微光刻投影光学系统、工具及其制造方法

    公开(公告)号:CN101416117B

    公开(公告)日:2014-11-05

    申请号:CN200780012528.9

    申请日:2007-01-05

    CPC classification number: G03F7/702 G02B17/08 G03F1/62 G03F7/70058 G03F7/70233

    Abstract: 一种微光刻投影光学系统(1100)包括多个光学元件(1110、1120、1130、1140、1150、1160),这些元件设置为将具有波长λ的辐射从物平面(103)中的物场成像到像平面(102)中的像场。该多个光学元件(1110、1120、1130、1140、1150、1160)具有位于距物平面大于2.8m的入瞳。穿过该光学系统的辐射路径由具有相对于物平面的法线成3°或更大夹角的主光线表征。这尤其适宜使用相移掩模作为所要成像的物体,尤其适用于EUV波长。

    反射折射投影物镜
    3.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102207608B

    公开(公告)日:2013-01-02

    申请号:CN201110158145.0

    申请日:2005-01-13

    Abstract: 一种反射折射投影物镜,用于将提供在投影物镜物面中的图形成像到投影物镜的像面上,包括:第一物镜部分,将提供在物面中的图形成像为第一中间图像;第二物镜部分,将第一中间图像成像为第二中间图像;第三物镜部分,将第二中间图像成像到像面上;其中具有第一连续镜面的第一凹面镜和具有第二连续镜面的至少一个第二凹面镜布置在第二中间图像的上游;第一光瞳面形成在物面和第一中间图像之间,第二光瞳面形成在第一中间图像和第二中间图像之间,第三光瞳面形成在第二中间图像和像面之间;在第一物镜部分中第一光瞳面附近放置至少一个具有基本平行板表面的板,其中至少一个板表面被非球面化用于校正像差。

    反射折射投影物镜
    5.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102207608A

    公开(公告)日:2011-10-05

    申请号:CN201110158145.0

    申请日:2005-01-13

    Abstract: 一种反射折射投影物镜,用于将提供在投影物镜物面中的图形成像到投影物镜的像面上,包括:第一物镜部分,将提供在物面中的图形成像为第一中间图像;第二物镜部分,将第一中间图像成像为第二中间图像;第三物镜部分,将第二中间图像成像到像面上;其中具有第一连续镜面的第一凹面镜和具有第二连续镜面的至少一个第二凹面镜布置在第二中间图像的上游;第一光瞳面形成在物面和第一中间图像之间,第二光瞳面形成在第一中间图像和第二中间图像之间,第三光瞳面形成在第二中间图像和像面之间;在第一物镜部分中第一光瞳面附近放置至少一个具有基本平行板表面的板,其中至少一个板表面被非球面化用于校正像差。

    反射折射投影物镜
    7.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1910494B

    公开(公告)日:2011-08-10

    申请号:CN200580002499.9

    申请日:2005-01-13

    Abstract: 一种反射折射投影物镜(200),用于将提供在投影物镜的物面(201)中的图形成像在投影物镜的像面(202)上,包括:第一物镜部分(210),用于将提供在物面中的图形成像为第一中间图像;第二物镜部分(220),用于将第一中间图像成像为第二中间图像;第三物镜部分(230),用于将第二中间图像直接成像到像面上;其中具有第一连续镜面的第一凹面镜(221)和具有第二连续镜面的至少一个第二凹面镜(222)布置在第二中间图像的上游;光瞳面形成在物面和第一中间图像之间,形成在第一和第二中间图像之间,并且形成在第二中间图像和像面之间;所有凹面镜布置成光学远离光瞳面。该系统在适度透镜材料物质消耗的情况下具有非常高的数值孔径。

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