具有同材质高反射p、n欧姆接触的倒装LED芯片及制法

    公开(公告)号:CN113224216B

    公开(公告)日:2022-07-29

    申请号:CN202110521392.6

    申请日:2021-05-12

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种具有同材质高反射p、n欧姆接触的倒装LED芯片及制法。所述倒装LED芯片,其特征在于包括:外延结构层和p电极、n电极,所述外延结构层包括依次叠层设置的n型层、量子阱层和p型层,所述p电极设置在p型层上,所述n电极设置在所述n型层上;所述p电极和n电极均包括高反射欧姆接触结构,所述高反射欧姆接触结构包括叠设的第一金属层和第二金属层,所述第一金属层设置在所述p型层和n型层上,并与所述p型层和n型层形成欧姆接触,其中,所述第一金属层包含金属Ag和金属Mg。本发明实施例提供的倒装LED芯片具有出光效率高、散热性好、稳定性高等优点,且制备工艺简单,成本低廉,更适于工业化生产。

    具有同材质高反射p、n欧姆接触的倒装LED芯片及制法

    公开(公告)号:CN113224216A

    公开(公告)日:2021-08-06

    申请号:CN202110521392.6

    申请日:2021-05-12

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明公开了一种具有同材质高反射p、n欧姆接触的倒装LED芯片及制法。所述倒装LED芯片,其特征在于包括:外延结构层和p电极、n电极,所述外延结构层包括依次叠层设置的n型层、量子阱层和p型层,所述p电极设置在p型层上,所述n电极设置在所述n型层上;所述p电极和n电极均包括高反射欧姆接触结构,所述高反射欧姆接触结构包括叠设的第一金属层和第二金属层,所述第一金属层设置在所述p型层和n型层上,并与所述p型层和n型层形成欧姆接触,其中,所述第一金属层包含金属Ag和金属Mg。本发明实施例提供的倒装LED芯片具有出光效率高、散热性好、稳定性高等优点,且制备工艺简单,成本低廉,更适于工业化生产。

    单片集成大面积多色高分辨显示的Micro-LED芯片及其制作方法

    公开(公告)号:CN114927511A

    公开(公告)日:2022-08-19

    申请号:CN202210413625.5

    申请日:2022-04-19

    Applicant: 南京大学

    Abstract: 本发明提供了一种单片集成大面积多色高分辨显示的Micro‑LED芯片及其制作方法。所述Micro‑LED芯片包括层叠设置的第一LED芯片阵列和第二LED芯片阵列,所述第一LED芯片阵列包括多个正装结构的第一LED芯片,所述第二LED芯片阵列包括多个倒装结构的第二LED芯片;设置在第一LED芯片阵列与第二LED芯片阵列之间的驱动阵列,所述驱动阵列包括多个驱动单元,所述驱动单元集成在所述Micro‑LED芯片的像素原位,并且每一第一LED芯片、每一第二LED芯片分别与相应的驱动单元电连接。本发明通过正装与倒装芯片交替排列降低了在可以减小LED芯片间距,提高显示屏的分辨率,从而使得显示效果更佳细腻。

Patent Agency Ranking