一种大气压旋转滑动弧等离子体污水处理装置

    公开(公告)号:CN116789230A

    公开(公告)日:2023-09-22

    申请号:CN202310680318.8

    申请日:2023-06-09

    Abstract: 本发明提供一种大气压旋转滑动弧等离子体污水处理装置,涉及污水处理装置技术领域,包括:污水雾化器、净化腔、接地电极、高压电极和气流产生装置,接地电极和高压电极均设置于净化腔内,接地电极位于高压电极上方,高压电极为从上往下延伸的螺旋状电极,污水雾化器能够将污水雾化并将雾化颗粒输送至接地电极和高压电极之间,气流产生装置能够在净化腔中产生从上往下流动的气流以形成滑动弧,净化腔底部设置有出液口。本发明提供的方案能够使等离子体产生区域较大,活性粒子浓度高,能量利用率高,成本低。

    一种等离子体增强原子层沉积流化床粉体处理装置及应用

    公开(公告)号:CN114892146A

    公开(公告)日:2022-08-12

    申请号:CN202210500762.2

    申请日:2022-05-09

    Abstract: 本发明提供一种等离子体增强原子层沉积流化床粉体处理装置,优于同类实验装置的配置包括:位于加热炉内部的、竖向直立设置的变径气固流化床体,在石英管中可以满足气流分布均匀使前驱体与粉体充分接触,沉积均匀;等离子体发生器,石英圆管上下两端缠绕的高压电极和地电极,在间隙中能够发生等离子体放电,将设置好参数的等离子体加入到反应过程中,既可以降低整个沉积过程的温度要求,又可以加大前躯体粒子的活性。该装置实现了低温吸附或进行反应,利用等离子体放电中产生的高能物质与前驱体发生化学反应,从而拓展了原子层沉积技术前驱体的选择范畴。可实现在较低温度下通过控制循环次数对薄膜厚度的精确控制,还可满足在复杂三维基底上保形性沉积。

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