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公开(公告)号：CN103620487B
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201280029086.X
申请日：2012-04-19
Applicant: 信越工程株式会社 , 株式会社FK光实验室 , WI-A公司
IPC: G02F1/1337 , G02B5/30 , G02F1/13
CPC classification number: G02F1/1303 , G02B5/3058 , G02B5/3066 , G02B7/003 , G02F1/133788
Abstract: 本发明所涉及的光定向照射装置(1)，其特征在于具备：偏振单元(3)，其具备沿邻接方向邻接而配置的多个单位起偏器(31)；以及扫描单元，其通过使工作台(4)或偏振光照射单元(2)的至少一方移动，从而相对于载置于工作台(4)的基板(9)，使来自偏振光照射单元(2)的紫外线沿既定的扫描方向扫描，单位起偏器(31)的邻接面以及单位起偏器(31)的邻接方向相对于扫描方向倾斜。从而在光定向照射装置中谋求实现良好的定向特性。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103620487A
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN201280029086.X
申请日：2012-04-19
Applicant: 信越工程株式会社 , 株式会社FK光实验室 , WI-A公司
IPC: G02F1/1337 , G02B5/30 , G02F1/13
CPC classification number: G02F1/1303 , G02B5/3058 , G02B5/3066 , G02B7/003 , G02F1/133788
Abstract: 本发明所涉及的光定向照射装置(1)，其特征在于具备：偏振单元(3)，其具备沿邻接方向邻接而配置的多个单位起偏器(31)；以及扫描单元，其通过使工作台(4)或偏振光照射单元(2)的至少一方移动，从而相对于载置于工作台(4)的基板(9)，使来自偏振光照射单元(2)的紫外线沿既定的扫描方向扫描，单位起偏器(31)的邻接面以及单位起偏器(31)的邻接方向相对于扫描方向倾斜。从而在光定向照射装置中谋求实现良好的定向特性。
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公开(公告)号：CN103765303A
公开(公告)日：2014-04-30
申请号：CN201280029104.4
申请日：2012-04-19
Applicant: 信越工程株式会社 , 株式会社FK光实验室 , WI-A公司
IPC: G02F1/1337 , G02B5/30 , G02F1/13
CPC classification number: G02B5/3025 , G02F1/1303 , G02F1/133788 , G02F2001/133757
Abstract: 光定向照射装置，具备：偏振单元（3），其具备沿邻接方向邻接而配置的多个单位起偏器（31a～f）；扫描单元，其通过使工作台（4）或偏振光照射单元（2）的至少一方移动，从而相对于载置于所述工作台（4）的基板（9），沿既定的扫描方向扫描来自所述偏振光照射单元（2）的紫外线；以及偏振方向检测单元（6a～f），其能够对于每个所述单位起偏器（31a～f）检测从所述单位起偏器（31a～f）出射的紫外线的偏振方向，从而谋求实现良好的定向特性。
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公开(公告)号：CN103765303B
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201280029104.4
申请日：2012-04-19
Applicant: 信越工程株式会社 , 株式会社FK光实验室 , WI-A公司
IPC: G02F1/1337 , G02B5/30 , G02F1/13
CPC classification number: G02B5/3025 , G02F1/1303 , G02F1/133788 , G02F2001/133757
Abstract: 光定向照射装置，具备：偏振单元（3），其具备沿邻接方向邻接而配置的多个单位起偏器（31a～f）；扫描单元，其通过使工作台（4）或偏振光照射单元（2）的至少一方移动，从而相对于载置于所述工作台（4）的基板（9），沿既定的扫描方向扫描来自所述偏振光照射单元（2）的紫外线；以及偏振方向检测单元（6a～f），其能够对于每个所述单位起偏器（31a～f）检测从所述单位起偏器（31a～f）出射的紫外线的偏振方向，从而谋求实现良好的定向特性。
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公开(公告)号：CN103403614B
公开(公告)日：2016-06-29
申请号：CN201080070445.7
申请日：2010-10-01
Applicant: 株式会社FK光实验室 , 信越工程株式会社 , WI-A公司
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/1303 , G02F1/1337 , G02F1/133753 , G02F1/133788 , G02F2001/133757
Abstract: 提供能形成优异特性的取向膜的光取向曝光装置及光取向曝光方法。本发明所涉及的光取向曝光装置1，具备：照射光学系统11，包含偏振光照射单元12和偏振光控制元件14，向表面具有取向膜的基板2照射光束；以及扫描单元15，使基板2或照射光学系统11的至少一部分移动，沿既定的扫描方向对基板2扫描光束，偏振光照射单元12向偏振光控制元件14射出直线偏振光，偏振光控制元件14具有沿与扫描方向正交的方向排列的单位偏振光控制区域，从单位偏振光控制区域照射的光束的偏振方向按每既定数量的单位偏振光控制区域而周期性变化，并且在所述周期内关于与所述扫描方向平行且与所述基板正交的平面大致对称。
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公开(公告)号：CN103403614A
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201080070445.7
申请日：2010-10-01
Applicant: 株式会社FK光实验室 , 信越工程株式会社 , WI-A公司
IPC: G02F1/1337
CPC classification number: G02F1/1303 , G02F1/1337 , G02F1/133753 , G02F1/133788 , G02F2001/133757
Abstract: 提供能形成优异特性的取向膜的光取向曝光装置及光取向曝光方法。本发明所涉及的光取向曝光装置1，具备：照射光学系统11，包含偏振光照射单元12和偏振光控制元件14，向表面具有取向膜的基板2照射光束；以及扫描单元15，使基板2或照射光学系统11的至少一部分移动，沿既定的扫描方向对基板2扫描光束，偏振光照射单元12向偏振光控制元件14射出直线偏振光，偏振光控制元件14具有沿与扫描方向正交的方向排列的单位偏振光控制区域，从单位偏振光控制区域照射的光束的偏振方向按每既定数量的单位偏振光控制区域而周期性变化，并且在所述周期内关于与所述扫描方向平行且与所述基板正交的平面大致对称。
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