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公开(公告)号：CN100434728C
公开(公告)日：2008-11-19
申请号：CN200510011534.5
申请日：2005-04-07
Applicant: 北京大学
IPC: F04F9/00
Abstract: 本发明提供了一种微型扩散泵及其制备方法，微型扩散泵主要包括：泵腔室、单向阀、泵入口、泵出口及泵腔室内的驱动结构，单向阀分别位于泵腔室与泵入口之间和泵腔室与泵出口之间，单向阀为正反向流量不同的楔形扩散管，泵腔室内流体在一定驱动方式下膨胀和收缩产生压力差，依据流体在楔形扩散管内的正反流压力不同的性质，在泵体内产生单向连续输运流体的作用。本发明提供的微型扩散泵可采用抽吸气体而驱动液体和直接驱动液体两种工作方式。微型扩散泵的制备基于硅微机械加工技术及微模型技术，制备工艺简单、加工成本低、可靠性好、易于与大多数微流体系统集成，在微流控分析芯片领域具有广泛的应用前景。
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公开(公告)号：CN1924417A
公开(公告)日：2007-03-07
申请号：CN200510086322.3
申请日：2005-08-31
Applicant: 北京大学
IPC: F16K17/20
Abstract: 本发明提供了一种由微鳞片结构组成的微型阀，属于微流体控制输运领域。该微型阀包括微流道及连接于流道侧壁上的微型鳞片阵列结构，微鳞片彼此平行排布，并与流道侧壁成一定的倾角，顺着鳞片排布方向的流动为正向流动，反之为逆向流动。由于正向流动时鳞片对流体产生的阻力小，而逆向时鳞片对流体产生较大的阻力，因此正向与逆向产生流量差，结构实现了单向阀的功能。本发明利用MEMS微加工工艺或化学合成技术制备，可广泛应用于微流体芯片系统内的流体控制。
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公开(公告)号：CN100376683C
公开(公告)日：2008-03-26
申请号：CN200510011180.4
申请日：2005-01-14
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明提供一种微型聚合酶链式反应(PCR)芯片系统及其制备方法，涉及生物微机电系统技术领域。该PCR芯片包括若干个用于DNA扩增的阱式反应池，反应池通过若干流道与进出液口连接。在芯片上集成微加热器和微传感器，通过温度循环控制系统进行DNA扩增。可以在该芯片上设置微泵，在反应池入口处设置微阀，用于DNA引物的导入及反应池间的隔离。也可以在上述系统中设置荧光激发光源、荧光探测装置及荧光信号检测分析系统进行PCR产物的荧光在位检测。采用MEMS技术加工技术或微模型制备该芯片系统，该生物芯片系统提供了高通量和快速的DNA扩增手段，并具有便于携带、成本低和性能可靠的优点。
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公开(公告)号：CN100356071C
公开(公告)日：2007-12-19
申请号：CN200410009702.2
申请日：2004-10-25
Applicant: 北京大学
IPC: F04F5/00
Abstract: 本发明提供了一种微型射流泵及其制备方法，泵体包括驱动结构和抽吸结构，驱动结构是由射流喷嘴和与之相连的驱动腔组成，驱动腔上设有驱动流体人口孔，抽吸结构包括抽吸入口端、抽吸流道和扩散出口，射流喷嘴位于扩散出口处，抽吸流道设在射流喷嘴的两侧，高压驱动气体或液体经过驱动流体人口孔进入驱动腔，在射流喷嘴出口处产生高速射流，同时在其边界处产生涡旋，涡旋卷吸抽吸流道内的流体进入射流，两种不同流速的混合流体共同流入扩散出口。微型射流泵的制备利用MEMS工艺设计，通过两张光刻版就可以实现，泵体材料的可选择范围大、易于和大多数微流体系统集成。
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公开(公告)号：CN1844681A
公开(公告)日：2006-10-11
申请号：CN200510011534.5
申请日：2005-04-07
Applicant: 北京大学
IPC: F04F9/00
Abstract: 本发明提供了一种微型扩散泵及其制备方法，微型扩散泵主要包括：泵腔室、单向阀、泵入口、泵出口及泵腔室内的驱动结构，单向阀分别位于泵腔室与泵入口之间和泵腔室与泵出口之间，单向阀为正反向流量不同的楔形扩散管，泵腔室内流体在一定驱动方式下膨胀和收缩产生压力差，依据流体在楔形扩散管内的正反流压力不同的性质，在泵体内产生单向连续输运流体的作用。本发明提供的微型扩散泵可采用抽吸气体而驱动液体和直接驱动液体两种工作方式。微型扩散泵的制备基于硅微机械加工技术及微模型技术，制备工艺简单、加工成本低、可靠性好、易于与大多数微流体系统集成，在微流控分析芯片领域具有广泛的应用前景。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1683586A
