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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN107033787B
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201611109095.6
申请日：2016-12-06
Applicant: 凯斯科技股份有限公司
IPC: C09K3/14
Abstract: 本发明涉及抛光粒子‑分散层复合体及包括此的抛光料浆组合物，根据本发明的一个实施例的抛光粒子‑分散层复合体包括：抛光粒子；第一分散剂，从具有共振结构官能团的共聚物、含有二羧基的聚合物及含有二羧基的有机酸形成的群中选择的至少任何一个的阴离子性化合物；第二分散剂，从氨基酸、有机酸、聚亚烷基二醇及葡萄糖胺化合物结合的高分子多糖体形成的群中选择的至少任何一个的阳离子性化合物；及第三分散剂，在分子式内包括两个以上的被离子化的阳离子的阳离子性聚合物。
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公开(公告)号：CN107033787A
公开(公告)日：2017-08-11
申请号：CN201611109095.6
申请日：2016-12-06
Applicant: 凯斯科技股份有限公司
IPC: C09G1/02
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1409 , C09K3/1436 , C09K3/1463 , H01L21/30625 , H01L21/31053 , H01L21/31055 , H01L21/3212
Abstract: 本发明涉及抛光粒子‑分散层复合体及包括此的抛光料浆组合物，根据本发明的一个实施例的抛光粒子‑分散层复合体包括：抛光粒子；第一分散剂，从具有共振结构官能团的共聚物、含有二羧基的聚合物及含有二羧基的有机酸形成的群中选择的至少任何一个的阴离子性化合物；第二分散剂，从氨基酸、有机酸、聚亚烷基二醇及葡萄糖胺化合物结合的高分子多糖体形成的群中选择的至少任何一个的阳离子性化合物；及第三分散剂，在分子式内包括两个以上的被离子化的阳离子的阳离子性聚合物。
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公开(公告)号：CN106987209A
公开(公告)日：2017-07-28
申请号：CN201611186960.7
申请日：2016-12-20
Applicant: 凯斯科技股份有限公司
IPC: C09G1/02
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1472 , H01L21/31053 , H01L21/3212
Abstract: 本发明涉及抛光粒子‑分散层复合体及包括此的抛光料浆组合物，根据本发明的一个实施例的抛光粒子‑分散层复合体包括：抛光粒子；第一分散剂，从氨基酸、有机酸、聚亚烷基二醇及葡萄糖胺化合物结合的高分子多糖体形成的群中选择的至少任何一个的阳离子性化合物；及第二分散剂，在分子式内包括两个以上的被离子化的阳离子的阳离子性聚合物。
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公开(公告)号：CN105980509A
公开(公告)日：2016-09-28
申请号：CN201580008046.0
申请日：2015-01-23
Applicant: 凯斯科技股份有限公司
IPC: C09K3/14 , H01L21/304
Abstract: 本发明关于一种制备研磨液组合物的方法及一种通过该方法制备的研磨液组合物，该方法及该研磨液组合物可减少刮痕及剩余颗粒且维持高抛光速率，该刮痕及剩余颗粒在应用于半导体化学机械抛光(CMP)中被公认为因块状颗粒及聚结颗粒所致的良率降低的一个主要因素。此外，该方法及该研磨液组合物可应用于超大规模整合的半导体程序所需的各种图案且在针对应用的抛光速率、抛光选择比率、表示抛光均匀性的晶圆内非均匀性(WIWNU)及微痕小型化方面达成优良结果。
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公开(公告)号：CN106978086A
公开(公告)日：2017-07-25
申请号：CN201611198746.3
申请日：2016-12-22
Applicant: 凯斯科技股份有限公司
IPC: C09G1/02
CPC classification number: C09G1/02 , H01L21/31053
Abstract: 本发明涉及添加剂组合物及包括此的阳性抛光料浆组合物，根据本发明的一个实施例，添加剂组合物包括阳离子性化合物；有机酸；非离子性化合物；及pH调节剂，且可显示阳(positive)电荷的阳性料浆组合物和使用时，维持分散稳定性和高抛光率，并具有优秀的抛光选择比和高的平坦度及低的凹陷。
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