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公开(公告)号：CN110094935B
公开(公告)日：2024-09-24
申请号：CN201910412022.1
申请日：2019-05-17
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方卓印科技有限公司
Abstract: 本发明提供一种真空干燥装置，其中该装置包括：容置箱体，其中至少两个表面上分别设置有抽气口；气体通路结构，包括多个接口连接部，每一所述接口连接部分别连接一个所述抽气口；抽真空泵，与所述气体通路结构连接，通过所述气体通路结构，所述抽真空泵与所述容置箱体连通，能够对所述容置箱体进行抽真空。采用该真空干燥装置，通过在容置箱体的至少两个表面分别设置抽气口，能够从容置箱体的不同位置抽离容置箱体内部空气，保证待干燥基板在干燥过程中容置箱体内部溶剂分布的均匀性，避免出现局部浓度过高，造成待干燥基板的中心区域和边缘区域由于溶剂氛围不同导致的膜厚不均匀问题。
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公开(公告)号：CN118368940A
公开(公告)日：2024-07-19
申请号：CN202410535031.0
申请日：2024-04-29
Applicant: 合肥京东方卓印科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方技术开发有限公司
Abstract: 本公开提供了一种发光器件及其制造方法、显示装置，该发光器件包括：衬底基板；像素界定层，设于衬底基板上，像素界定层限定出多个像素开口区和围绕像素开口区的堤坝区；发光元件，至少部分设于像素开口区内；封装层，覆盖像素界定层和发光元件；微透镜阵列层，包括阵列分布的多个微透镜，微透镜阵列层设于发光元件的靠近或远离衬底基板的一侧；发光器件中相邻布置在微透镜阵列层的靠近衬底基板一侧的膜层为微透镜接触层，微透镜接触层和微透镜阵列层中至少一者选用具有疏液性能的材料制成，微透镜阵列层为打印膜层。本公开的发光器件及其制造方法、显示装置，能够提高发光效果。
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公开(公告)号：CN118042884A
公开(公告)日：2024-05-14
申请号：CN202410211153.4
申请日：2024-02-26
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方卓印科技有限公司 , 北京京东方技术开发有限公司
IPC: H10K59/50 , H10K59/12 , H10K50/856
Abstract: 本发明提供了一种显示基板及其制作方法、显示装置，属于显示技术领域。其中，显示基板，包括：驱动基板；位于所述驱动基板上、阵列排布的多个光取出单元，每一所述光取出单元包括向所述驱动基板一侧凹陷的凹面结构；位于所述光取出单元远离所述驱动基板一侧表面上的发光单元，所述发光单元与所述凹面结构贴合形成向所述驱动基板一侧凹陷的凹陷部。本发明的技术方案能够提高显示基板的发光效率和发光亮度。
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公开(公告)号：CN117881222A
公开(公告)日：2024-04-12
申请号：CN202410232884.7
申请日：2024-02-29
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方卓印科技有限公司 , 北京京东方技术开发有限公司
IPC: H10K59/12 , H10K59/126 , H10K59/38
Abstract: 本发明公开了一种显示面板及显示装置，显示面板包括：相对而置的遮挡层和发光基板，发光基板包括间隔设置的多个发光区域，遮挡层包括间隔设置的多个透光区域，发光区域与透光区域一一对应；发光区域包括中间区域和边缘区域，边缘区域包围中间区域，所述中间区域与所述遮挡层之间的垂直距离记为第一距离，所述边缘区域与所述遮挡层之间的垂直距离记为第二距离，所述第一距离大于所述第二距离。通过对发光基板上发光区域的结构设置或者遮挡层的优化，使发光区域的边缘区域与遮挡层的垂直距离小于其中间区域与遮挡层的垂直距离，从而使发光区域的边缘区域与遮光层的相对盒厚降低，实现在保证显示面板盒厚的前提下降低漏光及提高色域的效果。
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公开(公告)号：CN109487242B
公开(公告)日：2021-01-29
申请号：CN201910013543.X
申请日：2019-01-07
Applicant: 合肥京东方卓印科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: C23C16/54 , C23C16/455 , C23C16/505 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供了一种薄膜沉积设备及薄膜沉积方法、显示装置，涉及显示技术领域，以在提升薄膜的封装效果的同时，提高OLED显示装置的使用寿命。其中上述薄膜沉积设备包括反应腔室，还包括至少两套成膜机构，该至少两套成膜机构分别对应待成膜基板的至少两个成膜区域；每套成膜机构配置为在反应腔室内形成一种成膜环境，且各套成膜机构所形成的成膜环境中至少一项工艺参数不同，以分别在对应的成膜区域形成薄膜性能不同的薄膜。上述薄膜沉积设备形成OLED器件的封装薄膜。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110610976A
