增加p侧反射出光的倒装深紫外LED芯片及其制作方法

    公开(公告)号:CN114597299A

    公开(公告)日:2022-06-07

    申请号:CN202210255429.X

    申请日:2022-03-15

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种增加p侧反射出光的倒装深紫外LED芯片及其制作方法。所述倒装深紫外LED芯片包括外延层、第一接触层、第二接触层和第一金属反射电极,所述外延层包括依次叠层设置的n型半导体层、有源层、第一p型半导体层和第二p型半导体层,所述第一p型半导体层的表面部分区域被所述第二p型半导体层覆盖,所述第二接触层与所述第二p型半导体层电性接触,所述第一接触层与所述n型半导体层电性接触;所述第一金属反射电极覆设在所述第一p型半导体层、第二p型半导体层和第二接触层上。本发明在第一p型半导体层和第二p型半导体上覆盖高反射的第一金属反射电极来增加p侧反射出光,且使该倒装深紫外LED芯片具有高的出光效率。

    包含高反射n-GaN欧姆接触的倒装LED芯片及其制作方法

    公开(公告)号:CN112768582A

    公开(公告)日:2021-05-07

    申请号:CN202110275172.X

    申请日:2021-03-15

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种包含高反射n‑GaN欧姆接触的倒装LED芯片及其制作方法。所述倒装LED芯片包括外延结构层和p电极、n电极,所述外延结构层包括依次叠层设置的n型层、量子阱层和p型层,所述p电极设置在p型层上,所述n电极设置在所述n型层上;所述n电极包括高反射n‑GaN欧姆接触结构,所述高反射n‑GaN欧姆接触结构包括叠层设置的第一金属层和第二金属层,所述第一金属层设置在所述n型层上并与所述n型层形成欧姆接触,其中,所述第一金属层包含金属Mg。所述倒装LED芯片通过采用倒装结构,可有效降低本发明具有同材质高反射p、n欧姆接触的倒装LED芯片的热阻及其工作时的结温,以及,提高器件的光效。

    包含高反射n-GaN欧姆接触的倒装LED芯片及其制作方法

    公开(公告)号:CN112768582B

    公开(公告)日:2022-03-25

    申请号:CN202110275172.X

    申请日:2021-03-15

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种包含高反射n‑GaN欧姆接触的倒装LED芯片及其制作方法。所述倒装LED芯片包括外延结构层和p电极、n电极,所述外延结构层包括依次叠层设置的n型层、量子阱层和p型层,所述p电极设置在p型层上,所述n电极设置在所述n型层上;所述n电极包括高反射n‑GaN欧姆接触结构,所述高反射n‑GaN欧姆接触结构包括叠层设置的第一金属层和第二金属层,所述第一金属层设置在所述n型层上并与所述n型层形成欧姆接触,其中,所述第一金属层包含金属Mg。所述倒装LED芯片通过采用倒装结构,可有效降低本发明具有同材质高反射p、n欧姆接触的倒装LED芯片的热阻及其工作时的结温,以及,提高器件的光效。

    具有同材质高反射p、n欧姆接触的倒装LED芯片及制法

    公开(公告)号:CN113224216B

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN202110521392.6

    申请日:2021-05-12

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种具有同材质高反射p、n欧姆接触的倒装LED芯片及制法。所述倒装LED芯片,其特征在于包括:外延结构层和p电极、n电极,所述外延结构层包括依次叠层设置的n型层、量子阱层和p型层,所述p电极设置在p型层上,所述n电极设置在所述n型层上;所述p电极和n电极均包括高反射欧姆接触结构,所述高反射欧姆接触结构包括叠设的第一金属层和第二金属层,所述第一金属层设置在所述p型层和n型层上,并与所述p型层和n型层形成欧姆接触,其中,所述第一金属层包含金属Ag和金属Mg。本发明实施例提供的倒装LED芯片具有出光效率高、散热性好、稳定性高等优点,且制备工艺简单,成本低廉,更适于工业化生产。

    具有同材质高反射p、n欧姆接触的倒装LED芯片及制法

    公开(公告)号:CN113224216A

    公开(公告)日:2021-08-06

    申请号:CN202110521392.6

    申请日:2021-05-12

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种具有同材质高反射p、n欧姆接触的倒装LED芯片及制法。所述倒装LED芯片,其特征在于包括:外延结构层和p电极、n电极,所述外延结构层包括依次叠层设置的n型层、量子阱层和p型层,所述p电极设置在p型层上,所述n电极设置在所述n型层上;所述p电极和n电极均包括高反射欧姆接触结构,所述高反射欧姆接触结构包括叠设的第一金属层和第二金属层,所述第一金属层设置在所述p型层和n型层上,并与所述p型层和n型层形成欧姆接触,其中,所述第一金属层包含金属Ag和金属Mg。本发明实施例提供的倒装LED芯片具有出光效率高、散热性好、稳定性高等优点,且制备工艺简单,成本低廉,更适于工业化生产。

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