公开(公告)日：2005-10-19
申请号：CN200410033637.7
申请日：2004-04-14
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明提供了一种氧化锡纳米敏感薄膜制备方法，属于气敏传感器的敏感材料制备领域。本发明采用磁控反应溅射方法使金属锡氧化，在硅片上生成锡的纳米量级氧化物薄膜，再进一步氧化、退火，即可制造出纳米晶粒氧化锡薄膜，该氧化锡纳米敏感薄膜具有氧化锡颗粒度小，比表面积大，厚度均匀(误差在纳米量级)等特点，且表面平整度高，在100倍显微镜下观察没有裂痕，有利于提高气敏传感器的灵敏度和稳定性，通过溅射时间严格地控制膜厚，可重复性高，适合于批量生产。本发明与集成电路工艺相兼容，污染小，极大地降低气体传感器的生产成本，扩展了传感器的应用领域。
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公开(公告)号：CN1601115A
公开(公告)日：2005-03-30
申请号：CN200410009702.2
申请日：2004-10-25
Applicant: 北京大学
IPC: F04F5/00
Abstract: 本发明提供了一种微型射流泵及其制备方法，泵体包括驱动结构和抽吸结构，驱动结构是由射流喷嘴和与之相连的驱动腔组成，驱动腔上设有驱动流体人口孔，抽吸结构包括抽吸入口端、抽吸流道和扩散出口，射流喷嘴位于扩散出口处，抽吸流道设在射流喷嘴的两侧，高压驱动气体或液体经过驱动流体人口孔进入驱动腔，在射流喷嘴出口处产生高速射流，同时在其边界处产生涡旋，涡旋卷吸抽吸流道内的流体进入射流，两种不同流速的混合流体共同流入扩散出口。微型射流泵的制备利用MEMS工艺设计，通过两张光刻版就可以实现，泵体材料的可选择范围大、易于和大多数微流体系统集成。
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公开(公告)号：CN100447467C
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：CN200510086322.3
申请日：2005-08-31
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明提供了一种由微鳞片结构组成的微型阀，属于微流体控制输运领域。该微型阀包括微流道及连接于流道侧壁上的微型鳞片阵列结构，微鳞片彼此平行排布，并与流道侧壁成一定的倾角，顺着鳞片排布方向的流动为正向流动，反之为逆向流动。由于正向流动时鳞片对流体产生的阻力小，而逆向时鳞片对流体产生较大的阻力，因此正向与逆向产生流量差，结构实现了单向阀的功能。本发明利用MEMS微加工工艺或化学合成技术制备，可广泛应用于微流体芯片系统内的流体控制。
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公开(公告)号：CN1891617A
公开(公告)日：2007-01-10
申请号：CN200510012079.0
申请日：2005-07-01
Applicant: 北京大学
Abstract: 本发明提供一种在感应耦合等离子体(ICP)刻蚀中保护刻蚀结构的方法，属于微电子机械系统(MEMS)加工工艺技术领域。该方法在感应耦合等离子体ICP干法刻蚀硅结构时，不将硅片刻蚀穿通，在硅结构上PECVD淀积氧化硅，各项同性刻蚀硅结构上表面的氧化硅，再ICP刻蚀剩余未穿通部分的硅，释放硅结构，使硅结构的侧壁形成保护层。本发明保证了刻蚀结构的完整性，使MEMS或NEMS器件具有实际提高工艺结果质量的作用。
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公开(公告)号：CN1209799C
公开(公告)日：2005-07-06
申请号：CN03104779.3
申请日：2003-02-28
Applicant: 北京大学
IPC: H01L21/3065 , C23F4/00 , B81B5/00
Abstract: 本发明涉及一种高深宽比硅深刻蚀方法。采用具有双路气体自动切换功能的英国STS公司生产的STS Multiplex ICP高密度等离子刻蚀系统，采用如下的工艺条件：离子源功率：600W，承片台功率：12～14W，刻蚀气体流量：95sccm，刻蚀时间：13～15秒，钝化气体流量：95sccm，钝化时间：9～11秒，刻蚀与钝化重叠时间：0.5秒，反应压力：18～36mTorr，刻蚀样品：直径100毫米硅片，刻蚀掩膜：普通正性光刻胶。解决了硅深刻蚀过程中刻蚀速率随槽宽度变窄而降低的这一国际性难题，使采用复杂图形和梳齿图形的器件结构能够用高深宽比硅刻蚀技术来实现，为MEMS器件的制造提供了一种有效可行的加工手段。可广泛应用于微电子机械技术领域。
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