一种辐射敏感场效应晶体管及其制备方法

    公开(公告)号:CN105552113B

    公开(公告)日:2018-07-13

    申请号:CN201610111860.1

    申请日:2016-02-29

    Applicant: 北京大学

    Abstract: 本发明公开了一种硅衬底上的辐射敏感场效应晶体管(RadFET)及其制备方法。该器件的绝缘沟道层依次为:湿法制备的二氧化硅层、石墨烯薄膜、以及干法制备的二氧化硅层。多层石墨烯材料作为沟道层,增强了RadFET探测器的灵敏度;且湿法制备的疏松氧化硅层起到缓冲作用,可以有效减缓高能粒子辐射带来的器件损伤,同时避免了石墨烯薄膜与源漏电极直接接触带来的界面问题,提高了器件的寿命和性能。此外,对干法制备的二氧化硅进行离子注入工艺,引入较高浓度的杂质陷阱,可以有效的调整器件的阈值电压,同时减小源漏接触电阻,增强器件灵敏度。该RadFET探测器工艺简单、制备成本低,适用于辐射总剂量的探测,具有广泛的应用前景。

    一种辐射敏感场效应晶体管及其制备方法

    公开(公告)号:CN105552113A

    公开(公告)日:2016-05-04

    申请号:CN201610111860.1

    申请日:2016-02-29

    Applicant: 北京大学

    CPC classification number: H01L29/78 H01L29/1033 H01L29/1606 H01L29/66477

    Abstract: 本发明公开了一种硅衬底上的辐射敏感场效应晶体管(RadFET)及其制备方法。该器件的绝缘沟道层依次为:湿法制备的二氧化硅层、石墨烯薄膜、以及干法制备的二氧化硅层。多层石墨烯材料作为沟道层,增强了RadFET探测器的灵敏度;且湿法制备的疏松氧化硅层起到缓冲作用,可以有效减缓高能粒子辐射带来的器件损伤,同时避免了石墨烯薄膜与源漏电极直接接触带来的界面问题,提高了器件的寿命和性能。此外,对干法制备的二氧化硅进行离子注入工艺,引入较高浓度的杂质陷阱,可以有效的调整器件的阈值电压,同时减小源漏接触电阻,增强器件灵敏度。该RadFET探测器工艺简单、制备成本低,适用于辐射总剂量的探测,具有广泛的应用前景。

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