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公开(公告)号:CN104241349B
公开(公告)日:2017-06-20
申请号:CN201410488417.7
申请日:2014-09-22
Applicant: 北京大学深圳研究生院
IPC: H01L29/739 , H01L29/06
CPC classification number: H01L29/06 , H01L29/739
Abstract: 本申请公开了一种逆导型绝缘栅双极型晶体管,包括集电极、P型集电区、N型隧道掺杂区、N型阻挡层、N型漂移区、MOS区和栅极。P型集电区为简并掺杂区域,费米能级进入价带中;N型隧道掺杂区为掺杂浓度接近简并掺杂的区域,费米能级接近导带底但不进入导带;P型集电区的掺杂浓度比N型隧道掺杂区的掺杂浓度高。该晶体管通过引入N型隧道掺杂区,实现反向导通,因此在工艺制作上,背面无须刻蚀工艺。在工作中,由于没有普通逆导型IGBT集电极端的N型区域,不存在器件正向导通和反向导通时产生的电流集中问题;也不存在器件正向导通时的电压回跳现象。
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公开(公告)号:CN104241349A
公开(公告)日:2014-12-24
申请号:CN201410488417.7
申请日:2014-09-22
Applicant: 北京大学深圳研究生院
IPC: H01L29/739 , H01L29/06
CPC classification number: H01L29/06 , H01L29/739 , H01L29/7393 , H01L29/36
Abstract: 本申请公开了一种逆导型绝缘栅双极型晶体管,包括集电极、P型集电区、N型隧道掺杂区、N型阻挡层、N型漂移区、MOS区和栅极。P型集电区为简并掺杂区域,费米能级进入价带中;N型隧道掺杂区为掺杂浓度接近简并掺杂的区域,费米能级接近导带底但不进入导带;P型集电区的掺杂浓度比N型隧道掺杂区的掺杂浓度高。该晶体管通过引入N型隧道掺杂区,实现反向导通,因此在工艺制作上,背面无须刻蚀工艺。在工作中,由于没有普通逆导型IGBT集电极端的N型区域,不存在器件正向导通和反向导通时产生的电流集中问题;也不存在器件正向导通时的电压回跳现象。
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公开(公告)号:CN102779851A
公开(公告)日:2012-11-14
申请号:CN201210232954.6
申请日:2012-07-06
Applicant: 北京大学深圳研究生院
Abstract: 本申请公开了一种无结场效应晶体管,包括源区、沟道区和漏区,所述源区和漏区分别形成在沟道区两端,沟道区与漏区的掺杂类型一致,沟道区与漏区的浓度一致,所述源区为使源区与所述沟道区形成无势垒结的金属硅化物。与一般的无结晶体管相比,本申请的晶体管提升了无结器件的电流驱动能力,改善了无结器件性能的稳定性,为器件的进一步缩小和在集成电路中的应用提供一种新思路和方案。
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公开(公告)号:CN102779851B
公开(公告)日:2015-01-07
申请号:CN201210232954.6
申请日:2012-07-06
Applicant: 北京大学深圳研究生院
Abstract: 本申请公开了一种无结场效应晶体管,包括源区、沟道区和漏区,所述源区和漏区分别形成在沟道区两端,沟道区与漏区的掺杂类型一致,沟道区与漏区的浓度一致,所述源区为使源区与所述沟道区形成无势垒结的金属硅化物。与一般的无结晶体管相比,本申请的晶体管提升了无结器件的电流驱动能力,改善了无结器件性能的稳定性,为器件的进一步缩小和在集成电路中的应用提供一种新思路和方案。
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