公开(公告)号：CN117715492A

公开(公告)日：2024-03-15

申请号：CN202410036703.3

申请日：2018-06-26

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 山冈裕 ,  仲田悟基 ,  小泽周作

IPC: H10K71/80 ,  H05B33/10 ,  G03F7/20 ,  B23K26/70 ,  B23K26/36 ,  B23K26/0622 ,  B23K26/066 ,  H10K71/40 ,  H10K71/00 ,  H10K59/12 ,  H01L21/67

Abstract: 本发明提供转移装置、转移方法、掩膜和显示器的制造方法。在保持高转移位置精度的同时实现转移装置的受体基板的大型化、精细化和缩短节拍时间。在以保持放置有转移对象物的供体基板和/或光束整形光学系统以及缩小投影光学系统的状态移动的各台组、以及保持作为转移目的物的受体基板的台组构建在分开的平台上而构成的机构中，使伴随各基板相对于激光的相对扫描而产生的振动和承担该扫描的台的同步位置精度的异常最小化。

公开(公告)号：CN112272966B

公开(公告)日：2024-02-02

申请号：CN201880094255.5

申请日：2018-06-26

Applicant: 信越化学工业株式会社

Inventor： 山冈裕 ,  仲田悟基 ,  小泽周作

IPC: H05B33/10 ,  B23K26/57 ,  G03F7/20 ,  H01L21/02 ,  H10K50/11

Abstract: 本发明提供转移装置、使用方法和调整方法。在保持高转移位置精度的同时实现转移装置的受体基板的大型化、精细化和缩短节拍时间。在以保持放置有转移对象物的供体基板和/或光束整形光学系统以及缩小投影光学系统的状态移动的各台组、以及保持作为转移目的物的受体基板的台组构建在分开的平台上而构成的机构中，使伴随各基板相对于激光的相对扫描而产生的振动和承担该扫描的台的同步位置精度的异常最小化。