三维多层波导模式复用和解复用器及制备方法

    公开(公告)号:CN108761637A

    公开(公告)日:2018-11-06

    申请号:CN201810606332.2

    申请日:2018-06-12

    CPC classification number: G02B6/12007 G02B6/12002 G02B6/132 G02B6/138

    Abstract: 本发明涉及三维多层波导模式复用和解复用器及制备方法,属于光通信器件技术领域,具体针对模分复用系统。本发明通过三维多层波导集成结构,突破传统二维平面波导结构限制,增加器件集成维度,提高器件集成度和灵活性,从而进一步提高系统通信容量。通过三维波导的上下两层波导任意一侧边界对齐,实现基模与高阶模直接立体耦合,克服传统三维模式复用器无法实现模式直接耦合的缺陷,简化器件结构及复杂度。本发明可基于成熟的CMOS工艺制备,实现高效率、低成本与批量化制造;本发明,可实现模式立体灵活耦合,为片上模式复用技术打下良好基础,可进一步实现应用于模分复用网络的灵活模式路由。

    三维多层波导模式复用和解复用器及制备方法

    公开(公告)号:CN108761637B

    公开(公告)日:2024-01-23

    申请号:CN201810606332.2

    申请日:2018-06-12

    Abstract: 本发明涉及三维多层波导模式复用和解复用器及制备方法,属于光通信器件技术领域,具体针对模分复用系统。本发明通过三维多层波导集成结构,突破传统二维平面波导结构限制,增加器件集成维度,提高器件集成度和灵活性,从而进一步提高系统通信容量。通过三维波导的上下两层波导任意一侧边界对齐,实现基模与高阶模直接立体耦合,克服传统三维模式复用器无法实现模式直接耦合的缺陷,简化器件结构及复杂度。本发明可基于成熟的CMOS工艺制备,实现高效率、低成本与批量化制造;本发明,可实现模式立体灵活耦合,为片上模式复用技术打下良好基础,可进一步实现应用于模分复用网络的灵活模式路由。

    立体硅基模式复用器与解复用器

    公开(公告)号:CN208459627U

    公开(公告)日:2019-02-01

    申请号:CN201820912449.9

    申请日:2018-06-12

    Abstract: 本实用新型涉及立体硅基模式复用器与解复用器,包括:衬底层,在衬底层上设有下包层,在下包层上设有下层波导,在下层波导上铺设有中间隔离层,在中间隔离层上设有上层波导,在上层波导上覆盖有上覆盖层,下层波导的任意一侧边界和上层波导的任意一侧边界对齐,且下层波导和上层波导的波导宽度中心错位大于0小于5μm。本实用新型通过三维多层波导集成结构,突破传统二维平面波导结构限制,增加器件集成维度,提高器件集成度和灵活性,从而进一步提高系统通信容量。通过三维波导的上下两层波导任意一侧边界对齐,实现基模与高阶模直接立体耦合,克服传统三维模式复用器无法实现模式直接耦合的缺陷,简化器件结构及复杂度。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

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