充分反应得到M/M‑TCNQ/M纳米线，去除两端光刻胶后再将中间部分涂覆光刻胶保护，沉积一层惰性金属膜用作引出电极，剥离中间部分光刻胶及惰性金属膜，最后进行纳米线的表征。能够高效可控地将M/M‑TCNQ肖特基结构集成于一根纳米线中，制备方法简单、加工效率高、可重复性好。
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公开(公告)号：CN113406166A
公开(公告)日：2021-09-17
申请号：CN202110672098.5
申请日：2021-06-17
IPC: G01N27/30 , G01N27/416 , G01B7/02
Abstract: 一种基于振动模式的电化学检测装置，涉及一种电化学检测装置。滑槽固定座上竖向滑动安装有滑块并且设有紧固螺栓能够紧固定位，压电促动器竖向固定在滑块上，电容固定器固定在压电促动器底部，调距环与电容固定器下端旋接配合，电容式位移传感器插装在电容固定器内部，锁紧螺钉能够锁紧定位，激振压电陶瓷环固定在调距环底部，柔性铰链夹装固定在上固定环与下固定环之间，边缘固定导电片并连接外接导线，上固定环固定在激振压电陶瓷环底部，定位螺钉安装螺母接头与柔性铰链紧固定位，纳米电极探针固定在螺母接头底部。探针逼近样品表面更加精准安全，并且电容式位移传感器与探针的间距调节方便，保证最佳使用性能。
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公开(公告)号：CN107414221B
公开(公告)日：2019-04-30
申请号：CN201710243275.1
申请日：2017-04-14
IPC: B23H5/06
Abstract: 一种三维微纳结构电化学诱导加工方法，属于微纳米结构加工领域。所述的加工方法包括如下步骤：将被加工工件固定于电化学体系中电解池底部，再将电解池固定于X‑Y方向水平位移台上；将微纳米尺寸刀具电极固定于夹具上，再将夹具固定于Z方向位移台上；向电解池中注入电解液，使电解液没过被加工工件；控制微纳米尺寸刀具电极逼近被加工材料；Z方向微动位移台设定为闭环模式，微纳米尺寸刀具电极电化电流作为其闭环信号；微纳米尺寸刀具电极在扫描运动时，根据预加工结构三维形貌实时调制刀具电极的电化学电流，最终在被加工工件表面加工出预定的三维微纳结构。本发明的加工方法属于一次成型，从而大大减少加工复杂度，提高了加工效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114473816A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202210155681.3
申请日：2022-02-21
Applicant: 厦门大学
IPC: B24B29/02 , B24B41/06 , B24B47/12 , B24B57/02 , B24B27/00 , C25F7/00 , C25F3/16 , C25F3/02 , B25J11/00 , B25J18/00 , B23H5/08
Abstract: 本申请提出了一种电解腐蚀与机械去除交替进行的电化学机械抛光装置，包括机械臂，所述机械臂的输出端设置有驱动电机，所述驱动电机的输出端设置有抛光组件，所述抛光组件包括主轴、导电导液滑环和抛光头，所述主轴的一端固定在所述驱动电机的输出端，且另一端与所述抛光头固定连接，所述导电导液滑环的转子固定在所述主轴上，所述抛光头远离所述主轴的一端开设有漏液孔；所述抛光头的下方设置有用于安装并抛光工件的抛光池，还包括导电模块和导液模块，所述导电模块用于将直流电源的正极和负极分别连接至所述工件和所述抛光头，所述导液模块用于向所述抛光头内通入电解抛光液。本申请具有能够对导电材料任意曲面工件高效、超精密抛光的效果。
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公开(公告)号：CN109869459A
公开(公告)日：2019-06-11
申请号：CN201910165711.7
申请日：2019-03-06
Applicant: 厦门大学
IPC: F16H47/02 , F16H61/437
Abstract: 一种液压自平衡均压调节装置，涉及机械液压传动。设有液压装置和传动装置，所述液压装置设有手轮、丝杠、大液压缸、五通液压缸和4个小液压缸；所述传动装置设有第一连杆、滑块、滑块导轨、第二连杆、压板推杆、推杆轴套、液体压力计和压板；所述丝杆与手轮固定连接；所述大液压缸和4个小液压缸组成五通液压缸，大液压缸和4个小液压缸与丝杠通过螺纹结构连接；所述第一连杆上端与小液压缸铰接，滑块与第一连杆下端铰接，滑块套设在固定的滑块导轨上，滑块与第二连杆上端相铰接，第二连杆下端与压板推杆上端相铰接，压板推杆套设在固定的推杆轴套内，压板推杆下端与压板铰接，五通液压缸内的液体压强由液体压力计读出。
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公开(公告)号：CN107385504B
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201710524891.4
申请日：2017-06-30
Abstract: 基于电化学约束刻蚀的阵列电极及其加工方法。本发明涉及一种基于电化学约束刻蚀的阵列电极及其加工方法。所述的主控制系统将控制信号发送给电化学工作站、阵列电极控制与运动控制系统，所述的电化学工作站、阵列电极控制与运动控制系统再将信号反馈给主控制系统。本发明用于基于电化学约束刻蚀的阵列电极。
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公开(公告)号：CN107385504A
公开(公告)日：2017-11-24
申请号：CN201710524891.4
申请日：2017-06-30
CPC classification number: C25F7/00 , B23H3/00 , B23H3/04 , B81B7/04 , B81C1/00373 , B81C2201/0185 , B81C2201/0191 , B82Y40/00 , C25F3/02
Abstract: 基于电化学约束刻蚀的阵列电极及其加工方法。本发明涉及一种基于电化学约束刻蚀的阵列电极及其加工方法。所述的主控制系统将控制信号发送给电化学工作站、阵列电极控制与运动控制系统，所述的电化学工作站、阵列电极控制与运动控制系统再将信号反馈给主控制系统。本发明用于基于电化学约束刻蚀的阵列电极。
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公开(公告)号：CN103837708A
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201210492775.6
申请日：2012-11-27
Abstract: 本发明提供了一种电化学体系中工件的水平检测装置、调平装置及调平方法。该水平检测装置包括：宏微位移平台；位移台，固设于宏微位移平台确定的X-Y平面上，可在该X-Y平面上进行位移，电解池与该位移台相对静止；探针电极，固设于宏微位移平台确定的Z方向上，其检测端浸入垂直向下进入电解池内的电解液中，距离电解池内的工件预设距离；以及电化学工作站，其工作电极连接至探针电极，其辅助电极和参比电极均连接浸入电解池内的电解液中，控制工作电极电位恒定，检测该工作电极随位移台的运动而变化的电流信号，获得电流信号曲线，由电流信号曲线的起伏幅度获知电解池内工件的倾斜程度。本发明可提高电解液中工件水平检测的精度。
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