一种延长单晶炉真空泵寿命的装置

    公开(公告)号:CN101709504B

    公开(公告)日:2012-06-06

    申请号:CN200910111784.4

    申请日:2009-05-11

    Abstract: 本发明涉及一种延长单晶炉真空泵寿命的装置。该装置包括一过滤器腔体,一位于腔体顶部的过滤器盖,一位于过滤器中央的进气管道,一位于过滤器腔体侧面的排气管道,其特征在于:所述的过滤器腔体内底部有一有机硅油层,有机硅油层上方有一滤网,所述的进气管道出口位于所述的有机硅油层与滤网之间。当气流携带各种杂质从炉室离开进入真空泵之前,先经油过滤器将杂质过滤,就不会危害到真空泵油,也就相应提高了真空泵的使用寿命。

    一种减少多晶硅铸锭应力的方法和装置

    公开(公告)号:CN101660209B

    公开(公告)日:2012-05-30

    申请号:CN200910112125.2

    申请日:2009-06-25

    Abstract: 本发明涉及一种减少多晶硅铸锭应力的方法和装置,该方法包括将多晶硅铸锭从炉室中取出后,立即放置于一个与多晶硅锭形状匹配的保温装置内,自然放置3天~30天后取出;取出后立即去除边皮,并破成标准方锭保存。该装置包括一保温罩及一手车,所述的保温罩为六面体结构。使用本发明的方法和装置,使多晶硅铸锭均匀冷却,则其几乎不会产生热应力;冷却后取出多晶硅锭,并立即将杂质较为集中的边皮去掉,则减少了杂质导致的应力集中,避免杂质存在时导致的顶部开裂。

    一种液相外延法制取薄膜的装置

    公开(公告)号:CN101760777A

    公开(公告)日:2010-06-30

    申请号:CN200910111540.6

    申请日:2009-04-17

    Abstract: 一种液相外延法制取薄膜的装置,涉及一种外延生长设备。其包括:一阀室,阀室内装有一升降旋转轴;一炉室,位于阀室的下方;一坩埚,位于炉室内;一用来加热所述坩埚内原料的加热装置;其特征在于:还包括一石墨花篮,所述的石墨花篮位于炉体内,可在阀室内及炉室内上下运动,石墨花篮上端与升降旋转轴可拆卸连接。本发明可一次装入多片衬底片于花篮的上下夹板之间,可一次性生产多个外延片;花篮可随着升降旋转轴旋转,使衬底片周围各处溶液浓度均匀,消除了温度场不均匀带来的生长差异,生长出来的外延片厚度均匀。

    一种减少单晶棒内应力的方法和装置

    公开(公告)号:CN101713100A

    公开(公告)日:2010-05-26

    申请号:CN200910111786.3

    申请日:2009-05-11

    Abstract: 本发明涉及一种减少单晶棒内应力的方法和装置。该方法包括将温度为200~300℃的单晶棒从炉室中取出后,立即装入一种保温装置,该单晶棒置于该保温装置中自然冷却至室温。该装置包括一个圆筒体及一手车,所述的圆筒体内表面具一保温层。依靠本发明装置的保温效果,通过热时效就可以很好的去除单晶棒的残余内应力,从而减少切片时碎片造成的损失。

    一种单晶炉热场的排气方法和装置

    公开(公告)号:CN101709506A

    公开(公告)日:2010-05-19

    申请号:CN200910111785.9

    申请日:2009-05-11

    Abstract: 本发明涉及一种单晶炉热场的排气方法和装置,其在单晶炉热场的上保温罩开上排气口,使气流由上排气口流出,经过保温罩与炉壁之间的间隙进入抽气管道,由真空泵抽离;本发明装置包括炉壁、石墨坩埚、石英坩埚、加热器、保温罩、导流筒,其特征在于:保温罩包括上保温罩、主保温罩及下保温罩,上保温罩上开设有上排气口,所述的炉壁和保温罩之间留有间隙。本发明热场中的排气气流通道,由于不经过底部加热器,故不会造成热量的无意义损耗,较原有下排气热场更加节能,同时提高生产效率。

Patent Agency Ranking