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公开(公告)号：CN114801477B
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN202210237363.1
申请日：2022-03-11
Applicant: 华中科技大学
IPC: B41J2/01 , B41J2/07 , B41J29/393 , G06F3/12 , G06N3/12
Abstract: 本发明公开了一种用于印刷显示的图案化规划方法、打印方法及系统，属于印刷显示技术领域。规划方法包括：根据喷头以及喷孔排布参数，将各喷孔沿打印方向投影，以获取喷孔阵列坐标以及各喷孔的所有灰阶体积值；获取基板上像素坑阵列坐标以及各像素坑所需打印体积值；对每一像素坑，将其与喷孔进行坐标位置匹配，匹配成功的多个喷孔作为该像素坑的候选打印喷孔集；以满足像素坑所需打印体积值为条件，得到每一像素坑的多种待选打印方式；以完成基板喷印所需打印次数之和最小为目标，确定各像素坑的最佳打印方式，以形成最优规划方案。从而，在保证打印精度的前提下，有效提升大面积高精度喷印显示生产线打印规划效率，实现高效生产制造。
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公开(公告)号：CN120063135A
公开(公告)日：2025-05-30
申请号：CN202510205694.0
申请日：2025-02-25
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于喷墨印刷制造相关技术领域，具体涉及一种大尺寸基板喷墨打印薄膜封装在线质量检测方法及系统，包括：采用光谱传感器在线测量当前待测薄膜多处测点的厚度，对偏离平均膜厚水平较大的值进行修正；从预先构建的资料库中获取当前待测薄膜对应的色散方程并确定传感器照射到薄膜上表面各测点处的光波长；由光波长和色散方程得到对应测点薄膜折射率；基于各测点的膜厚样本值计算传感器光束在薄膜中的光程差，基于光程差与薄膜折射率的关系，校正对应测点处的薄膜真实值；采用光谱共聚焦传感器在线测量当前待测薄膜边缘预设区域多测点的高度并校正，得到边缘真实形貌。本发明是一种针对大尺寸基板喷墨打印薄膜封装的在线高效率质量检测方法。
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公开(公告)号：CN116383725A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310251962.3
申请日：2023-03-13
Applicant: 华中科技大学
IPC: G06F18/2411 , G06F18/23213 , G06F18/214 , B41J2/12
Abstract: 本发明属于新型显示喷墨打印技术领域，具体涉及一种用于喷墨打印的阵列化喷孔筛选方法及装置，包括：基于每个喷孔每次喷射得到的沉积液滴特征集合，依次通过分类模型、回归模型，得到对应正常飞行液滴的状态参数集合；随机选取多个状态参数集合，通过标签标注，以训练得到初始分类器；将其余状态参数集合分别输入初始分类器，得到对应的分类概率，根据分类概率，选择多个候选的状态参数集合，进行聚类，获取每个聚类中心对应的喷孔正常与否的标签，进一步训练初始分类器；将每个喷孔对应的各状态参数集合分别输入最终分类器，确定该喷孔是否可用于正式喷墨打印。本发明在提高筛选效率的同时保证筛选精度。
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公开(公告)号：CN114801477A
公开(公告)日：2022-07-29
申请号：CN202210237363.1
申请日：2022-03-11
Applicant: 华中科技大学
IPC: B41J2/01 , B41J2/07 , B41J29/393 , G06F3/12 , G06N3/12
Abstract: 本发明公开了一种用于印刷显示的图案化规划方法、打印方法及系统，属于印刷显示技术领域。规划方法包括：根据喷头以及喷孔排布参数，将各喷孔沿打印方向投影，以获取喷孔阵列坐标以及各喷孔的所有灰阶体积值；获取基板上像素坑阵列坐标以及各像素坑所需打印体积值；对每一像素坑，将其与喷孔进行坐标位置匹配，匹配成功的多个喷孔作为该像素坑的候选打印喷孔集；以满足像素坑所需打印体积值为条件，得到每一像素坑的多种待选打印方式；以完成基板喷印所需打印次数之和最小为目标，确定各像素坑的最佳打印方式，以形成最优规划方案。从而，在保证打印精度的前提下，有效提升大面积高精度喷印显示生产线打印规划效率，实现高效生产制造。
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公开(公告)号：CN113752698B
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202111010435.0
申请日：2021-08-31
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于喷墨打印技术领域，具体公开了一种用于喷墨印刷的墨滴落点精度控制方法及系统。所述方法为：1)将喷孔移至试打印区域进行试喷射，检测每个喷孔对应墨滴落点偏置值，进而获得墨滴落点整体偏置补偿值；2)使用墨滴落点整体偏置补偿值，整体补偿喷孔相对基板像素坑的位置精度；3)启动喷孔实施正式打印，在打印过程中检测每个像素坑对应墨滴落点偏差值；4)依据偏差值，一方面调整点火序列在基板移动方向上补偿位置精度，另一方面调整每个喷头在每个行程的移动距离从而在喷头移动方向上补偿位置精度。本发明可补偿喷墨打印过程中的多重误差，尤其适用于利用喷墨印刷方式制造高分辨率显示器、电子元器件之类的应用场合。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN115570899B
