一种基于振动模式的电化学检测装置控制系统及检测方法

    公开(公告)号:CN113406165B

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202110672096.6

    申请日:2021-06-17

    Abstract: 一种基于振动模式的电化学检测装置控制系统及检测方法,涉及一种电化学检测系统及检测方法。检测装置固定在Z向位移台上,X‑Y二维气浮平台上固定三维压电位移台,信号发生器控制激振压电陶瓷环的振动,电容式位移传感器测得激振压电陶瓷环的位移变化经电荷放大器处理后传递给锁相放大器,PID控制器将锁相放大器提取的电压幅值信号运算处理后对压电促动器进行控制,压电促动器、X‑Y二维气浮平台和三维压电位移台为上位机提供实时信号,上位机通过UMAC控制器控制Z向位移台、X‑Y二维气浮平台和三维压电位移台。探针以振动模式接近被测样品表面,减小相互作用力不易损坏,Z向闭环反馈功能保证距离恒定,检测更加准确。

    一种制备具有M/M-TCNQ肖特基结的纳米线的方法

    公开(公告)号:CN113410386B

    公开(公告)日:2023-03-14

    申请号:CN202110674069.2

    申请日:2021-06-17

    Abstract: 一种制备具有M/M‑TCNQ肖特基结的纳米线的方法,涉及一种纳米线制备方法。在硅基底上浇注PDMS,固化后的PDMS加工模具孔洞,沉积一层M膜,模具孔洞内浇注树脂,固化剥离后用树脂包埋得到切片用样品进行纳米切片,转移至氧化硅基底上,采用光刻工艺将M纳米线两端涂覆光刻胶保护,暴露出中间部分,置于TCNQ乙腈溶液中充分反应得到M/M‑TCNQ/M纳米线,去除两端光刻胶后再将中间部分涂覆光刻胶保护,沉积一层惰性金属膜用作引出电极,剥离中间部分光刻胶及惰性金属膜,最后进行纳米线的表征。能够高效可控地将M/M‑TCNQ肖特基结构集成于一根纳米线中,制备方法简单、加工效率高、可重复性好。

    一种制备具有M/M-TCNQ肖特基结的纳米线的方法

    公开(公告)号:CN113410386A

    公开(公告)日:2021-09-17

    申请号:CN202110674069.2

    申请日:2021-06-17

    Abstract: 一种制备具有M/M‑TCNQ肖特基结的纳米线的方法,涉及一种纳米线制备方法。在硅基底上浇注PDMS,固化后的PDMS加工模具孔洞,沉积一层M膜,模具孔洞内浇注树脂,固化剥离后用树脂包埋得到切片用样品进行纳米切片,转移至氧化硅基底上,采用光刻工艺将M纳米线两端涂覆光刻胶保护,暴露出中间部分,置于TCNQ乙腈溶液中充分反应得到M/M‑TCNQ/M纳米线,去除两端光刻胶后再将中间部分涂覆光刻胶保护,沉积一层惰性金属膜用作引出电极,剥离中间部分光刻胶及惰性金属膜,最后进行纳米线的表征。能够高效可控地将M/M‑TCNQ肖特基结构集成于一根纳米线中,制备方法简单、加工效率高、可重复性好。

    一种基于振动模式的电化学检测装置

    公开(公告)号:CN113406166A

    公开(公告)日:2021-09-17

    申请号:CN202110672098.5

    申请日:2021-06-17

    Abstract: 一种基于振动模式的电化学检测装置,涉及一种电化学检测装置。滑槽固定座上竖向滑动安装有滑块并且设有紧固螺栓能够紧固定位,压电促动器竖向固定在滑块上,电容固定器固定在压电促动器底部,调距环与电容固定器下端旋接配合,电容式位移传感器插装在电容固定器内部,锁紧螺钉能够锁紧定位,激振压电陶瓷环固定在调距环底部,柔性铰链夹装固定在上固定环与下固定环之间,边缘固定导电片并连接外接导线,上固定环固定在激振压电陶瓷环底部,定位螺钉安装螺母接头与柔性铰链紧固定位,纳米电极探针固定在螺母接头底部。探针逼近样品表面更加精准安全,并且电容式位移传感器与探针的间距调节方便,保证最佳使用性能。

    一种基于振动模式的电化学检测装置

    公开(公告)号:CN113406166B

    公开(公告)日:2023-08-29

    申请号:CN202110672098.5

    申请日:2021-06-17

    Abstract: 一种基于振动模式的电化学检测装置,涉及一种电化学检测装置。滑槽固定座上竖向滑动安装有滑块并且设有紧固螺栓能够紧固定位,压电促动器竖向固定在滑块上,电容固定器固定在压电促动器底部,调距环与电容固定器下端旋接配合,电容式位移传感器插装在电容固定器内部,锁紧螺钉能够锁紧定位,激振压电陶瓷环固定在调距环底部,柔性铰链夹装固定在上固定环与下固定环之间,边缘固定导电片并连接外接导线,上固定环固定在激振压电陶瓷环底部,定位螺钉安装螺母接头与柔性铰链紧固定位,纳米电极探针固定在螺母接头底部。探针逼近样品表面更加精准安全,并且电容式位移传感器与探针的间距调节方便,保证最佳使用性能。

