公开(公告)号：CN1711369A

公开(公告)日：2005-12-21

申请号：CN200380103273.9

申请日：2003-11-12

Applicant: 优纳克斯巴尔策斯股份有限公司

Inventor： R·奥斯特曼 ,  A·比歇尔 ,  M·叶利亚库比

IPC: C23C14/56 ,  C23C16/54

CPC classification number: H01L21/67178 ,  C23C14/566 ,  C23C14/568 ,  C23C16/54 ,  F27B5/04 ,  F27B5/12 ,  F27B17/0025 ,  F27D3/0084 ,  F27D3/06 ,  F27D2003/0065 ,  H01L21/67017 ,  H01L21/67201 ,  H01L21/67236 ,  H01L21/67742 ,  H01L21/67745 ,  H01L21/67748 ,  H01L21/67754 ,  H01L21/67766 ,  H01L21/67772 ,  H01L21/67781 ,  Y10S414/139

Abstract: 为了简化并提高多工序基片真空处理的灵活性，一负载锁定和处理塔LLPT1包括一负载锁定部件LLA和一处理部件PMA。负载锁定部件LLA一方面与外部环境AT相连通，另一方面与位于一运送部件TA中的真空环境V相连通。基片在负载锁定部件LLA和处理部件PMA之间的搬运是通过各开口来实现的。