公开(公告)号：CN115494262A

公开(公告)日：2022-12-20

申请号：CN202211188486.7

申请日：2022-09-27

Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)

Inventor： 谭立杰 ,  闫芸 ,  王学军

IPC: G01P15/08 ,  G01P15/09

Abstract: 本申请提供了一种IEPE加速度传感器的调理电路，所述调理电路包括恒流源，其特征在于，所述调理电路还包括：信号处理电路和双电源电路；所述双电源电路的正极输出端分别与所述恒流源的输入端和所述信号处理电路的正极输入端连接，用于分别为所述恒流源和所述信号处理电路提供正电压；所述双电源电路的负极输出端与所述信号处理电路的负极输入端连接，用于为所述信号处理电路提供负电压；所述信号处理电路用于在接收到所述IEPE传感器发送的原始加速度信号后，对所述原始加速度信号进行信号处理，得到加速度信号。所述调理电路能够使得信号处理电路中对信号进行处理的幅值更高，从而提高输出信号的信噪比。

公开(公告)号：CN111584403A

公开(公告)日：2020-08-25

申请号：CN202010445688.X

申请日：2020-05-22

Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)

Inventor： 宋婉贞 ,  黄卫国 ,  武震 ,  张永昌 ,  郑佳晶 ,  陈国兴 ,  田世伟 ,  谭立杰

IPC: H01L21/67 ,  B07C5/02 ,  B07C5/34 ,  B07C5/36

Abstract: 本发明提供一种半导体材料加工设备及半导体材料加工方法，涉及物料加工技术领域。该半导体材料加工设备包括上料机构、加工机构、下料机构、检测模块、控制模块、下料位和废料位。上料机构设置在加工机构的一侧。检测模块设置在加工机构处，检测模块与控制模块连接。控制模块与下料机构连接，下料机构设置在加工机构的一侧。检测模块用于检测加工机构加工后的物料的外观，控制模块用于判断加工后的物料是否合格，并控制下料机构将合格物料输送至下料位处，将不合格物料输送至废料位处。本发明缓解了现有技术中自动上料和下料的半导体材料加工设备加工物料过程中，物料加工失败后需人为将废料剔除，导致生产效率仍旧较低的技术问题。

公开(公告)号：CN107091881B

公开(公告)日：2019-09-24

申请号：CN201710436901.9

申请日：2017-06-09

Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)

Inventor： 邓胜强 ,  黄晓鹏 ,  程秀全 ,  郑佳晶 ,  宋婉贞 ,  谭立杰 ,  雒晓文

IPC: G01N29/06

Abstract: 本发明涉及一种高分辨率超声扫描显微镜的加速处理方法，包括步骤：设置超声扫描参数，启动扫描流程；开辟两个线程以并行方式进行大规模超声数据的采集和处理，数据采集通过设置专用超声数据门的方式，针对感兴趣区域的超声回波信号进行采集，数据处理通过直接内存存取DMA技术高速读取并实时简化单个采样点的超声A波形数据；扫描结束后，将每个扫描点简化后的超声成像关键数据合并，通过设置的图像生成方式形成对应的超声扫描图像；通过实时抽样方法将大尺寸超声图像转换为显示控件大小再进行实时显示。本发明能够加速高分辨超声扫描显微镜扫描过程中对海量超声数据的采集和处理，使整个系统具有极高的实时性。

公开(公告)号：CN107091881A

公开(公告)日：2017-08-25

申请号：CN201710436901.9

申请日：2017-06-09

Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)

Inventor： 邓胜强 ,  黄晓鹏 ,  程秀全 ,  郑佳晶 ,  宋婉贞 ,  谭立杰 ,  雒晓文

IPC: G01N29/06

Abstract: 本发明涉及一种高分辨率超声扫描显微镜的加速处理方法，包括步骤：设置超声扫描参数，启动扫描流程；开辟两个线程以并行方式进行大规模超声数据的采集和处理，数据采集通过设置专用超声数据门的方式，针对感兴趣区域的超声回波信号进行采集，数据处理通过直接内存存取DMA技术高速读取并实时简化单个采样点的超声A波形数据；扫描结束后，将每个扫描点简化后的超声成像关键数据合并，通过设置的图像生成方式形成对应的超声扫描图像；通过实时抽样方法将大尺寸超声图像转换为显示控件大小再进行实时显示。本发明能够加速高分辨超声扫描显微镜扫描过程中对海量超声数据的采集和处理，使整个系统具有极高的实时性。

公开(公告)号：CN111584403B

公开(公告)日：2023-11-21

申请号：CN202010445688.X

申请日：2020-05-22

Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)

Inventor： 宋婉贞 ,  黄卫国 ,  武震 ,  张永昌 ,  郑佳晶 ,  陈国兴 ,  田世伟 ,  谭立杰

IPC: H01L21/67 ,  B07C5/02 ,  B07C5/34 ,  B07C5/36

公开(公告)号：CN109227221A

公开(公告)日：2019-01-18

申请号：CN201811328940.8

申请日：2018-11-09

Applicant: 北京半导体专用设备研究所(中国电子科技集团公司第四十五研究所)

Inventor： 谭立杰 ,  王广峰 ,  张乾 ,  周立庆 ,  肖钰 ,  黄卫国 ,  程秀全 ,  程雨

IPC: B23Q11/12

Abstract: 本发明提供的一种双螺旋主轴温控系统及其控制方法，涉及设备制造技术领域，包括：双螺旋轴套机构，双螺旋轴套机构包括双螺旋轴套、主轴和安装座；双螺旋轴套的内壁或主轴的外壁沿轴向开设有两个螺旋状的螺旋凹槽，主轴通过安装座密封安装在双螺旋轴套内，两个螺旋凹槽在主轴和双螺旋轴套之间构成循环连通的进水通路和出水通路；双螺旋轴套上设置有进水口和出水口，进水口和出水口分别与进水通路和出水通路连通；供水机构的出口与进水口连通；供水机构的进口与出水口连通；温控机构用于监测进水口位置和出水口位置的水温值；控制机构与供水机构和温控机构控制连接，用于根据温控机构的监测结果控制供水机构的供水量。