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公开(公告)号：CN106521440B
公开(公告)日：2019-02-15
申请号：CN201610996213.3
申请日：2016-11-12
Applicant: 北京印刷学院
Abstract: 一种采用磁控溅射法制备高附着力镀铝膜的方法，属于柔性包装薄膜材料制备技术领域。本发明是以磁控溅射法在聚合物薄膜表面沉积金属缓冲层，然后经真空蒸镀工艺沉积铝膜，获得高附着力镀铝膜。该制备工艺主要包括以下步骤：在磁控溅射腔室放置聚合物薄膜并将溅射腔室抽真空至6×10‑3Pa以下；开启磁控溅射电源，沉积金属缓冲层；以沉积有金属缓冲层的聚合物薄膜为基底在蒸发镀膜机中蒸镀铝膜，获得高附着力的镀铝膜。本发明可通过磁控溅射的工艺极大地增强镀铝膜的附着性能，可获得附着力在10N/15mm以上的高附着性能镀铝膜，溅射过程清洁环保，产品附加值高，工艺简单，容易产业化。
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公开(公告)号：CN106521440A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201610996213.3
申请日：2016-11-12
Applicant: 北京印刷学院
CPC classification number: C23C14/35 , C23C14/025 , C23C14/20 , C23C14/205 , C23C14/26 , C23C14/30 , C23C28/023
Abstract: 一种采用磁控溅射法制备高附着力镀铝膜的方法，属于柔性包装薄膜材料制备技术领域。本发明是以磁控溅射法在聚合物薄膜表面沉积金属缓冲层，然后经真空蒸镀工艺沉积铝膜，获得高附着力镀铝膜。该制备工艺主要包括以下步骤：在磁控溅射腔室放置聚合物薄膜并将溅射腔室抽真空至6×10-3Pa以下；开启磁控溅射电源，沉积金属缓冲层；以沉积有金属缓冲层的聚合物薄膜为基底在蒸发镀膜机中蒸镀铝膜，获得高附着力的镀铝膜。本发明可通过磁控溅射的工艺极大地增强镀铝膜的附着性能，可获得附着力在10N/15mm以上的高附着性能镀铝膜，溅射过程清洁环保，产品附加值高，工艺简单，容易产业化。
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公开(公告)号：CN106521427B
公开(公告)日：2019-01-22
申请号：CN201611039640.9
申请日：2016-11-22
Applicant: 北京印刷学院
Abstract: 本发明公开了一种连续生产高附着力镀铝膜的装置及方法，属于柔性包装基材薄膜技术领域。本发明的装置由放卷辊(1)、张力辊(2)、溅射室(3)、镀膜室(4)、收卷辊(5)以及辅助的水路、电路、气路系统和真空系统构成。本发明的方法包括柔性基材经放卷辊(1)和收卷辊(5)装置驱动柔性基材匀速走膜、柔性基材在经过溅射室(3)时溅射沉积缓冲层和沉积有缓冲层的柔性基材经过镀膜室(4)时沉积铝膜三个主要步骤。本发明公开的装置和方法能够连续操作，溅射缓冲层和镀铝过程在同一个系统中完成，在操作过程中柔性基材无需取出，有利于工业化连续生产，大幅提高生产效率。
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公开(公告)号：CN106521427A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201611039640.9
申请日：2016-11-22
Applicant: 北京印刷学院
CPC classification number: C23C14/26 , C23C14/16 , C23C14/165 , C23C14/205 , C23C14/30 , C23C14/35 , C23C14/562
Abstract: 本发明公开了一种连续生产高附着力镀铝膜的装置及方法，属于柔性包装基材薄膜技术领域。本发明的装置由放卷辊(1)、张力辊(2)、溅射室(3)、镀膜室(4)、收卷辊(5)以及辅助的水路、电路、气路系统和真空系统构成。本发明的方法包括柔性基材经放卷辊(1)和收卷辊(5)装置驱动柔性基材匀速走膜、柔性基材在经过溅射室材经过镀膜室(4)时沉积铝膜三个主要步骤。本发明公开的装置和方法能够连续操作，溅射缓冲层和镀铝过程在同一个系统中完成，在操作过程中柔性基材无需取出，有利于工业化连续生产，大幅提高生产效率。(3)时溅射沉积缓冲层和沉积有缓冲层的柔性基
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公开(公告)号：CN206188874U
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201621265699.5
申请日：2016-11-22
Applicant: 北京印刷学院
Abstract: 本实用新型公开了一种高附着力镀铝膜，属于柔性包装薄膜材料制备技术领域。一种高附着力镀铝膜，包括镀膜基材和最外层的镀铝层，在镀膜基材和最外层的镀铝层之间有金属缓冲层，金属缓冲层的厚度为5‑50nm，镀铝层的厚度为10‑200nm。镀膜基材选自聚酯、聚乙烯、聚丙烯、双向拉伸聚丙烯，金属缓冲层选自铝、铜、铬、钛、铁或这些金属的合金。金属缓冲层通过磁控溅射制备；镀铝层可以通过电阻法蒸发、电子束法蒸发、高频感应蒸发或磁控溅射制备，采用磁控溅射制备时可以和金属缓冲层在同一套装置中完成。本实用新型可极大地增强镀铝膜的附着性能，可获得附着力在10N/15mm以上的高附着性能镀铝膜，产品附加值高。
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