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公开(公告)号：CN118284957A
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202280077160.9
申请日：2022-11-15
Applicant: 信越工程株式会社
Abstract: 本发明为一种激光剥离方法，通过激光剥离将移载对象物自包括所述移载对象物的第一基板向第二基板移载，所述激光剥离方法包括一次性移载工序，所述一次性移载工序中对多个所述移载对象物与所述第一基板的界面一次性照射激光，而将所述多个移载对象物自所述第一基板剥离并一次性地向所述第二基板移载，在所述一次性移载工序中，仅对所述多个移载对象物各自与所述第一基板的所述界面的一部分照射所述激光。由此，可提供一种在移载时能够抑制移载对象物发生破损的激光剥离方法。
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公开(公告)号：CN222482591U
公开(公告)日：2025-02-14
申请号：CN202420802947.3
申请日：2024-04-18
Applicant: 信越工程株式会社
Abstract: 本实用新型提供一种激光照射系统、激光加工系统以及曝光系统，能够抑制因掩模的自重造成的挠曲的影响而以高精度进行激光照射，而且也能够抑制灰尘向掩模面的附着。激光照射系统包括第一光学功能部与第二光学功能部，第一光学功能部包括激光光源，第二光学功能部用于设置具有与被照射体的激光照射区域对应的图案的掩模，激光照射系统用于将激光经由掩模照射至被照射体，其中掩模包含具有与被照射体的激光照射区域对应的图案的有效区域，四边形的掩模的外缘即四边中的最长的边的长度与有效区域的激光透射方向的厚度之比为100以上，在第二光学功能部中，掩模被配置成，掩模的外缘即四边中的相对的两边相对于设置激光照射系统的面成为大致垂直方向。
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公开(公告)号：CN222429562U
公开(公告)日：2025-02-07
申请号：CN202420802967.0
申请日：2024-04-18
Applicant: 信越工程株式会社
IPC: B23K26/064 , B23K26/70
Abstract: 本实用新型提供一种激光照射系统以及激光加工系统，能够抑制因掩模的自重造成的挠曲的影响而以高精度进行激光照射，而且，也能够抑制灰尘向掩模面的附着，因此难以产生因灰尘造成的不良，且高度低。激光照射系统包括第一光学功能部与第二光学功能部，第一光学功能部包括激光光源，第二光学功能部用于设置具有与被照射体的激光照射区域对应的图案的掩模，激光照射系统用于将激光经由设置于第二光学功能部的掩模照射至被照射体，其中掩模是包含具有与被照射体的激光照射区域对应的图案的有效区域、且掩模的外缘即四边中的最长的边的长度为800mm以上的四边形的掩模，在第二光学功能部中配置成，形成有图案的面的法线朝向大致水平方向。
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