公开(公告)日：2019-12-24
申请号：CN201910906147.X
申请日：2019-09-24
Applicant: 合肥京东方卓印科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
Abstract: 本发明实施例提供一种显示基板及其制备方法、显示装置；该显示基板包括衬底基板，所述衬底基板之上设有像素界定层，所述像素界定层之间形成有用于容纳墨滴的像素区，所述像素区包括中心区域以及围绕所述中心区域周围的边缘区域，所述边缘区域的表面能大于所述中心区域的表面能；本发明实施例显示基板能够降低显示基板出现润湿不充分的风险，提高打印品质。
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公开(公告)号：CN110094935A
公开(公告)日：2019-08-06
申请号：CN201910412022.1
申请日：2019-05-17
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方卓印科技有限公司
Abstract: 本发明提供一种真空干燥装置，其中该装置包括：容置箱体，其中至少两个表面上分别设置有抽气口；气体通路结构，包括多个接口连接部，每一所述接口连接部分别连接一个所述抽气口；抽真空泵，与所述气体通路结构连接，通过所述气体通路结构，所述抽真空泵与所述容置箱体连通，能够对所述容置箱体进行抽真空。采用该真空干燥装置，通过在容置箱体的至少两个表面分别设置抽气口，能够从容置箱体的不同位置抽离容置箱体内部空气，保证待干燥基板在干燥过程中容置箱体内部溶剂分布的均匀性，避免出现局部浓度过高，造成待干燥基板的中心区域和边缘区域由于溶剂氛围不同导致的膜厚不均匀问题。
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公开(公告)号：CN118285169A
公开(公告)日：2024-07-02
申请号：CN202280003955.5
申请日：2022-11-01
Applicant: 京东方科技集团股份有限公司 , 合肥京东方卓印科技有限公司
IPC: H10K59/131 , H01L27/02 , G09G3/20
Abstract: 显示面板以及显示装置，该显示面板包括显示区、非显示区、第一信号线和多个静电释放单元。显示区包括子像素；非显示区围绕显示区且包括静电释放区域；第一信号线沿第一方向从显示区延伸至静电释放区域，且被配置为给子像素提供第一显示信号；多个静电释放单元在第一方向上排列，每个静电释放单元包括至少一个子静电释放单元，每个子静电释放单元包括静电释放电路和第一导体，静电释放电路与第一信号线和第一导体电连接，第一信号线上的电荷朝向第一导体移动；多个静电释放单元包括在第二方向上相邻的两个相邻的静电释放单元，第二方向与第一方向垂直，两个相邻的静电释放单元在第一方向上彼此不重叠且在第二方向上彼此至少部分重叠。
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公开(公告)号：CN109487242A
公开(公告)日：2019-03-19
申请号：CN201910013543.X
申请日：2019-01-07
Applicant: 合肥京东方卓印科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
IPC: C23C16/54 , C23C16/455 , C23C16/505 , H01L51/56
CPC classification number: C23C16/54 , C23C16/455 , C23C16/505 , H01L51/56
Abstract: 本发明提供了一种薄膜沉积设备及薄膜沉积方法、显示装置，涉及显示技术领域，以在提升薄膜的封装效果的同时，提高OLED显示装置的使用寿命。其中上述薄膜沉积设备包括反应腔室，还包括至少两套成膜机构，该至少两套成膜机构分别对应待成膜基板的至少两个成膜区域；每套成膜机构配置为在反应腔室内形成一种成膜环境，且各套成膜机构所形成的成膜环境中至少一项工艺参数不同，以分别在对应的成膜区域形成薄膜性能不同的薄膜。上述薄膜沉积设备形成OLED器件的封装薄膜。
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公开(公告)号：CN119136588A
公开(公告)日：2024-12-13
申请号：CN202411313848.X
申请日：2024-09-19
Applicant: 合肥京东方卓印科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司 , 北京京东方技术开发有限公司
IPC: H10K59/12 , H10K59/122 , H10K59/80 , H10K59/126 , H10K50/805 , H10K50/842
Abstract: 本发明公开了一种显示面板及具有其的显示装置，该显示面板包括基板、平坦层以及像素界定层，平坦层设置于基板的一侧；像素界定层设置于平坦层远离基板的一侧，像素界定层包括多个间隔设置的隔离结构，相邻隔离结构形成像素开口区；像素开口区设置有像素电极层以及像素材料层；隔离结构与平坦层之间设置有连接部。该显示面板能够在保证曝光量和显影时间的前提下，降低非发光区出现小范围Peeling，或阳极与PDL搭接边缘出现一定角度的Undercut的概率，从而降低工艺过程出现漏电短路的概率。
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