公开(公告)日：2024-06-28
申请号：CN202211212091.6
申请日：2022-09-30
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于印刷显示技术领域，具体涉及一种喷墨打印飞行墨滴体积分布在线监测方法，包括：在基板上下料的时间间隙内，随机抽检部分喷孔进行墨滴观测；通过给定多组μv,σv的方式，求解观测到的各抽检喷孔喷射墨滴体积在每组μv,σv下的似然函数；同时根据先验分布计算各组μv,σv对应的先验概率；将每组μv,σv下求解的所有似然函数值与先验概率相乘，得到该组μv,σv条件下后验概率，进而得到后验分布；对比先验分布和后验分布，实现喷墨打印飞行墨滴体积分布在线监测；其中，确定均值μv和标准差σv的标准差σvμ和σvσ取值，从而对应得到均值μv和标准差σv的正态分布，建立该两个正态分布的联合概率分布，作为先验分布。本发明能在墨滴体积检测过程中兼顾准确性和效率。
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公开(公告)号：CN116374550A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310203108.X
申请日：2023-03-03
Applicant: 华中科技大学
IPC: B65G43/08 , H01L21/67 , H01L21/683 , B65G51/02
Abstract: 本发明公开了一种基板气浮平台控制方法及系统，属于新型显示技术领域。本发明考虑到了对于大面积基板气浮支撑系统，需要进行精度的检测、控制和监控，才能保证基板气浮连续运行的精度。因此考虑到了利用激光位移传感器和力锤进行激励和信号采集，通过数据处理的方式得到基板的固有频率和基板底面与气浮支撑表面的垂直高度，以对气浮平台的正压、负压进行调整，对基板气浮平台的精度进行检测和控制，在连续运行过程中通过激光位移传感器对气浮平台的运行状态实时判定。如此能够保证大面积、高精度显示面板气浮连续输运的精度稳定和可测、可控、可调，尤其适用于利用喷墨打印制造高分辨率、大幅面显示器、电子元器件等。
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公开(公告)号：CN115008901A
公开(公告)日：2022-09-06
申请号：CN202210477145.5
申请日：2022-05-03
Applicant: 华中科技大学
IPC: B41J2/08 , B41J29/393 , G01B11/00
Abstract: 本发明公开了一种喷墨打印显示像素坑填充墨水体积异常检测方法，属于印刷显示技术领域。本发明考虑到在实际打印过程中，由于溶剂的蒸发会引起像素坑填充墨水测量体积变化，因此在离线标定阶段选取具有代表性的喷孔进行观测，并在喷射后对目标像素坑内墨水体积进行多次检测，以拟合得到在不同墨水体积喷入值下像素坑内墨水体积值与蒸发时段的变化关系；在在线检测阶段，以参考变化关系计算得到待检测像素坑内的参考墨水体积值，与体积检测值进行比较，从而判断像素坑填充是否存在异常。如此，能够在线检测印刷基板的打印质量，检出像素坑填充缺陷并溯源出异常喷孔、异常喷射行程，尤其适用于利用喷墨打印制造高分辨率显示器、电子元器件等。
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公开(公告)号：CN113752698A
公开(公告)日：2021-12-07
申请号：CN202111010435.0
申请日：2021-08-31
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于喷墨打印技术领域，具体公开了一种用于喷墨印刷的墨滴落点精度控制方法及系统。所述方法为：1)将喷孔移至试打印区域进行试喷射，检测每个喷孔对应墨滴落点偏置值，进而获得墨滴落点整体偏置补偿值；2)使用墨滴落点整体偏置补偿值，整体补偿喷孔相对基板像素坑的位置精度；3)启动喷孔实施正式打印，在打印过程中检测每个像素坑对应墨滴落点偏差值；4)依据偏差值，一方面调整点火序列在基板移动方向上补偿位置精度，另一方面调整每个喷头在每个行程的移动距离从而在喷头移动方向上补偿位置精度。本发明可补偿喷墨打印过程中的多重误差，尤其适用于利用喷墨印刷方式制造高分辨率显示器、电子元器件之类的应用场合。
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公开(公告)号：CN114565039B
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202210189969.2
申请日：2022-02-28
Applicant: 华中科技大学
IPC: G06F18/214 , G06N3/0442 , G06N3/086 , B41J2/01
Abstract: 本发明属于喷墨打印技术领域，具体公开一种喷印墨滴落点误差预测方法，包括：初始化LSTM神经网络，采用改进双粒子群优化算法对该网络参数进行优化，主粒子群负责整体性搜索，辅助粒子群负责多样性搜索；采用Tent混沌映射进行初始化粒子群和局部搜索，提高了粒子搜索的多样性与遍历性；采用自适应参数调整适应策略，加强了算法的整体与局部寻优能力；采用Levy飞行进行粒子扰动，保持了粒子的多样性，使粒子群沿更好的方向进化；建立LSTM神经网络预测模型，使用建立的网络预测模型进行喷印墨滴落点误差的间接测量。本发明相比现有试打印法，缩短了打印周期，避免了试打印造成的墨水消耗，适用于利用喷墨印刷方式制造高分辨率显示器、电子元器件等应用场合。
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