公开(公告)号：CN114892146A

公开(公告)日：2022-08-12

申请号：CN202210500762.2

申请日：2022-05-09

Applicant: 北京印刷学院

Inventor： 刘忠伟 ,  唐守贤 ,  田地 ,  陈强

IPC: C23C16/442 ,  B22F1/18 ,  C23C16/44 ,  C23C16/448 ,  C23C16/455 ,  C23C16/503

Abstract: 本发明提供一种等离子体增强原子层沉积流化床粉体处理装置，优于同类实验装置的配置包括：位于加热炉内部的、竖向直立设置的变径气固流化床体，在石英管中可以满足气流分布均匀使前驱体与粉体充分接触，沉积均匀；等离子体发生器，石英圆管上下两端缠绕的高压电极和地电极，在间隙中能够发生等离子体放电，将设置好参数的等离子体加入到反应过程中，既可以降低整个沉积过程的温度要求，又可以加大前躯体粒子的活性。该装置实现了低温吸附或进行反应，利用等离子体放电中产生的高能物质与前驱体发生化学反应，从而拓展了原子层沉积技术前驱体的选择范畴。可实现在较低温度下通过控制循环次数对薄膜厚度的精确控制，还可满足在复杂三维基底上保形性沉积。