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公开(公告)号：CN1323025C
公开(公告)日：2007-06-27
申请号：CN200510019857.9
申请日：2005-11-22
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种双微观结构的超疏水表面的制作方法。本发明制作的具有双微观结构的超疏水表面的结构为，在聚合物薄膜的表面上同时存在微米级阵列和纳米级阵列，微米级阵列中微柱的长、宽、高和阵列中各微柱之间的间距为10～100μm，纳米级阵列中纳米柱的高、直径和阵列中各纳米柱之间的间距为10～100nm。本发明制作的具有双微观结构的超疏水表面能克服微尺度下的表面效应导致的表面摩擦和粘附；能降低微流通道的沿程压力损失，增大流体的流动速度，改善流体在微流体器件中的流动特性。本发明是以微加工和阳极氧化为基础，成品率较高；以纳米压印作为转移手段，模板可重复利用，容易进行大规模批量生产，降低了成本。
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公开(公告)号：CN100340417C
公开(公告)日：2007-10-03
申请号：CN200510019944.4
申请日：2005-12-02
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明提供了一种纳米压印机，包括X-Y粗动工作台、找平装置、X-Y微动工作台、承片板、转动工作台；X-Y粗动工作台由二个步进电机带动，实现模板和承片板上的样品水平方向的粗定位；找平装置中的压力传感器用于压印和分离过程中，对压力进行测量和控制，控制直流伺服电机带动模板实现上、下运动；X-Y微动工作台由二个压电陶管驱动，调节模板和样品之间水平方向的精定位；转动工作台由二个步进电机驱动，分别实现模板和样品之间转角的精定位、粗定位。本发明具有优于20nm定位对准精度，能满足特征尺度在100纳米以下、多层图案的低成本、大批量的制作；能工作于冷压印和热压印两种压印模式，具有较好的灵活性。
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公开(公告)号：CN1775546A
公开(公告)日：2006-05-24
申请号：CN200510019944.4
申请日：2005-12-02
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明提供了一种纳米压印机，包括X－Y粗动工作台、找平装置、X－Y微动工作台、承片板、转动工作台；X－Y粗动工作台由二个步进电机带动，实现模板和承片板上的样品水平方向的粗定位；找平装置中的压力传感器用于压印和分离过程中，对压力进行测量和控制，控制直流伺服电机带动模板实现上、下运动；X－Y微动工作台由二个压电陶管驱动，调节模板和样品之间水平方向的精定位；转动工作台由二个步进电机驱动，分别实现模板和样品之间转角的精定位、粗定位。本发明具有优于20nm定位对准精度，能满足特征尺度在100纳米以下、多层图案的低成本、大批量的制作；能工作于冷压印和热压印两种压印模式，具有较好的灵活性。
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公开(公告)号：CN1760112A
公开(公告)日：2006-04-19
申请号：CN200510019857.9
申请日：2005-11-22
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明公开了一种具有双微观结构的超疏水表面及其制作方法。超疏水表面的结构为，在聚合物薄膜的表面上同时存在微米级阵列和纳米级阵列，微米级阵列中微柱的长、宽、高和阵列中各微柱之间的间距为10～100μm，纳米级阵列中纳米柱的高、直径和阵列中各纳米柱之间的间距为10～100nm。本发明具有双微观结构的超疏水表面能克服微尺度下的表面效应导致的表面摩擦和粘附；能降低微流通道的沿程压力损失，增大流体的流动速度，改善流体在微流体器件中的流动特性。本发明制作具有双微观结构的超疏水表面的方法是以微加工和阳极氧化为基础，成品率较高；以纳米压印作为转移手段，模板可重复利用，容易进行大规模批量生产，降低了成本。
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公开(公告)号：CN1604303A
公开(公告)日：2005-04-06
申请号：CN200410060914.3
申请日：2004-09-24
Applicant: 华中科技大学
IPC: H01L21/768 , H01L21/3205
Abstract: 本发明公开了一种基于纳米碳管的互连方法，包括：在硅基底上用电子束蒸发一层厚度为20～200nm的铝膜；采用阳极氧化法将铝膜制备成多孔氧化铝模板；根据硅基底的互连需要，采用曝光、湿法显影和干法刻蚀，制作开有通孔的掩膜板；将开有通孔的掩膜板置于多孔氧化铝模板上，掩膜板的通孔与硅基底上需要互连的位置对准，采用微湿含浸法在氧化铝模板的孔底部种植催化剂金属；在催化剂金属上，采用化学气相淀积的方法制备纳米碳管束。本发明的优点是：能够有效控制纳米碳管束的生长方向、直径和长度，获得所需的互连结构，满足了小节距(小于20μm)，大功耗(超过200watts)，高频率(20～50GHz)的芯片互连要求。
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