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公开(公告)号：CN112018236A
公开(公告)日：2020-12-01
申请号：CN202010742267.3
申请日：2020-07-29
Applicant: 南京邮电大学
IPC: H01L45/00
Abstract: 本发明公开了一种基于PZT的忆阻器件，设置在衬底上，忆阻器件包括从上至下依次排列的顶电极、阻变层和底电极，且阻变层、底电极与衬底的形状、尺寸一一匹配；阻变层为铁电材料PZT层，顶电极为活性金属层，底电极为惰性金属层；顶电极通过掩膜板的开孔溅射在阻变层的顶部，底电极的顶部、底部分别与介质层、衬底相触接，本发明导电性和稳定性佳，阻态更稳定，具有明显的人脑突触特性，可用于多值存储、类脑系统构建，具有广阔的应用前景。
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