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公开(公告)号：CN101514445B
公开(公告)日：2010-08-18
申请号：CN200910029305.4
申请日：2009-04-08
Applicant: 南京航空航天大学
Abstract: 本发明针对现有热丝法沉积金刚石膜工艺中采用的电极只能在衬底上单面沉积金刚石膜且效率较低的问题，公开了一种基于热丝法的制备双面金刚石涂层的装置，它主要包由电极机构、进气机构、预紧力调节机构、测温机构、衬底机构组成。它实现了在不改变衬底大小的情况下，能同时沉积更多的工件，且一次沉积能在工件两面形成均匀稳定的金刚石膜，大大提高了金刚石膜的制备效率。同时通过测温机构与预紧力调节机构实现了多点测温与反应过程中的预紧力实时调节，为高效制备金刚石膜提供了保障。
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公开(公告)号：CN101514445A
公开(公告)日：2009-08-26
申请号：CN200910029305.4
申请日：2009-04-08
Applicant: 南京航空航天大学
Abstract: 本发明针对现有热丝法沉积金刚石膜工艺中采用的电极只能在衬底上单面沉积金刚石膜且效率较低的问题，公开了一种基于热丝法的制备双面金刚石涂层的装置，它主要包由电极机构、进气机构、预紧力调节机构、测温机构、衬底机构组成。它实现了在不改变衬底大小的情况下，能同时沉积更多的工件，且一次沉积能在工件两面形成均匀稳定的金刚石膜，大大提高了金刚石膜的制备效率。同时通过测温机构与预紧力调节机构实现了多点测温与反应过程中的预紧力实时调节，为高效制备金刚石膜提供了保障。
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公开(公告)号：CN100453696C
公开(公告)日：2009-01-21
申请号：CN200710019898.7
申请日：2007-02-01
Applicant: 南京航空航天大学
Abstract: 本发明针对现有的金刚石膜制备装置不能连续制备CVD金刚石膜而造成的效率低、灯丝损耗大、所需的辅助时间多、制备成本高的问题，公开了一种CVD金刚石膜连续制备系统，它主要由包括沉积装置、过渡装置和装卸装置组成，它利用装置实现在沉积腔工作条件不变前提下的衬底更换实现连接沉积生产。既保证了碳化后的灯丝不再断裂，可以连续使用，大大降低灯丝消耗，又减少了重新安装灯丝、抽真空、碳化灯丝、真空室充气等辅助时间，实现了CVD金刚石膜的连续制备，大大提高了金刚石膜的制备效率，降低了金刚石膜的制造成本。
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公开(公告)号：CN101008082A
公开(公告)日：2007-08-01
申请号：CN200710019898.7
申请日：2007-02-01
Applicant: 南京航空航天大学
Abstract: 本发明针对现有的金刚石膜制备装置不能连续制备CVD金刚石膜而造成的效率低、灯丝损耗大、所需的辅助时间多、制备成本高的问题，公开了一种CVD金刚石膜连续制备系统，它主要由包括沉积装置、过渡装置和装卸装置组成，它利用装置实现在沉积腔工作条件不变前提下的衬底更换实现连接沉积生产。既保证了碳化后的灯丝不再断裂，可以连续使用，大大降低灯丝消耗，又减少了重新安装灯丝、抽真空、碳化灯丝、真空室充气等辅助时间，实现了CVD金刚石膜的连续制备，大大提高了金刚石膜的制备效率，降低了金刚石膜的制造成本。
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