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公开(公告)号：CN112505064B
公开(公告)日：2023-12-22
申请号：CN202011506981.9
申请日：2020-12-18
Applicant: 之江实验室 , 浙江大学 , 中电科风华信息装备股份有限公司
IPC: G01N21/95
Abstract: 本发明是一种晶圆缺陷检测系统及方法，包括处理单元、控制组件、位移组件、检测组件和信号采集单元，所述位移组件与检测组件配合设置，位移组件通过位移控制检测组件的检测信号采集及运动，所述控制组件通过指令控制位移组件的移动，间接控制检测组件的检测信号采集，所述检测组件采集的信号及控制组件的指令信息传输到信号采集单元，所述信号采集单元将采集的信号传输给处理单元处理，得到缺陷信息；本发明降低了对面阵探测器灵敏度的要求，可以有效地降低探测器成本；相对传统扫描方式，可以极大的提升整个系统的检测速度；由于面阵探测器在面区域曝光过程中不移动，可以改善传统扫描方式抖动模糊的问题，提高缺陷的检测识别率。
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公开(公告)号：CN113834515B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202110946914.7
申请日：2021-08-18
IPC: G01D21/00
Abstract: 本发明公开了一种高时空分辨双光子激光直写原位红外探测装置与方法，该装置基于光参量效应产生红外波段飞秒激光，脉冲时间短、峰值能量高；解决了传统双光子激光直写原位红外探测技术中时间分辨率低，无法实现超快动力学过程原位探测的问题。基于反射式物镜对红外飞秒激光进行聚焦，并结合共聚焦光学系统；解决了传统双光子激光直写原位红外探测技术中空间分辨率低，无法实现局部精细区域动力学过程原位探测的问题。本发明还公开了两种高时空分辨双光子激光直写原位红外探测方法，可以分别针对空间定点动力学过程，以及材料超快动力学过程进行原位探测，方法简单、适用面广、拓展性强。
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公开(公告)号：CN112666803B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202110048240.9
申请日：2021-01-14
Abstract: 本发明公开了一种基于边缘光抑制点阵产生及独立控制的并行直写装置，包含两路光：一路光通过镀涡旋膜MLA产生涡旋抑制光阵列，同时利用SLM控制各涡旋光的位置和形貌，结合DMD独立调控涡旋光强度，实现聚合区域大小控制；另一路光通过MLA产生激发光点阵，同时利用SLM调控各激发光位置，实现激发光和涡旋光阵列的精密重合。本发明可产生刻写点大小独立可控的高质量PPI阵列，每个PPI光斑由激发光和涡旋抑制光组成；采用相同刻写点大小的PPI阵列进行加工，具有超高分辨率、高通量和高均匀度的优势，控制刻写点大小使其具有特定分布，还能实现灰度光刻功能，加工任意高均匀度曲面结构和真三维微结构，可应用于超分辨光刻。
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公开(公告)号：CN114019763B
公开(公告)日：2023-12-12
申请号：CN202111120476.5
申请日：2021-09-24
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于万束独立可控激光点阵产生的并行直写装置，装置主要包含四个相同光路，每个光路包含核心元件数字微镜阵列DMD和微透镜阵列MLA，用于产生千束独立可控刻写点阵，光路中DMD将有效像素区域等分成M×N个子阵列，一个子阵列对应一个子光斑，从DMD出射的M×N子光斑与MLA的M×N微透镜空间上重合后，产生M×N千束焦点阵列，并最终成像到物镜焦平面上，通过四个千束点阵的拼接，最终实现万束刻写点阵的产生，能够快速加工高质量复杂三维微结构，可应用于超分辨光刻等领域。
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公开(公告)号：CN116382044A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310467150.2
申请日：2023-04-25
Abstract: 本申请涉及一种基于转镜的并行三维灰度激光直写光刻方法，其中，该方法包括：通过刻写激光器，生成刻写激光；根据光学衍射器件和刻写激光，生成多路刻写光束；根据待刻写结构的二维灰度图产生三维灰度刻写数据；基于转镜并行刻写算法和多路刻写光束的光束数，将三维灰度刻写数据拆分并写入到波形发生器的不同输出通道；在位移台移动到目标位置时，利用波形发生器的不同输出通道的三维灰度刻写数据，控制多通道声光调制器各个对应的通道的开关或振幅调制，完成对待刻写结构进行并行刻写。通过本申请，解决了相关技术中存在三维激光刻写时容易出现明显的台阶现象问题，提高了三维激光刻写速度，消除了三维激光刻写时明显的台阶现象。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116312652A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310133694.5