    一种基于振动模式的电化学检测装置控制系统及检测方法

    公开(公告)号:CN113406165A

    公开(公告)日:2021-09-17

    申请号:CN202110672096.6

    申请日:2021-06-17

    Abstract: 一种基于振动模式的电化学检测装置控制系统及检测方法,涉及一种电化学检测系统及检测方法。检测装置固定在Z向位移台上,X‑Y二维气浮平台上固定三维压电位移台,信号发生器控制激振压电陶瓷环的振动,电容式位移传感器测得激振压电陶瓷环的位移变化经电荷放大器处理后传递给锁相放大器,PID控制器将锁相放大器提取的电压幅值信号运算处理后对压电促动器进行控制,压电促动器、X‑Y二维气浮平台和三维压电位移台为上位机提供实时信号,上位机通过UMAC控制器控制Z向位移台、X‑Y二维气浮平台和三维压电位移台。探针以振动模式接近被测样品表面,减小相互作用力不易损坏,Z向闭环反馈功能保证距离恒定,检测更加准确。

    一种微纳双模检测加工模块

    公开(公告)号:CN110316695B

    公开(公告)日:2022-02-08

    申请号:CN201910368975.2

    申请日:2019-05-05

    Abstract: 本发明公开了一种微纳双模检测加工模块,所述模块包括Z向压电位移台、支架、电容式位移传感器、电容固定座、调节座、锁紧支座、上固定环、PZT激振器、下固定环、测试螺钉、柔性铰链、挡环、固定螺母和探针,其中:所述电容式位移传感器固定在电容固定座;所述电容固定座固定在调节座上方;所述上固定环、PZT激振器、下固定环、测试螺钉、柔性铰链、挡环、固定螺母和探针依次固定在调节座下方;所述探针通过固定螺母和测试螺钉固定在柔性铰链上;所述调节座固定在锁紧支座;所述锁紧支座固定在支架上;所述支架固定在Z向压电位移台上。该模块具有在线检测、伺服加工功能,相比较与商业化AFM,具有更大的加工尺寸及材料适用范围。

    一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法

    公开(公告)号:CN110699653B

    公开(公告)日:2021-08-03

    申请号:CN201911046675.9

    申请日:2019-10-30

    Abstract: 一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法,属于金属薄膜制备领域。装置是:X‑Y向位移平台与密封腔盖下表面固接,密封腔盖与升降机构的升降杆固接,升降机构与密封腔外侧壁固接,圆柱形磁控溅射靶上端与X‑Y向位移平台下表面固接,下端设置在转台内,转台设置在密封腔内。方法是:步骤一:运动轨迹规划;步骤二:参数和轨迹微调;步骤三:在转台上可拆卸固定待镀零件,闭合密封腔盖,圆柱靶到达指定位置,抽真空并通入工作气体;步骤四:检测反射率,不合格回到步骤二,调整磁控溅射制备参数,再检测均匀性,不合格回到步骤一调整运动轨迹;若合格,使用当前的磁控溅射参数和运动轨迹批量生产。本发明用于多面共体反射镜的金属薄膜制备。

    一种为多面共体反射镜制备金属薄膜的异形靶

    公开(公告)号:CN110747433A

    公开(公告)日:2020-02-04

    申请号:CN201911046706.0

    申请日:2019-10-30

    Abstract: 一种为多面共体反射镜制备金属薄膜的异形靶,本发明属于金属薄膜领域。水咀座后端与支撑管一端可拆卸连接,多个永磁铁套装在支撑管上且与支撑管间隙配合,每个隔离圈均由两个半圆环体组成,每两个半圆环体扣合设置在支撑管上,每两个半圆环体设置在支撑管外壁上并扣合且互相连接,多个隔离圈和多个永磁铁依次交替设置,异形靶材中部设有空腔,异形靶材的外形为柱状,异形靶材套装在多个隔离圈及多个永磁铁外侧,水咀座后端与异形靶材前端可拆卸连接,异形靶材后端与端盖可拆卸连接。本发明的异形靶的多个溅射面与多个反射镜对应一一对应,镀制的薄膜均匀性可以保证,异形靶与多面共体反射镜之间无需运动,缩小了薄膜沉积设备内腔的体积。

    一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法

    公开(公告)号:CN110699653A

    公开(公告)日:2020-01-17

    申请号:CN201911046675.9

    申请日:2019-10-30

    Abstract: 一种适用于多面共体反射镜的金属薄膜制备装置及方法,属于金属薄膜制备领域。装置是:X-Y向位移平台与密封腔盖下表面固接,密封腔盖与升降机构的升降杆固接,升降机构与密封腔外侧壁固接,圆柱形磁控溅射靶上端与X-Y向位移平台下表面固接,下端设置在转台内,转台设置在密封腔内。方法是:步骤一:运动轨迹规划;步骤二:参数和轨迹微调;步骤三:在转台上可拆卸固定待镀零件,闭合密封腔盖,圆柱靶到达指定位置,抽真空并通入工作气体;步骤四:检测反射率,不合格回到步骤二,调整磁控溅射制备参数,再检测均匀性,不合格回到步骤一调整运动轨迹;若合格,使用当前的磁控溅射参数和运动轨迹批量生产。本发明用于多面共体反射镜的金属薄膜制备。

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