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公开(公告)号：CN102963868B
公开(公告)日：2017-01-04
申请号：CN201210485186.5
申请日：2012-11-26
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明涉及一种氢气分离器，由防爆电磁控制阀、分离组件、换热器、质量流量控制、真空泵、单向阀、压力传感器等及电气控制系统组成。其中电气控制系统控制阀门和真空泵的开关及质量流量控制器的设置以实现分离器不同状况下的操作，并提供了分离组件性能的检测技术方案，甚至于断电情况下可自动启动保护措施，避免因氢脆而导致分离组件损坏。其中换热器通过原料氢与高纯氢换热为原料氢预热。其中真空泵于在升温和降温过程中将整个体系中的气体抽除，以防止分离组件中钯复合膜因空气或氢气的存在而发生氧化或氢脆，延长其使用寿命。
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公开(公告)号：CN103638821A
公开(公告)日：2014-03-19
申请号：CN201310721809.9
申请日：2013-12-23
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明涉及一种钯复合膜缺陷修补技术，通过气相反应使SiO2在膜缺陷处沉积，进而实现对组件中的钯膜直接进行原位修补，而无需拆卸组件，为膜在使用过程中产生的缺陷提供了修补方案。本发明的具体技术方案为：将膜组件置于高温炉内，将硅源通入组件内钯复合膜的膜侧，硅源蒸气占据膜缺陷处，再向组件内的钯复合膜的基体侧通入氧化性气体，氧化性气体在浓度差的驱使下向缺陷处移动，并与硅源蒸气接触，快速反应生成固体颗粒沉积在缺陷处，达到修补的目的。本发明解决了对于膜在使用过程中产生的缺陷的修补问题，可极大地延长膜使用寿命，实用性更广，操作方便。
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公开(公告)号：CN103252170A
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN201310130644.8
申请日：2013-04-16
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明涉及一种基体材料及其制备工艺，其特征在于：首先，制备混有胶体粒子及陶瓷颗粒的修饰液；其次，通过抽负压方式，修饰颗粒填充在大孔支撑体表面孔道中，去除表面沉积层，使支撑体表面裸露出来，干燥、焙烧后制得多孔陶瓷基体材料。经该工艺制备的基体材料适用于制备高性能气体分离膜。该工艺缩减了大孔支撑体表面孔孔径；保留了支撑体的表面粗糙度，提高负载型气体分离膜的附着力；降低了制备负载型气体分离膜的综合成本。另外本发明还具有工艺简单，操作方便，操作周期短等优势，利于相应分离膜的大规模产业化发展。
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公开(公告)号：CN102247764A
公开(公告)日：2011-11-23
申请号：CN201110209457.X
申请日：2011-07-26
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 一种碳复合膜，包括多孔基体、多孔基体表面主要由石墨组成的过渡层和过渡层表面的多孔碳膜。所述的碳复合膜的制备方法，是先在多孔基体表面涂划形成石墨过渡层，再涂覆掺杂物改性的聚合物溶液，最后经碳化制得碳复合膜。石墨过渡层不仅能改善多孔基体的表面粗糙度并消除表面缺陷，还能防止碳膜在聚合物热解过程中开裂；同时，改变聚合物的组成可制备功能碳复合膜，改善膜的分离性能。本发明可基于低成本的大孔基体制备均匀性好、缺陷少、具有高渗透性和高选择性的碳复合膜，能有效降低碳膜成本，工艺简单，能广泛应用于气体分离。
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公开(公告)号：CN101386977A
公开(公告)日：2009-03-18
申请号：CN200810156969.2
申请日：2008-09-22
