公开(公告)号：CN103252170B

公开(公告)日：2015-12-09

申请号：CN201310130644.8

申请日：2013-04-16

Applicant: 南京工业大学

Inventor： 黄彦 ,  丁维华 ,  胡小娟 ,  魏磊 ,  成元祥

IPC: B01D69/12 ,  B01D71/02 ,  B01D67/00 ,  B01D53/22 ,  B01D53/86 ,  C04B38/08 ,  B01J23/44

Abstract: 本发明涉及一种基体材料及其制备工艺，其特征在于：首先，制备混有胶体粒子及陶瓷颗粒的修饰液；其次，通过抽负压方式，修饰颗粒填充在大孔支撑体表面孔道中，去除表面沉积层，使支撑体表面裸露出来，干燥、焙烧后制得多孔陶瓷基体材料。经该工艺制备的基体材料适用于制备高性能气体分离膜。该工艺缩减了大孔支撑体表面孔孔径；保留了支撑体的表面粗糙度，提高负载型气体分离膜的附着力；降低了制备负载型气体分离膜的综合成本。另外本发明还具有工艺简单，操作方便，操作周期短等优势，利于相应分离膜的大规模产业化发展。

公开(公告)号：CN102962166A

公开(公告)日：2013-03-13

申请号：CN201210485187.X

申请日：2012-11-26

Applicant: 南京工业大学

Inventor： 黄彦 ,  成元祥 ,  胡小娟 ,  丁维华

IPC: B05C5/02

Abstract: 本发明涉及一种面向管式载体的自动石墨涂膜机。其特征在于利用弹簧或气压使石墨笔芯紧压在管体表面，并在步进滑台的带动下沿管体方向平稳移动，然后利用床台组件固定并带动管体高速旋转，最终实现管体的石墨涂层。同时，通过调节弹簧弹力或气压能够控制石墨笔芯对管体的涂划效果。该涂膜装置能够极大地改善涂层，提高效率，节约人力成本。

公开(公告)号：CN102962166B

公开(公告)日：2016-12-21

申请号：CN201210485187.X

申请日：2012-11-26

Applicant: 南京工业大学

Inventor： 黄彦 ,  成元祥 ,  胡小娟 ,  丁维华

IPC: B05C5/02

Abstract: 本发明涉及一种面向管式载体的自动石墨涂膜机。其特征在于利用弹簧或气压使石墨笔芯紧压在管体表面，并在步进滑台的带动下沿管体方向平稳移动，然后利用床台组件固定并带动管体高速旋转，最终实现管体的石墨涂层。同时，通过调节弹簧弹力或气压能够控制石墨笔芯对管体的涂划效果。该涂膜装置能够极大地改善涂层，提高效率，节约人力成本。

公开(公告)号：CN103721576A

公开(公告)日：2014-04-16

申请号：CN201310713960.8

申请日：2013-12-20

Applicant: 南京工业大学

Inventor： 黄彦 ,  魏浩 ,  俞健 ,  魏磊 ,  丁维华 ,  黎月华 ,  黄韬

IPC: B01D71/02 ,  B01D67/00 ,  C23C18/44 ,  C23F17/00

Abstract: 本发明涉及一种钯膜的制备方法，其特征在于：采用化学镀法在多孔基体表面沉积一层钯或钯合金膜，将制备的钯膜在一定正压的惰性气氛中烧结，促使微纳尺度钯晶粒重排，使处于晶界相交处的闭孔及晶粒内部孤立的微孔致密，再通过化学修补对剩余的缺陷进行填补。该法可制备出膜层致密、均匀，使用寿命长，透氢性高的钯膜。

公开(公告)号：CN103252170A

公开(公告)日：2013-08-21

申请号：CN201310130644.8

申请日：2013-04-16

Applicant: 南京工业大学

Inventor： 黄彦 ,  丁维华 ,  胡小娟 ,  魏磊 ,  成元祥

IPC: B01D69/12 ,  B01D71/02 ,  B01D67/00 ,  B01D53/22 ,  B01D53/86 ,  C04B38/08 ,  B01J23/44

Abstract: 本发明涉及一种基体材料及其制备工艺，其特征在于：首先，制备混有胶体粒子及陶瓷颗粒的修饰液；其次，通过抽负压方式，修饰颗粒填充在大孔支撑体表面孔道中，去除表面沉积层，使支撑体表面裸露出来，干燥、焙烧后制得多孔陶瓷基体材料。经该工艺制备的基体材料适用于制备高性能气体分离膜。该工艺缩减了大孔支撑体表面孔孔径；保留了支撑体的表面粗糙度，提高负载型气体分离膜的附着力；降低了制备负载型气体分离膜的综合成本。另外本发明还具有工艺简单，操作方便，操作周期短等优势，利于相应分离膜的大规模产业化发展。

公开(公告)号：CN103721576B

公开(公告)日：2016-10-26

申请号：CN201310713960.8

申请日：2013-12-20

Applicant: 南京工业大学

Inventor： 黄彦 ,  魏浩 ,  俞健 ,  魏磊 ,  丁维华 ,  黎月华 ,  黄韬

IPC: B01D71/02 ,  B01D67/00 ,  C23C18/44 ,  C23F17/00

Abstract: 本发明涉及一种钯膜的制备方法，其特征在于：采用化学镀法在多孔基体表面沉积一层钯或钯合金膜，将制备的钯膜在一定正压的惰性气氛中烧结，促使微纳尺度钯晶粒重排，使处于晶界相交处的闭孔及晶粒内部孤立的微孔致密，再通过化学修补对剩余的缺陷进行填补。该法可制备出膜层致密、均匀，使用寿命长，透氢性高的钯膜。