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公开(公告)号：CN110746642B
公开(公告)日：2022-03-18
申请号：CN201911009183.2
申请日：2019-10-21
Applicant: 南京理工大学
IPC: C08J9/40 , C08J9/26 , C08J3/075 , C08F220/06 , C08F220/58 , C08F222/38 , C08K3/04 , C08K3/34 , C08L33/02 , C08L33/24
Abstract: 本发明公开一种电响应型三维碳纳米管富集导电双网络聚合物水凝胶的制备方法。本发明制备方法依次包括以下步骤：第一步，采用碳纳米管水性浆料得到碳纳米管负载泡沫镍；第二步，制备含钠碳纳米管水性浆料的水凝胶前驱体母液A；第三步，使水凝胶前驱体母液A充满碳纳米管负载泡沫镍后加热聚合；第四步，采用无机酸中刻蚀掉泡沫镍；第五步，制备含钠碳纳米管水性浆料的水凝胶前驱体母液B；第六步，使水凝胶前驱体母液B充满刻蚀掉泡沫镍的水凝胶后加热聚合，得到电响应型三维碳纳米管富集导电双网络聚合物水凝胶。本发明采用的单体为丙烯酸和2‑丙烯酰胺基‑2‑甲基丙磺酸。本发明制备方法简单，聚合物水凝胶电响应速度快，可用作人工肌肉。
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公开(公告)号：CN103144036B
公开(公告)日：2015-07-22
申请号：CN201210591550.6
申请日：2012-12-31
Applicant: 南京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种环抛阶段磨削量在线监测装置以及在线监测方法，包括白光光源[1]、准直镜[2]、起偏器[3]、普通分光镜[4]、宽光谱偏振分光棱镜[5]、色散补偿镜[6]、参考反射镜[7]，检偏器[8]、CCD[9]和显示屏[10]；方法为：a)标定磨削量在线监测装置；将磨削量在线装置中的白光光源换成波长已知的单色光LED，根据条纹间距以及显示屏[10]上标注的刻度尺上的读数确定条纹偏移量以及光程变化量之间的比例系数C，由该比例系数确定刻度尺上读出的白光条纹偏移量与实际磨削量的关系；b)实测磨削量：将磨削量在线装置中的单色光LED换成白光光源，旋转起偏器[3]调节测试光与参考光相对光强；环抛过程中监测白光中心条纹偏移量，直至磨削量达到要求为止。依据本发明所述装置以及所述方法可实现磨削量的在线监测。
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公开(公告)号：CN102507020B
公开(公告)日：2013-05-08
申请号：CN201110338856.6
申请日：2011-11-01
Applicant: 南京理工大学
IPC: G01J9/02
Abstract: 本发明提供一种使用微透镜阵列的同步移相干涉测试方法及装置，涉及光干涉计量测试领域，方法步骤为：首先，在泰曼式干涉测试光路中得到一对偏振方向正交的参考光与测试光；其次，使用微透镜阵列，利用波前分割的方法进行移相，光干涉信号被探测器接收，最后，对探测器得到的数据进行重新排列得到四幅移相干涉图，利用通用的四步移相算法即可恢复被测相位；本发明得到的四幅移相干涉图相对空间位置关系已知且唯一，不会产生位置匹配误差，且成本较低。
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公开(公告)号：CN110746642A
公开(公告)日：2020-02-04
申请号：CN201911009183.2
申请日：2019-10-21
Applicant: 南京理工大学
IPC: C08J9/40 , C08J9/26 , C08J3/075 , C08F220/06 , C08F220/58 , C08F222/38 , C08K3/04 , C08K3/34 , C08L33/02 , C08L33/24
Abstract: 本发明公开一种电响应型三维碳纳米管富集导电双网络聚合物水凝胶的制备方法。本发明制备方法依次包括以下步骤：第一步，采用碳纳米管水性浆料得到碳纳米管负载泡沫镍；第二步，制备含钠碳纳米管水性浆料的水凝胶前驱体母液A；第三步，使水凝胶前驱体母液A充满碳纳米管负载泡沫镍后加热聚合；第四步，采用无机酸中刻蚀掉泡沫镍；第五步，制备含钠碳纳米管水性浆料的水凝胶前驱体母液B；第六步，使水凝胶前驱体母液B充满刻蚀掉泡沫镍的水凝胶后加热聚合，得到电响应型三维碳纳米管富集导电双网络聚合物水凝胶。本发明采用的单体为丙烯酸和2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸。本发明制备方法简单，聚合物水凝胶电响应速度快，可用作人工肌肉。
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公开(公告)号：CN106552616A
公开(公告)日：2017-04-05
申请号：CN201611047939.9
申请日：2016-11-25
Applicant: 南京理工大学
CPC classification number: B01J27/19 , B01D53/8628 , B01D53/9413 , B01D2258/012 , B01D2258/0283 , B01J23/30 , B01J27/188
