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公开(公告)号：CN113125437A
公开(公告)日：2021-07-16
申请号：CN202110433873.1
申请日：2021-04-22
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明涉及缺陷和纳米颗粒检测领域，提供一种基于光学干涉散射显微技术的检测系统和方法。本发明从信号光与参考光干涉形成的光学图像中提取对比度图像作为检测信息。本发明利用样品表面起伏和缺陷或纳米颗粒的空间分布以及几何形貌的不同，将特定偏振态的照明光束以一定角度照射到检测区域，以减小样品表面纳米或亚纳米尺度起伏散射的杂散光强度，并使杂散光的偏振与检测对象散射的信号光偏振不同。在探测光路中有选择性地将杂散光的主要偏振分量和绝大部分参考光滤除，从而增强缺陷或纳米颗粒的检测信号，提升信噪比。本发明能将光学检测技术能检测的缺陷或纳米颗粒尺寸大幅度减小，检测精度大大提高，值得推广应用。
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公开(公告)号：CN113125437B
公开(公告)日：2023-07-18
申请号：CN202110433873.1
申请日：2021-04-22
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明涉及缺陷和纳米颗粒检测领域，提供一种基于光学干涉散射显微技术的检测系统和方法。本发明从信号光与参考光干涉形成的光学图像中提取对比度图像作为检测信息。本发明利用样品表面起伏和缺陷或纳米颗粒的空间分布以及几何形貌的不同，将特定偏振态的照明光束以一定角度照射到检测区域，以减小样品表面纳米或亚纳米尺度起伏散射的杂散光强度，并使杂散光的偏振与检测对象散射的信号光偏振不同。在探测光路中有选择性地将杂散光的主要偏振分量和绝大部分参考光滤除，从而增强缺陷或纳米颗粒的检测信号，提升信噪比。本发明能将光学检测技术能检测的缺陷或纳米颗粒尺寸大幅度减小，检测精度大大提高，值得推广应用。
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公开(公告)号：CN113125436B
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202110433853.4
申请日：2021-04-22
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明涉及缺陷检测和纳米颗粒检测领域，提供一种基于光学暗场显微技术的检测系统和方法。本发明利用样品表面起伏和和检测目标的空间分布及几何形貌的区别，将特定偏振态的照明光束以一定角度照射到样品的待检测区域，减小样品表面纳米级或亚纳米级起伏散射的杂散光强度，并使杂散光和检测目标散射的信号光偏振不同，调控探测光束的偏振态，滤除绝大部分杂散光，降低杂散光带来的背景噪声，提升检测信噪比，提高检测灵敏度。使用本发明所述系统和方法，可大幅度将光学方法可检测的缺陷和纳米颗粒推向更小尺寸。
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公开(公告)号：CN114156218A
公开(公告)日：2022-03-08
申请号：CN202111374376.5
申请日：2021-11-19
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明涉及基片横向位移测量和横向对准领域，提供一种基于干涉散射显微技术，通过对基片表面进行显微成像，记录基片表面的散斑信息，获取不同时刻基片的位置信息，实现基片的横向位移监测。进一步地，根据监测的基片横向位移信息，将基片移动到指定位置，实现基片横向对准。其特点在于不依赖标记物，且对照明稳定性要求低，可实现亚纳米级精度的基片横向位移监测和横向对准。
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公开(公告)号：CN113125436A
公开(公告)日：2021-07-16
申请号：CN202110433853.4
申请日：2021-04-22
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明涉及缺陷检测和纳米颗粒检测领域，提供一种基于光学暗场显微技术的检测系统和方法。本发明利用样品表面起伏和和检测目标的空间分布及几何形貌的区别，将特定偏振态的照明光束以一定角度照射到样品的待检测区域，减小样品表面纳米级或亚纳米级起伏散射的杂散光强度，并使杂散光和检测目标散射的信号光偏振不同，调控探测光束的偏振态，滤除绝大部分杂散光，降低杂散光带来的背景噪声，提升检测信噪比，提高检测灵敏度。使用本发明所述系统和方法，可大幅度将光学方法可检测的缺陷和纳米颗粒推向更小尺寸。
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