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公开(公告)号：CN103721576B
公开(公告)日：2016-10-26
申请号：CN201310713960.8
申请日：2013-12-20
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明涉及一种钯膜的制备方法，其特征在于：采用化学镀法在多孔基体表面沉积一层钯或钯合金膜，将制备的钯膜在一定正压的惰性气氛中烧结，促使微纳尺度钯晶粒重排，使处于晶界相交处的闭孔及晶粒内部孤立的微孔致密，再通过化学修补对剩余的缺陷进行填补。该法可制备出膜层致密、均匀，使用寿命长，透氢性高的钯膜。
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公开(公告)号：CN103585897A
公开(公告)日：2014-02-19
申请号：CN201310606646.X
申请日：2013-11-27
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明公开了一种多通道型陶瓷／金属复合膜及其制备方法。该膜以多通道型多孔金属材料为支撑体，通道内表面负载微孔陶瓷层。该膜的制备方法为：将含有陶瓷粒子的悬浮液涂覆于刚性内芯(1)上并进行干燥，将(1)与弹性封套(2)、弹性封头(3)组合，并将金属粉末充满(1)和(2)间的空隙，安上弹性封头(4)后进行冷等静压成型，最后卸去(1)、(2)、(3)、(4)，将坯体置于保护性气氛下进行高温处理。该法具有简便、高效、节能、低成本的优点。
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公开(公告)号：CN101721921B
公开(公告)日：2013-07-03
申请号：CN200910264172.9
申请日：2009-12-30
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明涉及一种多孔金属膜的制备方法。先将多孔金属基材的表面孔用填充剂封堵，然后进行金属粉末涂层，并通过热处理除去填充剂及涂层中的有机添加剂，最后将金属粉末涂层高温烧结即可制得金属膜。本方法可直接在大孔基材上制备金属膜而无需过渡层，有效避免了金属粉末对基材孔道的堵塞。本方法不仅生产工艺简单，而且膜层均匀、传质阻力低。
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公开(公告)号：CN102162094B
公开(公告)日：2013-06-12
申请号：CN201110118605.7
申请日：2011-05-10
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 一种制备钯或钯合金膜的循环化学镀工艺，其特征在于：基体表面进行活化处理后，再将非活化侧形成封闭空间，基体浸入钯镀液中，通过蠕动泵使钯镀液由活化侧经基体孔道向非活化侧循环传质，同时使封闭空间保持负压状态，直至达到所需的膜厚，洗涤、干燥后制得钯膜；所述的钯膜在其表面继续化学镀，沉积至少一种其它金属，经合金化处理后制得钯合金膜。本发明装置简单、易操作，可满足含有局部大孔缺陷的普通基体的镀膜需要，所制备的钯及钯合金膜具有厚度薄、缺陷少和附着力强等优点。
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公开(公告)号：CN102154635A
公开(公告)日：2011-08-17
申请号：CN201110044210.7
申请日：2011-02-24
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明涉及一种多孔不锈钢负载型钯或钯合金膜的制备工艺。首先用铅笔芯修饰基体表面并形成石墨层，使用前将铅笔芯煅烧；将基体放入酸性钯盐溶液中，则石墨层上即可自发地沉积一层钯微粒，其原理是：多孔不锈钢基体为阳极、石墨为阴极、酸性钯盐溶液为电解质溶液构成了原电池，并引起了原电池反应；最后，以这些钯微粒为催化剂，通过化学镀法制备钯或钯合金膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101721921A
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200910264172.9
申请日：2009-12-30
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明涉及一种多孔金属膜的制备方法。先将多孔金属基材的表面孔用填充剂封堵，然后进行金属粉末涂层，并通过热处理除去填充剂及涂层中的有机添加剂，最后将金属粉末涂层高温烧结即可制得金属膜。本方法可直接在大孔基材上制备金属膜而无需过渡层，有效避免了金属粉末对基材孔道的堵塞。本方法不仅生产工艺简单，而且膜层均匀、传质阻力低。
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公开(公告)号：CN103638821A
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201310721809.9
申请日：2013-12-23
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明涉及一种钯复合膜缺陷修补技术，通过气相反应使SiO2在膜缺陷处沉积，进而实现对组件中的钯膜直接进行原位修补，而无需拆卸组件，为膜在使用过程中产生的缺陷提供了修补方案。本发明的具体技术方案为：将膜组件置于高温炉内，将硅源通入组件内钯复合膜的膜侧，硅源蒸气占据膜缺陷处，再向组件内的钯复合膜的基体侧通入氧化性气体，氧化性气体在浓度差的驱使下向缺陷处移动，并与硅源蒸气接触，快速反应生成固体颗粒沉积在缺陷处，达到修补的目的。本发明解决了对于膜在使用过程中产生的缺陷的修补问题，可极大地延长膜使用寿命，实用性更广，操作方便。
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公开(公告)号：CN103252170A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201310130644.8
申请日：2013-04-16
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明涉及一种基体材料及其制备工艺，其特征在于：首先，制备混有胶体粒子及陶瓷颗粒的修饰液；其次，通过抽负压方式，修饰颗粒填充在大孔支撑体表面孔道中，去除表面沉积层，使支撑体表面裸露出来，干燥、焙烧后制得多孔陶瓷基体材料。经该工艺制备的基体材料适用于制备高性能气体分离膜。该工艺缩减了大孔支撑体表面孔孔径；保留了支撑体的表面粗糙度，提高负载型气体分离膜的附着力；降低了制备负载型气体分离膜的综合成本。另外本发明还具有工艺简单，操作方便，操作周期短等优势，利于相应分离膜的大规模产业化发展。
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公开(公告)号：CN103585897B
公开(公告)日：2016-02-24
申请号：CN201310606646.X
申请日：2013-11-27
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明公开了一种多通道型陶瓷/金属复合膜及其制备方法。该膜以多通道型多孔金属材料为支撑体，通道内表面负载微孔陶瓷膜。该膜的制备方法为：将含有陶瓷粒子的悬浮液涂覆于刚性内芯(1)上并进行干燥；将刚性内芯(1)、弹性封套(2)和第一弹性封头(3)组合，并将金属粉末充满刚性内芯(1)和弹性封套(2)的空隙，安上第二弹性封头(4)后进行冷等静压成型，最后卸去刚性内芯(1)、弹性封套(2)、第一弹性封头(3)、第二弹性封头(4)，将坯体置于保护性气氛下进行高温处理。该法具有简便、高效、节能、低成本的优点。
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公开(公告)号：CN103252170B
公开(公告)日：2015-12-09
申请号：CN201310130644.8
申请日：2013-04-16
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明涉及一种基体材料及其制备工艺，其特征在于：首先，制备混有胶体粒子及陶瓷颗粒的修饰液；其次，通过抽负压方式，修饰颗粒填充在大孔支撑体表面孔道中，去除表面沉积层，使支撑体表面裸露出来，干燥、焙烧后制得多孔陶瓷基体材料。经该工艺制备的基体材料适用于制备高性能气体分离膜。该工艺缩减了大孔支撑体表面孔孔径；保留了支撑体的表面粗糙度，提高负载型气体分离膜的附着力；降低了制备负载型气体分离膜的综合成本。另外本发明还具有工艺简单，操作方便，操作周期短等优势，利于相应分离膜的大规模产业化发展。
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