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公开(公告)号：CN116666291B
公开(公告)日：2023-10-31
申请号：CN202310947006.9
申请日：2023-07-31
Applicant: 南昌大学
Abstract: 本发明提供了一种掩模预对准控制系统及方法，包括：粗调光源和精调光源，两光源分别发出不同光斑大小的准直光束通过合束光学元件形成同轴光束经过掩模预对准光机单元；掩模预对准光机单元，包括掩模预对准光路、掩模板和掩模位置调整运动单元、以及光束整形透镜组；多电极热电薄膜位置分析单元，根据不同光斑大小及位置的光束照射在多电极热电薄膜上，产生热电子扩散而形成多个电极上电压值组成的向量计算光斑位置；信号处理与控制单元，对所述光斑位置进行计算，并对光源和掩模位置调整运动单元进行控制，实现粗调和精调的控制。本发明采用粗调和精调模式，以及多电极大面积热电薄膜位置智能定位方法，大大提升了光刻机的良品率。
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公开(公告)号：CN116666291A
公开(公告)日：2023-08-29
申请号：CN202310947006.9
申请日：2023-07-31
Applicant: 南昌大学
Abstract: 本发明提供了一种掩模预对准控制系统及方法，包括：粗调光源和精调光源，两光源分别发出不同光斑大小的准直光束通过合束光学元件形成同轴光束经过掩模预对准光机单元；掩模预对准光机单元，包括掩模预对准光路、掩模板和掩模位置调整运动单元、以及光束整形透镜组；多电极热电薄膜位置分析单元，根据不同光斑大小及位置的光束照射在多电极热电薄膜上，产生热电子扩散而形成多个电极上电压值组成的向量计算光斑位置；信号处理与控制单元，对所述光斑位置进行计算，并对光源和掩模位置调整运动单元进行控制，实现粗调和精调的控制。本发明采用粗调和精调模式，以及多电极大面积热电薄膜位置智能定位方法，大大提升了光刻机的良品率。
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