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明涉及一种以涂釉多孔陶瓷管为载体的复合钯膜或钯合金膜的制备方法，解决釉面与多孔陶瓷的交界处容易产生膜缺陷的问题。首先，将与多孔陶瓷相连的1～30mm范围内的釉面进行粗化处理，然后粗化处理部分和多孔陶瓷部分同时进行敏化、活化，实施化学镀。粗化处理的方法包括化学腐蚀法、涂层修饰法或重新施无光釉法。利用这种制备方法时，多孔陶瓷与粗化的釉面上形成的钯膜或钯合金膜是连续的，并且具有良好的附着力。本发明还可提高产氢纯度，改善膜的工作稳定性，延长膜的使用寿命。
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公开(公告)号：CN101234296A
公开(公告)日：2008-08-06
申请号：CN200810020318.0
申请日：2008-02-29
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明涉及多孔不锈钢-陶瓷复合膜的制备工艺。在陶瓷层(1)与不锈钢基体(3)之间添加一层金属粉末(2)，与陶瓷层(1)高温共烧，它既可起到粘合剂的作用，又可以修补基体表面的缺陷，同时不影响膜过滤精度。本发明所针对的基体材料(3)也可以是已成型但未经烧结的坯体，这样可直接将陶瓷层(1)涂在坯体表面并将两部分一步烧结而成；作为粘合剂的金属粉末(2)既可以是单金属亦可以是不锈钢合金。将不锈钢粉末和陶瓷粉末分别与添加剂混匀制得悬浮液，在基体表面先后制备金属粉末涂层和陶瓷涂层，脱除有机物后，在真空或保护性气氛中600～1400℃烧结。
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公开(公告)号：CN103638821B
公开(公告)日：2017-01-18
申请号：CN201310721809.9
申请日：2013-12-23
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明涉及一种钯复合膜缺陷修补技术，通过气相反应使SiO2在膜缺陷处沉积，进而实现对组件中的钯膜直接进行原位修补，而无需拆卸组件，为膜在使用过程中产生的缺陷提供了修补方案。本发明的具体技术方案为：将膜组件置于高温炉内，将硅源通入组件内钯复合膜的膜侧，硅源蒸气占据膜缺陷处，再向组件内的钯复合膜的基体侧通入氧化性气体，氧化性气体在浓度差的驱使下向缺陷处移动，并与硅源蒸气接触，快速反应生成固体颗粒沉积在缺陷处，达到修补的目的。本发明解决了对于膜在使用过程中产生的缺陷的修补问题，可极大地延长膜使用寿命，实用性更广，操作方便。
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公开(公告)号：CN102441330B
公开(公告)日：2014-02-05
申请号：CN201110325678.3
申请日：2011-10-24
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明公开了一种钯基双功能膜及其制备方法。所述的钯基双功能膜，包括沉积在多孔陶瓷表面的钯膜或钯合金膜，其特征在于，多孔陶瓷的孔道中负载有甲烷化催化剂。其制备方法为：采用浸渍法将甲烷化催化剂负载于多孔陶瓷孔道中，然后采用化学镀或化学镀与电镀相结合的方法在多孔陶瓷表面制备钯或钯合金膜。本发明的钯基双功能膜在钯膜或钯合金膜多孔载体的孔道中负载甲烷化催化剂，可实现膜分离和一氧化碳催化甲烷化的耦合。该膜用于氢气分离与纯化时，可将膜缺陷处泄漏的微量一氧化碳、二氧化碳催化甲烷化，满足特殊用氢要求。本发明的钯基双功能膜制备工艺成熟，简单易行，可工业化应用。
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公开(公告)号：CN102441330A
公开(公告)日：2012-05-09
申请号：CN201110325678.3
申请日：2011-10-24
Applicant: 南京工业大学
Abstract: 本发明公开了一种钯基双功能膜及其制备方法。所述的钯基双功能膜，包括沉积在多孔陶瓷表面的钯膜或钯合金膜，其特征在于，多孔陶瓷的孔道中负载有甲烷化催化剂。其制备方法为：采用浸渍法将甲烷化催化剂负载于多孔陶瓷孔道中，然后采用化学镀或化学镀与电镀相结合的方法在多孔陶瓷表面制备钯或钯合金膜。本发明的钯基双功能膜在钯膜或钯合金膜多孔载体的孔道中负载甲烷化催化剂，可实现膜分离和一氧化碳催化甲烷化的耦合。该膜用于氢气分离与纯化时，可将膜缺陷处泄漏的微量一氧化碳、二氧化碳催化甲烷化，满足特殊用氢要求。本发明的钯基双功能膜制备工艺成熟，简单易行，可工业化应用。
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