Abstract: 本发明公开一种用于氮氧化物催化净化的多酸吸附型铈基氧化物催化剂及其制备方法。所述催化剂是通过在制备过程中对多酸进行吸附形成的均匀吸附多酸的铈基氧化物催化剂，即HPA/CeOx催化剂。本发明采用无毒无害的原料，通过简单易行的方法制备出具有优异的催化活性、N2生成选择性高、耐高温热稳定性以及能适应高空速反应条件等特点的多酸吸附型铈基氧化物催化剂，可以适用于以燃煤电厂烟气为代表的固定源和以柴油车尾气为代表的移动源的氮氧化物催化净化装置。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103557948B
公开(公告)日：2016-03-02
申请号：CN201310441895.8
申请日：2013-09-25
Applicant: 南京理工大学
IPC: G01J9/02
Abstract: 本发明公开了一种基于圆载频相位解调法的光学系统波前测量装置及方法。该装置包括沿光路方向依次共轴设置的激光器、扩束器、空间滤波器、待测光学系统、点衍射板和CCD相机，其中空间滤波器设置于扩束器的焦点，点衍射板设置于待测光学系统的出射波面汇聚点；所述点衍射板包括针孔和针孔外围部分，并且针孔外围部分镀有高反射膜层。测量方法为：利用点衍射板针孔衍射效应生成的理想波面作参考波前，将点衍射板沿光轴方向移动形成圆载频干涉图，再使用四相位拼接法直接求解圆载频干涉图中的原始相位，即待测光学系统的波前。该方法采用很少的元器件实现了光学系统出射波前的测量，操作简单且精度高，并且能够满足瞬态测量的要求。
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公开(公告)号：CN103557948A
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201310441895.8
申请日：2013-09-25
Applicant: 南京理工大学
IPC: G01J9/02
Abstract: 本发明公开了一种基于圆载频相位解调法的光学系统波前测量装置及方法。该装置包括沿光路方向依次共轴设置的激光器、扩束器、空间滤波器、待测光学系统、点衍射板和CCD相机，其中空间滤波器设置于扩束器的焦点，点衍射板设置于待测光学系统的出射波面汇聚点；所述点衍射板包括针孔和针孔外围部分，并且针孔外围部分镀有高反射膜层。测量方法为：利用点衍射板针孔衍射效应生成的理想波面作参考波前，将点衍射板沿光轴方向移动形成圆载频干涉图，再使用四相位拼接法直接求解圆载频干涉图中的原始相位，即待测光学系统的波前。该方法采用很少的元器件实现了光学系统出射波前的测量，操作简单且精度高，并且能够满足瞬态测量的要求。
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公开(公告)号：CN103077834A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN201310017823.0
申请日：2013-01-18
Applicant: 南京理工大学
CPC classification number: Y02E60/13
Abstract: 本发明涉及一种工作电压为1.6V的基于水系中性电解液的不对称超级电容器及其制备方法。本发明的不对称超级电容器的正极活性材料采用二氧化锰纳米片或二氧化锰纳米片/碳纳米管复合材料，负极活性材料采用铁酸锰纳米颗粒或铁酸锰纳米颗粒/石墨烯复合材料，超级电容器电解液采用水系中性硫酸钠溶液，封装组成超级电容器，其具有高的比电容和能量密度，优越的倍率性能和循环性能。
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公开(公告)号：CN102175332B
公开(公告)日：2012-06-06
申请号：CN201110023740.3
申请日：2011-01-21
Applicant: 南京理工大学
Abstract: 本发明提供一种从含有移相误差的干涉图中恢复相位的方法。本发明使用通用的移相干涉仪测试被测件，在干涉图中引入线性载频，操作干涉仪采集到一组移相干涉图；对移相干涉图上的数据进行重新排列得到一幅新图像并对其进行快速傅里叶变换得到其频谱，之后对频谱进行滤波，即得到相位谱并排除了误差。对相位谱进行反傅里叶变换后，通过反正切计算和解包裹运算得到扩展的恢复相位，将扩展相位恢复到原始大小后，即可以得到被测相位。本发明从少量（例如四幅）移相干涉图中即能够排除移相量误差造成的影响，恢复出准确的被测相位，以实现在非理想的测试环境和仪器条件下提升移相干涉仪测量精度的目的。
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公开(公告)号：CN102175332A
公开(公告)日：2011-09-07
申请号：CN201110023740.3
申请日：2011-01-21
Applicant: 南京理工大学
Abstract: 本发明提供一种从含有移相误差的干涉图中恢复相位的方法。本发明使用通用的移相干涉仪测试被测件，在干涉图中引入线性载频，操作干涉仪采集到一组移相干涉图；对移相干涉图上的数据进行重新排列得到一幅新图像并对其进行快速傅里叶变换得到其频谱，之后对频谱进行滤波，即得到相位谱并排除了误差。对相位谱进行反傅里叶变换后，通过反正切计算和解包裹运算得到扩展的恢复相位，将扩展相位恢复到原始大小后，即可以得到被测相位。本发明从少量（例如四幅）移相干涉图中即能够排除移相量误差造成的影响，恢复出准确的被测相位，以实现在非理想的测试环境和仪器条件下提升移相干涉仪测量精度的目的。
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