Invention Grant
CN109487242B 薄膜沉积设备及薄膜沉积方法、显示装置
失效 - 权利终止
- Patent Title: 薄膜沉积设备及薄膜沉积方法、显示装置
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Application No.: CN201910013543.XApplication Date: 2019-01-07
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Publication No.: CN109487242BPublication Date: 2021-01-29
- Inventor: 马凯葓 , 孙力 , 张磊
- Applicant: 合肥京东方卓印科技有限公司 , 京东方科技集团股份有限公司
- Applicant Address: 安徽省合肥市新站区新站工业物流园内A组团E区宿舍楼15幢
- Assignee: 合肥京东方卓印科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- Current Assignee: 合肥京东方卓印科技有限公司,京东方科技集团股份有限公司
- Current Assignee Address: 安徽省合肥市新站区新站工业物流园内A组团E区宿舍楼15幢
- Agency: 北京中博世达专利商标代理有限公司
- Agent 申健
- Main IPC: C23C16/54
- IPC: C23C16/54 ; C23C16/455 ; C23C16/505 ; H01L51/56

Abstract:
本发明提供了一种薄膜沉积设备及薄膜沉积方法、显示装置,涉及显示技术领域,以在提升薄膜的封装效果的同时,提高OLED显示装置的使用寿命。其中上述薄膜沉积设备包括反应腔室,还包括至少两套成膜机构,该至少两套成膜机构分别对应待成膜基板的至少两个成膜区域;每套成膜机构配置为在反应腔室内形成一种成膜环境,且各套成膜机构所形成的成膜环境中至少一项工艺参数不同,以分别在对应的成膜区域形成薄膜性能不同的薄膜。上述薄膜沉积设备形成OLED器件的封装薄膜。
Public/Granted literature
- CN109487242A 薄膜沉积设备及薄膜沉积方法、显示装置 Public/Granted day:2019-03-19
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IPC分类: