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公开(公告)号:CN102812354A
公开(公告)日:2012-12-05
申请号:CN201080064716.8
申请日:2010-12-24
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 信和化工株式会社
CPC classification number: G01N30/6095 , B01L3/502761 , B01L2400/0487 , B01L2400/086 , G01N30/6069
Abstract: 色谱分析柱(13)具备:流路(12),该流路(12)具有一对侧壁(23)以及底壁,流动相能够在流路(12)的内部流动;以及多个柱部(31、32),该多个柱部(31、32)隔开规定间隔分别规则地配置。在此,各个柱部(31、32)的外形面包含曲面。侧壁(23)在局部包含沿着柱部(31)的外形面的曲面。在此,在流动相的流动方向上,设置在最靠近侧壁(23)的位置的柱部(31、32)和侧壁(23)之间的最短距离等于柱部(31、32)彼此之间的最短距离。
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公开(公告)号:CN102369444A
公开(公告)日:2012-03-07
申请号:CN201080014356.0
申请日:2010-03-29
Applicant: 信和化工株式会社 , 东京毅力科创株式会社
CPC classification number: G01N30/6095 , B01J19/0093 , B01J2219/00826 , B01J2219/00828 , B01J2219/00833 , B01J2219/0086 , B01J2219/00984 , B01L3/502746 , B01L2300/0816 , B01L2300/0883 , B01L2400/0487 , G01N27/44704 , G01N27/44791 , G01N30/6086 , Y10T29/49
Abstract: 设置在利用了压力输液的溶液分析系统内的微流道器件具有多个直线流道和连接相邻的直线流道的端部的弯曲流道。弯曲流道的宽度(w)小于直线流道的宽度(t)。弯曲流道的曲率半径(r)被设定为:使得由下式(1)表示的a的值小于或等于由下式(2)表示的基于所述弯曲流道的形状的理论台阶高度H的极大点处的a的值。其中,w:弯曲流道的宽度,uc:弯曲流道中的溶液的流道通过速度,γ:基于弯曲流道内存在的基材的分子扩散阻碍因子,Dm:溶液的分子扩散系数。a=w/r ····(1)
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公开(公告)号:CN102013378B
公开(公告)日:2016-01-06
申请号:CN201010274998.6
申请日:2010-09-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 浜松光子学株式会社
CPC classification number: H01J35/12 , H01J2235/081 , H01J2235/083 , H01J2235/087 , H01J2235/1204 , H01J2235/1291
Abstract: 本发明涉及X射线产生用靶、X射线产生装置以及X射线产生用靶的制造方法。X射线产生用靶具备基板和靶部。基板由金刚石构成,具有相互相对的第1主面和第2主面。基板上从第1主面侧形成具有底面状的孔部。靶部由从孔部的底面朝向第1主面侧堆积的金属构成。靶部的外侧面整体与孔部的内侧面紧贴。
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公开(公告)号:CN102013378A
公开(公告)日:2011-04-13
申请号:CN201010274998.6
申请日:2010-09-06
Applicant: 东京毅力科创株式会社 , 浜松光子学株式会社
CPC classification number: H01J35/12 , H01J2235/081 , H01J2235/083 , H01J2235/087 , H01J2235/1204 , H01J2235/1291
Abstract: 本发明涉及X射线产生用靶、X射线产生装置以及X射线产生用靶的制造方法。X射线产生用靶具备基板和靶部。基板由金刚石构成,具有相互相对的第1主面和第2主面。基板上从第1主面侧形成具有底面状的孔部。靶部由从孔部的底面朝向第1主面侧堆积的金属构成。靶部的外侧面整体与孔部的内侧面紧贴。
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公开(公告)号:CN1857920A
公开(公告)日:2006-11-08
申请号:CN200610078521.4
申请日:2006-05-08
Applicant: 奥克泰克有限公司 , 大日本网目版制造株式会社 , 东京毅力科创株式会社
IPC: B41J2/16 , H01L21/768 , B41J2/14 , B41J2/175
CPC classification number: B41J2/1609 , B05C5/007 , B05C5/0212 , B05C5/027 , B41J2/1628 , B41J2/1631 , H01J9/242
Abstract: 本发明提供了一种高精度且低成本的布图图案形成装置。该装置以(100)晶向的单晶硅为母材,通过光刻工序形成具有斜面部和布图材料导引槽的梳齿部。以与形成导引槽相同的工序形成该梳齿部的各个梳齿共用的储存布图材料的储液部。在形成斜面部时,可以通过进行湿式各向异性蚀刻,利用基于晶向的蚀刻速度之差来相对于晶向(100)高精度且容易地形成具有(111)晶向的斜面部,此外还可以通过各向异性干蚀刻来形成槽部,从而以高精度形成直到斜面部的、具有垂直侧壁的布图材料导引槽。
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