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公开(公告)号:CN110690322B
公开(公告)日:2021-09-24
申请号:CN201910939440.6
申请日:2019-09-30
Applicant: 南开大学
IPC: H01L31/18 , H01L31/028 , H01L31/0288 , H01L31/09
Abstract: 本发明涉及一种自支撑高增益柔性硅基光电探测器的制备方法,通过化学腐蚀对单晶硅进行减薄使之具有柔韧性,并在柔性单晶硅表面制备具有准周期微锥结构的过饱和掺杂层,以此形成柔性黑硅。再经过退火处理激活黑硅层中的掺杂元素,极大提高了柔性单晶硅的吸收率并拓展了其光谱吸收范围。该柔性硅基光电探测器工作在反偏电压下,吸收光子产生光生电子‑空穴对,在外电场作用下分离,最终被电极收集后形成光电流,从而实现了光探测。本发明具有工艺简单,原材料易获取,易操控等优点,本发明所制备的柔性硅基光电探测器一方面实现了自支撑,另一方面实现了低偏压下高增益及宽谱的特性,并克服了有机柔性光电探测器响应时间较长的缺点。
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公开(公告)号:CN112091418A
公开(公告)日:2020-12-18
申请号:CN202010945697.5
申请日:2020-09-10
Applicant: 南开大学
IPC: B23K26/0622 , B23K26/082 , B23K26/122 , B23K26/14 , B23K26/70
Abstract: 本发明公开了一种宽禁带半导体表面深亚波长周期性条纹的制备方法。其是通过在宽禁带半导体材料表面预镀金属膜的方式辅助飞秒激光加工在辐照区域形成深亚波长周期条纹结构。利用金属/宽禁带半导体的复合结构,在飞秒激光辐照过程中,可以大大增强材料对入射光能量的吸收,提高飞秒激光与宽禁带材料的相互作用效率。该方法降低材料烧蚀阈值效果明显,形成的深亚波长条纹周期精细。本发明还具有工艺简单、适用性广、灵活性强等优点。通过对飞秒激光能流、脉冲数、加工区域图案设计可以实现宽禁带半导体上不同形状及不同空间周期的深亚波长条纹。
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公开(公告)号:CN110690322A
公开(公告)日:2020-01-14
申请号:CN201910939440.6
申请日:2019-09-30
Applicant: 南开大学
IPC: H01L31/18 , H01L31/028 , H01L31/0288 , H01L31/09
Abstract: 本发明涉及一种自支撑高增益柔性硅基光电探测器的制备方法,通过化学腐蚀对单晶硅进行减薄使之具有柔韧性,并在柔性单晶硅表面制备具有准周期微锥结构的过饱和掺杂层,以此形成柔性黑硅。再经过退火处理激活黑硅层中的掺杂元素,极大提高了柔性单晶硅的吸收率并拓展了其光谱吸收范围。该柔性硅基光电探测器工作在反偏电压下,吸收光子产生光生电子-空穴对,在外电场作用下分离,最终被电极收集后形成光电流,从而实现了光探测。本发明具有工艺简单,原材料易获取,易操控等优点,本发明所制备的柔性硅基光电探测器一方面实现了自支撑,另一方面实现了低偏压下高增益及宽谱的特性,并克服了有机柔性光电探测器响应时间较长的缺点。
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