申请日：2023-02-07
Abstract: 一种基于转镜的光存储信息的高速读取方法，包括：使转镜在固定转速下沿着X方向匀速转动；计算采集卡接收到转镜行脉冲后每次采集的延迟时间；控制大行程气浮位移台在Y方向执行一次匀速运动，并在经过采集区域的起始位置时，产生位置触发信号，使能采集卡采集光强信号；采集卡使能后，每接收到一个行脉冲，采集卡采集一行的光强信号，经处理后转换为图像中的一行数据；采集到该区域的图像数据后，经过一系列处理得到该采集区域的二值化数据信息；大行程气浮位移台移动到下一个采集区域，重复执行上述步骤，得到整个采集区域的二值化数据；Z轴位移台移动到采集区域的下一层，重复上述过程，直至采集完整个三维区域内的所有二值化数据，并根据存储时已知的算法进行解码，得到该整个三维区域内的原始存储数据。
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公开(公告)号：CN115826364A
公开(公告)日：2023-03-21
申请号：CN202211493606.4
申请日：2022-11-25
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开一种基于双步双光子效应的高通量超分辨纳米刻写方法与装置，将存在延时的一个激发光和一个促进光合束，入射到数字微镜器件，随后成像到三维样品台的基板上涂覆的具有双步双光子效应的光刻胶上；根据所需刻写结构控制数字微镜器件，完成基板所在焦面处的曝光，同时控制三维样品台，以及激发光和促进光的延时，使延时大于光刻胶分子的单重态的激发态S1到多重态T1，进而实现双步双光子效应，实现任意三维纳米结构的刻写；激发光和促进光为同一波长且重复频率相同的激光束，且激发光的脉宽为飞秒，促进光的脉宽为皮秒或者纳秒。本发明实现超分辨激光刻写，并且结合数字微镜器件，进而实现高通量刻写能力。
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公开(公告)号：CN112882184B
公开(公告)日：2023-01-06
申请号：CN202110061579.2
申请日：2021-01-18
Abstract: 本发明公开了一种双光束实时中心对准和稳定的装置和方法，该装置包括可调小孔、旋转反射镜、直角棱镜反射镜、纳米位移台、角度压电调节镜架、二色镜、分束镜、透镜、位置探测器和控制器等部件。本发明可以对两束不同波长的激光束进行合束，确保光斑中心严格对准，并且对出射后的合束光进行光束稳定，在长时间工作中保持两束光的中心一直稳定在重合状态，实现小型化、高精度、快速度的合束光稳定控制。利用本发明装置调整得到稳定的合束光，可以广泛用于超分辨显微成像和高精度激光直写光刻等系统中。
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公开(公告)号：CN115327867A
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202211253404.2
申请日：2022-10-13
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种高速高精度对准的激光直写光刻方法与装置，使用位移台与转镜同步运动算法，首先基于激光器产生激光束，基于电光/声光调制器实现激光强度高速调制，基于任意波形发生器产生高速调制信号控制；然后启动位移台，按照预设路径移动，经过预设触发位置时产生触发信号；再基于数据采集卡采集触发信号，获得触发后打开转镜触发激光器，基于转镜位置激光器获得转镜扫描起始点信号，用于启动任意波形发生器输出高速调制信号；最后位移台匀速移动到下一个触发位置产生触发信号，直到位移台预设路径移动结束，完成刻写。本发明基于位移台与转镜同步运动算法，有效解决了现有激光直写光刻系统无法实现高速高精度对准的问题。
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公开(公告)号：CN114415481B
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202210324231.2
申请日：2022-03-30
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的激光直写系统的刻写方法及装置，该方法包括：构建光功率和声光调制器的输入电压之间的拟合关系；获取转镜扫描有效区域内的光功率分布情况；根据预定刻写光功率和所述光功率分布情况，确定单次刻写视场范围；根据所述单次刻写视场范围，对待刻写文件进行分割，得到至少一个子文件；对所述子文件进行灰度补偿矫正，得到刻写数据文件；根据刻写方向的偏转角度，对每个刻写数据文件的行初始位置坐标进行坐标变换；根据变换后的行初始位置坐标和所述拟合关系，利用基于转镜的激光直写系统进行刻写。本方法可以使刻写的效果更加均匀、刻写的准确率更高。
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