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公开(公告)号：CN100594254C
公开(公告)日：2010-03-17
申请号：CN200810108517.7
申请日：2008-05-21
Applicant: 兰州大学
Abstract: 本发明公开一种采用物理方法在基底材料上制备薄膜的设备，以及在制备过程中观察膜生长情况的方法。本发明的装置中镀膜室由镀膜室壳体和位于镀膜室壳体下的底板构成，在真空壳体上设置有充气阀和观察窗，在底板上分别设置有电阻加热蒸发器、辐射式坩锅蒸发器、溅射靶以及干涉光源、摄像头，在固定架上设置有用旋转轴驱动的旋转托盘、样片退火加热器和其下底设置的用于固定制膜样片装置；本发明的方法是在膜生长同时观察膜上形成的干涉现象。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101275218A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：CN200810108517.7
申请日：2008-05-21
Applicant: 兰州大学
Abstract: 本发明公开一种采用物理方法在基底材料上制备薄膜的设备，以及在制备过程中观察膜生长情况的方法。本发明的装置中镀膜室由镀膜室壳体和位于镀膜室壳体下的底板构成，在真空壳体上设置有充气阀和观察窗，在底板上分别设置有电阻加热蒸发器、辐射式坩埚蒸发器、溅射靶以及干涉光源、摄像头，在固定架上设置有用旋转轴驱动的旋转托盘、样片退火加热器和其下底设置的用于固定制膜样片装置；本发明的方法是在膜生长的同时观察膜上形成的干涉现象。
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公开(公告)号：CN201305624Y
公开(公告)日：2009-09-09
申请号：CN200820116753.9
申请日：2008-05-21
Applicant: 兰州大学
Abstract: 本实用新型公开一种采用物理方法在基底材料上制备薄膜的设备，以及在制备过程中观察膜生长情况的方法。本实用新型的装置中镀膜室由镀膜室壳体和位于镀膜室壳体下的底板构成，在真空壳体上设置有充气阀和观察窗，在底板上分别设置有电阻加热蒸发器、辐射式坩埚蒸发器、溅射靶以及干涉光源、摄像头，在固定架上设置有用旋转轴驱动的旋转托盘、样片退火加热器和其下底设置的用于固定制膜样片装置。
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公开(公告)号：CN2938266Y
公开(公告)日：2007-08-22
申请号：CN200620079685.4
申请日：2006-08-25
Applicant: 兰州大学
IPC: G09B23/06
Abstract: 本实用新型公开一种供教学、科研中使用的，需频繁变换入射光频率进行光电实验或测试的光电效应测试仪。本实用新型是在现有光电测试仪的光电管暗盒的外壳上设置一个轴，在轴上设置一个可转动的转盘，在转盘的边缘处设置有至少二个用于放置可更换的滤色片的孔，且每个放置滤色片的孔均可与光电管暗盒进光孔处于同一轴线上。这种仪器在更换滤色片时只需要简单地转动转盘，即可使另一个滤色片转动到光电管暗盒进光孔位置。
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