-
公开(公告)号：CN1808282A
公开(公告)日：2006-07-26
申请号：CN200610006404.7
申请日：2006-01-20
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70275
Abstract: 本发明公开了在物体上形成图案的曝光设备，其包括其中排列了每个至少包括一个光源的多个基本曝光单元和在物体上形成光源图像的光学元件的曝光头结构、检测物体表面位置的传感器，以及基于传感器的检测结果通过曝光头结构控制曝光的控制器。当选择性地操作满足预定条件的多个基本曝光单元之一时，所述控制器在物体上形成图案。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1800991B
公开(公告)日：2010-06-09
申请号：CN200510093213.4
申请日：2003-06-27
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03F7/70641 , G03F7/70358 , G03F7/70783 , G03F9/7011 , G03F9/7034
Abstract: 本发明提供了一种扫描曝光方法，用于利用弧形照射光照射掩膜上的图形，并且用于将由照射光学系统照射的掩膜上的图形投影到板片上，扫描曝光设备相对于投影光学系统同步扫描掩膜和板片，所述方法包括如下步骤：曝光焦距测量图形掩膜；由板片上的焦距测量图形图像的光强度或分辨率性能，测量特定区域的聚焦位置；线性内插测量结果并确定图像平面位置；计算用于倾斜掩膜和/或板片的倾斜角度，使得将板片表面置于图像表面位置的聚焦平面中；根据计算的数据，校正掩膜托架和/或板片托架的倾斜；以及曝光实际的掩膜。本发明还提供了一种装置制造方法包括如下步骤：使用上述扫描曝光方法将装置图形曝光到板片上，并将已被曝光的板片显影。
-
公开(公告)号：CN1472603A
公开(公告)日：2004-02-04
申请号：CN03148254.6
申请日：2003-06-27
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/22 , G03F7/26 , G02F1/1343
CPC classification number: G03F7/70641 , G03F7/70358 , G03F7/70783 , G03F9/7011 , G03F9/7034
Abstract: 本发明提供了一种扫描曝光设备，包括：照射光学系统，用于利用弧形照射光照射掩膜上的图形；投影光学系统，用于将由所述照射光学系统照射的掩膜上的图形投影到一个板片上；掩膜托架，用于扫描掩膜；板片托架，用于扫描该板片，所述扫描曝光设备相对于所述投影光学系统同步扫描所述掩膜托架和板片托架；掩膜支撑机构，用于支撑掩膜的边缘；以及掩膜托架倾斜机构，用于将由弧形照射光照射的区域中的图形置于所述投影光学系统的对象表面侧聚焦平面中，其中掩膜由于其自身的重量从被支撑的边缘变形。
-
公开(公告)号：CN1808282B
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：CN200610006404.7
申请日：2006-01-20
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/70275
Abstract: 本发明公开了在物体上形成图案的曝光设备，其包括其中排列了每个至少包括一个光源的多个基本曝光单元和在物体上形成光源图像的光学元件的曝光头结构、检测物体表面位置的传感器，以及基于传感器的检测结果通过曝光头结构控制曝光的控制器。当选择性地操作满足预定条件的多个基本曝光单元之一时，所述控制器在物体上形成图案。
-
公开(公告)号：CN1299170C
公开(公告)日：2007-02-07
申请号：CN03148254.6
申请日：2003-06-27
Applicant: 佳能株式会社
IPC: G03F7/22 , G03F9/00 , G02F1/1343
CPC classification number: G03F7/70641 , G03F7/70358 , G03F7/70783 , G03F9/7011 , G03F9/7034
Abstract: 本发明提供了一种扫描曝光设备，包括：照射光学系统，用于利用弧形照射光照射掩膜上的图形；投影光学系统，用于将由所述照射光学系统照射的掩膜上的图形投影到一个板片上；掩膜托架，用于扫描掩膜；板片托架，用于扫描该板片，所述扫描曝光设备相对于所述投影光学系统同步扫描所述掩膜托架和板片托架；掩膜支撑机构，用于仅在与扫描方向平行的两边支撑掩膜的边缘；以及掩膜托架倾斜机构，用于将由弧形照射光照射的区域中的图形置于所述投影光学系统的对象表面侧聚焦平面中，其中掩膜由于其自身的重量从被支撑的边缘变形。
-
公开(公告)号：CN1800991A
公开(公告)日：2006-07-12
申请号：CN200510093213.4
申请日：2003-06-27
Applicant: 佳能株式会社
CPC classification number: G03F7/70641 , G03F7/70358 , G03F7/70783 , G03F9/7011 , G03F9/7034
Abstract: 本发明提供了一种扫描曝光方法，用于利用弧形照射光照射掩膜上的图形，并且用于将由照射光学系统照射的掩膜上的图形投影到板片上，扫描曝光设备相对于投影光学系统同步扫描掩膜和板片，所述方法包括如下步骤：曝光焦距测量图形掩膜；由板片上的焦距测量图形图像的光强度或分辨率性能，测量特定区域的聚焦位置；线性内插测量结果并确定图像平面位置；计算用于倾斜掩膜和/或板片的倾斜角度，使得将板片表面置于图像表面位置的聚焦平面中；根据计算的数据，校正掩膜托架和/或板片托架的倾斜；以及曝光实际的掩膜。本发明还提供了一种装置制造方法包括如下步骤：使用上述扫描曝光方法将装置图形曝光到板片上，并将已被曝光的板片显影。
-
-
-
-
-
Search Results
6
records
(took 0.016 seconds)
