公开(公告)号：CN102519778A

公开(公告)日：2012-06-27

申请号：CN201110442695.5

申请日：2011-12-26

Applicant: 北京工业大学

Inventor： 范爱玲 ,  张姗 ,  黄浪 ,  马捷 ,  魏建忠

IPC: G01N1/32

Abstract: 一种便于磨抛透射电镜试样的装置属于金属材料磨抛试样设备领域。其特征在于：由带有中心通孔的柱体、螺栓构成；螺栓放置在中心通孔内且与柱体紧密扣合；螺栓的上半部分为标准螺栓，下半部分为与标准螺栓同轴且一体的延长杆，此延长杆是直径为3mm的圆柱杆。通过旋转螺栓使延长杆向下运动，当延长杆触及圆片时，根据所需最终的磨抛厚度，将薄圆片一点点顶出，进行机械研磨，直到减薄至所需尺寸。本装置具备以下优点：1、实用性强，针对切成φ3mm的各种圆片都可进行磨抛操作。2、直观便捷地控制磨抛过程中对圆片厚度的把握。3、提高效率，对剪切成φ3mm的圆片进行再磨抛，可提高制备透射电镜试样的效率和成功率。

公开(公告)号：CN102321894A

公开(公告)日：2012-01-18

申请号：CN201110278799.7

申请日：2011-09-19

Applicant: 北京工业大学

Inventor： 范爱玲 ,  黄浪 ,  张姗 ,  马捷 ,  魏建忠

IPC: C25D1/00 ,  C25D3/14 ,  C25D3/54 ,  C25D5/18

Abstract: 一种制备层状结构镍钨复合材料的方法属于复合材料制备技术领域。本发明在电铸过程中采用脉冲电源，平均电流密度为：12～17A/dm2，正占空比11％～25％，将阳极、阴极平行插入电铸液中，阳极为纯镍，阴极为不锈钢；电铸液的成分为硫酸镍：360～400克/升，氯化镍：46～58克/升，钨酸钠：1500～1800克/升，硼酸：55～60克/升。在电铸过程中搅拌，搅拌速度为：30～50转/分；电铸在72-78℃恒温下进行，并且在电铸过程中补充钨酸钠溶液。本发明提高了镍钨复合材料中的钨含量。

公开(公告)号：CN102758232A

公开(公告)日：2012-10-31

申请号：CN201210227920.8

申请日：2012-07-02

Applicant: 北京工业大学

Inventor： 范爱玲 ,  丁艳凤 ,  黄浪 ,  张珊

IPC: C25D5/40 ,  C25D5/10 ,  C25D3/38 ,  C25D3/48

Abstract: 一种提高钼基电触头表面镀金结合强度的方法，属于金属材料表面改性领域。本发明步骤：电镀前去除钼基电触头表面氧化物，然后用超声波清洗去除油污；之后电镀铜，铜层电镀液的组成：五水硫酸铜215～250g/L，硫酸65～80g/L，其余是水；工艺参数：pH值1.3～1.5，电流密度0.4～0.6A/dm2，温度20～50℃，电镀时间30s～120s，pH值用硫酸和氢氧化钠调节；再电镀金，镀金液的组成：三氯化金 25～35g/L，亚硫酸钠 135～160g/L,氯化钠 85~100g/L，其余是水；工艺参数：pH值9～11，电流密度0.1～0.3A/dm2，温度25～35℃，电镀时间90～140s，pH值用硫酸和氢氧化钠调节。本发明获得的镀金层与钼基电触头表面结合良好，无脱落、起皮现象发生。

公开(公告)号：CN102534703A

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN201210002302.3

申请日：2012-01-05

Applicant: 北京工业大学

Inventor： 范爱玲 ,  黄浪 ,  张姗

IPC: C25D3/38 ,  C25D5/18 ,  B82Y40/00

Abstract: 一种制备纳米/微米晶复合结构纯铜的方法属于金属材料制备技术领域。本发明在电沉积过程中采用脉冲电源，通电阶段电流密度为：20～28A/dm2，正占空比12％～25％，将阳极、阴极平行插入电解液中，阳极为纯铜，阴极为不锈钢；电解液的成分为硫酸铜：460～510克/升，添加剂成分为糖精：62～70克/升。在沉积过程中搅拌，搅拌速度为：60～80转/分；在50℃～58℃恒温下进行，沉积时间在30分钟～2小时，并且在电沉积过程中补充硫酸铜溶液。本发明获得了纳米/微米晶复合结构材料，解决材料强度提高而塑性降低的问题。

公开(公告)号：CN202420943U

公开(公告)日：2012-09-05

申请号：CN201120552189.7

申请日：2011-12-26

Applicant: 北京工业大学

Inventor： 范爱玲 ,  张姗 ,  黄浪 ,  马捷 ,  魏建忠

IPC: G01N1/32

Abstract: 一种便于磨抛透射电镜试样的装置属于金属材料磨抛试样设备领域。其特征在于：由带有中心通孔的柱体、螺栓构成；螺栓放置在中心通孔内且与柱体紧密扣合；螺栓的上半部分为标准螺栓，下半部分为与标准螺栓同轴且一体的延长杆，此延长杆是直径为3mm的圆柱杆。通过旋转螺栓使延长杆向下运动，当延长杆触及圆片时，根据所需最终的磨抛厚度，将薄圆片一点点顶出，进行机械研磨，直到减薄至所需尺寸。本装置具备以下优点：1、实用性强，针对切成φ3mm的各种圆片都可进行磨抛操作。2、直观便捷地控制磨抛过程中对圆片厚度的把握。3、提高效率，对剪切成φ3mm的圆片进行再磨抛，可提高制备透射电镜试样的效率和成功率。