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公开(公告)号：CN114609899B
公开(公告)日：2024-05-24
申请号：CN202210267103.9
申请日：2022-03-17
Applicant: 华中科技大学
IPC: G05B11/42
Abstract: 本发明公开了一种基于多传感器协同的净化箱环境测控方法及系统，属于净化箱环境测控技术领域。方法包括：以净化箱箱体的氧浓度、水蒸气浓度、有害气体浓度、颗粒物浓度、温度和气压六个参数为因素集，建立评语集以及各因素对应的隶属度函数和权重集，构建净化箱环境综合评价函数；当综合评价结果不满足要求时，通过判断六个参数与相应阈值的大小关系，分别调节外循环净化系统、内循环过滤系统、温控系统的功率以及压力系统的抽气充气体积。如此，本发明通过构建净化箱环境综合评价函数，将各指标有机结合来整体监控净化箱环境，从而有效地解决了现有环境测控方法未考虑各指标的相互影响，导致控制效果不佳的技术问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114565039B
公开(公告)日：2024-09-06
申请号：CN202210189969.2
申请日：2022-02-28
Applicant: 华中科技大学
IPC: G06F18/214 , G06N3/0442 , G06N3/086 , B41J2/01
Abstract: 本发明属于喷墨打印技术领域，具体公开一种喷印墨滴落点误差预测方法，包括：初始化LSTM神经网络，采用改进双粒子群优化算法对该网络参数进行优化，主粒子群负责整体性搜索，辅助粒子群负责多样性搜索；采用Tent混沌映射进行初始化粒子群和局部搜索，提高了粒子搜索的多样性与遍历性；采用自适应参数调整适应策略，加强了算法的整体与局部寻优能力；采用Levy飞行进行粒子扰动，保持了粒子的多样性，使粒子群沿更好的方向进化；建立LSTM神经网络预测模型，使用建立的网络预测模型进行喷印墨滴落点误差的间接测量。本发明相比现有试打印法，缩短了打印周期，避免了试打印造成的墨水消耗，适用于利用喷墨印刷方式制造高分辨率显示器、电子元器件等应用场合。
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公开(公告)号：CN114609899A
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN202210267103.9
申请日：2022-03-17
Applicant: 华中科技大学
IPC: G05B11/42
Abstract: 本发明公开了一种基于多传感器协同的净化箱环境测控方法及系统，属于净化箱环境测控技术领域。方法包括：以净化箱箱体的氧浓度、水蒸气浓度、有害气体浓度、颗粒物浓度、温度和气压六个参数为因素集，建立评语集以及各因素对应的隶属度函数和权重集，构建净化箱环境综合评价函数；当综合评价结果不满足要求时，通过判断六个参数与相应阈值的大小关系，分别调节外循环净化系统、内循环过滤系统、温控系统的功率以及压力系统的抽气充气体积。如此，本发明通过构建净化箱环境综合评价函数，将各指标有机结合来整体监控净化箱环境，从而有效地解决了现有环境测控方法未考虑各指标的相互影响，导致控制效果不佳的技术问题。
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公开(公告)号：CN114565039A
公开(公告)日：2022-05-31
申请号：CN202210189969.2
申请日：2022-02-28
Applicant: 华中科技大学
Abstract: 本发明属于喷墨打印技术领域，具体公开一种喷印墨滴落点误差预测方法，包括：初始化LSTM神经网络，采用改进双粒子群优化算法对该网络参数进行优化，主粒子群负责整体性搜索，辅助粒子群负责多样性搜索；采用Tent混沌映射进行初始化粒子群和局部搜索，提高了粒子搜索的多样性与遍历性；采用自适应参数调整适应策略，加强了算法的整体与局部寻优能力；采用Levy飞行进行粒子扰动，保持了粒子的多样性，使粒子群沿更好的方向进化；建立LSTM神经网络预测模型，使用建立的网络预测模型进行喷印墨滴落点误差的间接测量。本发明相比现有试打印法，缩短了打印周期，避免了试打印造成的墨水消耗，适用于利用喷墨印刷方式制造高分辨率显示器、电子元器件等应用场合。
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公开(公告)号：CN113733751A
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202111122546.0
申请日：2021-09-24
Applicant: 华中科技大学
IPC: B41J2/06
Abstract: 本发明公开了一种电流体喷印微结构形貌调控方法，具体为：启用电纺丝喷头在基板上喷印线阵，喷印后在喷印线阵上方施加形貌调控电场；检测喷印线与基板的接触角以及喷印线阵交叉点的厚度分布，将其与目标值比较，依据比较结果施加电场调控信号，由此实施对线形貌、线阵交叉点形貌的调控；采用电雾化模式在线阵围成的网格中喷印液滴形成微结构，检测微结构的厚度和形状，将其与目标值比较，依据比较结果施加电场调控信号，由此实施对微结构形貌的调控。本发明还提供实现上述方法的系统和装置。本发明采用电纺丝与电喷雾技术结合进行微结构制造，并利用附加电场调控形貌，大幅提高微结构的制造效率和形貌精度。
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公开(公告)号：CN113733751B
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202111122546.0
申请日：2021-09-24
Applicant: 华中科技大学
IPC: B41J2/06
Abstract: 本发明公开了一种电流体喷印微结构形貌调控方法，具体为：启用电纺丝喷头在基板上喷印线阵，喷印后在喷印线阵上方施加形貌调控电场；检测喷印线与基板的接触角以及喷印线阵交叉点的厚度分布，将其与目标值比较，依据比较结果施加电场调控信号，由此实施对线形貌、线阵交叉点形貌的调控；采用电雾化模式在线阵围成的网格中喷印液滴形成微结构，检测微结构的厚度和形状，将其与目标值比较，依据比较结果施加电场调控信号，由此实施对微结构形貌的调控。本发明还提供实现上述方法的系统和装置。本发明采用电纺丝与电喷雾技术结合进行微结构制造，并利用附加电场调控形貌，大幅提高微结构的制造效率和形貌精度。
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