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公开(公告)号：CN119579841B
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202510137842.X
申请日：2025-02-07
Applicant: 之江实验室
IPC: G06T19/20
Abstract: 本说明书公开了一种三维模型填充方法、装置、存储介质及电子设备。在采用本方法实现三维模型填充时，可根据目标三维模型在各轴向上的长度，通过多次划分的方式，将目标三维模型平均分为多组包含三角面片数量较少的三角面片集，并在计算隐式场值时过滤不必要的三角面片集，仅保留一个最小三角面片集进行计算，得到隐式场值并进行填充。本方法通过将三维模型进行空间划分，无需遍历所有的三角面片，能够在每次计算中快速剔除不必要的三角面片，仅仅对少量三角面片进行计算，极大地提高了计算速度。
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公开(公告)号：CN116312652A
公开(公告)日：2023-06-23
申请号：CN202310133694.5
申请日：2023-02-07
Abstract: 一种基于转镜的光存储信息的高速读取方法，包括：使转镜在固定转速下沿着X方向匀速转动；计算采集卡接收到转镜行脉冲后每次采集的延迟时间；控制大行程气浮位移台在Y方向执行一次匀速运动，并在经过采集区域的起始位置时，产生位置触发信号，使能采集卡采集光强信号；采集卡使能后，每接收到一个行脉冲，采集卡采集一行的光强信号，经处理后转换为图像中的一行数据；采集到该区域的图像数据后，经过一系列处理得到该采集区域的二值化数据信息；大行程气浮位移台移动到下一个采集区域，重复执行上述步骤，得到整个采集区域的二值化数据；Z轴位移台移动到采集区域的下一层，重复上述过程，直至采集完整个三维区域内的所有二值化数据，并根据存储时已知的算法进行解码，得到该整个三维区域内的原始存储数据。
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公开(公告)号：CN115327867A
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202211253404.2
申请日：2022-10-13
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种高速高精度对准的激光直写光刻方法与装置，使用位移台与转镜同步运动算法，首先基于激光器产生激光束，基于电光/声光调制器实现激光强度高速调制，基于任意波形发生器产生高速调制信号控制；然后启动位移台，按照预设路径移动，经过预设触发位置时产生触发信号；再基于数据采集卡采集触发信号，获得触发后打开转镜触发激光器，基于转镜位置激光器获得转镜扫描起始点信号，用于启动任意波形发生器输出高速调制信号；最后位移台匀速移动到下一个触发位置产生触发信号，直到位移台预设路径移动结束，完成刻写。本发明基于位移台与转镜同步运动算法，有效解决了现有激光直写光刻系统无法实现高速高精度对准的问题。
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公开(公告)号：CN114415481B
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202210324231.2
申请日：2022-03-30
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的激光直写系统的刻写方法及装置，该方法包括：构建光功率和声光调制器的输入电压之间的拟合关系；获取转镜扫描有效区域内的光功率分布情况；根据预定刻写光功率和所述光功率分布情况，确定单次刻写视场范围；根据所述单次刻写视场范围，对待刻写文件进行分割，得到至少一个子文件；对所述子文件进行灰度补偿矫正，得到刻写数据文件；根据刻写方向的偏转角度，对每个刻写数据文件的行初始位置坐标进行坐标变换；根据变换后的行初始位置坐标和所述拟合关系，利用基于转镜的激光直写系统进行刻写。本方法可以使刻写的效果更加均匀、刻写的准确率更高。
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公开(公告)号：CN114415481A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202210324231.2
申请日：2022-03-30
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的激光直写系统的刻写方法及装置，该方法包括：构建光功率和声光调制器的输入电压之间的拟合关系；获取转镜扫描有效区域内的光功率分布情况；根据预定刻写光功率和所述光功率分布情况，确定单次刻写视场范围；根据所述单次刻写视场范围，对待刻写文件进行分割，得到至少一个子文件；对所述子文件进行灰度补偿矫正，得到刻写数据文件；根据刻写方向的偏转角度，对每个刻写数据文件的行初始位置坐标进行坐标变换；根据变换后的行初始位置坐标和所述拟合关系，利用基于转镜的激光直写系统进行刻写。本方法可以使刻写的效果更加均匀、刻写的准确率更高。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118244445A
公开(公告)日：2024-06-25
申请号：CN202410660267.7
申请日：2024-05-27
Abstract: 本发明公开了一种定力矩止动的高精度物镜对焦装置及对焦方法，该装置包括主体固定框架、压电驱动器、电动止推杆、止动活动块、止动部件底座、止动滑动块、主体滑动框架、弹簧柱塞、编码器、光栅尺、升降电机、升降连接器、行程挡块、行程开关等部件。该装置为一种小型化的集成物镜对焦装置，兼顾大范围运动行程与小范围运动精度，并配合行程开关和编码器光栅尺等部件实现闭环绝对位置控制和检测；且使用一种基于杠杆的固定力矩装置进行物镜升降止动，在止动时实现固定的止动力，根据安装的物镜重量进行预设，在失电时能保持止动。利用本发明装置及方法搭建的物镜对焦装置，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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公开(公告)号：CN116719209A
公开(公告)日：2023-09-08
申请号：CN202310709968.0
申请日：2023-06-15
Abstract: 本发明公开了一种基于马来酰亚胺的自引发双光子光刻胶及其图案化方法。所述基于马来酰亚胺的自引发双光子光刻胶含有100份的马来酰亚胺化合物、10‑30份的丙烯酸多环戊烯基酯和20‑50份的高折射率芴系活性交联剂。本发明的基于马来酰亚胺的自引发双光子光刻胶避免了常规双光子引发剂的使用，从而可以避免普通光刻胶中残留的光引发剂及光解碎片存在着迁移渗透和进一步光化学反应的可能；丙烯酸多环戊烯基酯的阻氧效应可以保证光刻胶在空气中正常使用；而高折射率芴系活性交联剂则可以有效调节光刻胶的折射率以提升刻写效果。该光刻胶经飞秒激光刻写、显影后，能够得到特征尺寸在百纳米级的二维线条，也能够刻写出数百微米的三维结构。
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公开(公告)号：CN114895535B
公开(公告)日：2022-12-02
申请号：CN202210817874.0
申请日：2022-07-13
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于双步吸收效应与STED原理的超分辨光刻方法，对于含有特殊光引发剂的光刻胶，使用两束不同波长的光源照射光刻胶，第一束激光以聚焦实心斑照射到光刻胶，利用聚焦实心斑与该光刻胶发生双步吸收作用使得光刻胶聚合固化；第二束激光为聚焦空心斑，且与第一束激光的三维中心对准，使得两束光边缘重合区域的光刻胶不发生聚合固化，通过控制两束光的相对能量，从而实现亚衍射极限2D及3D结构刻写，刻写最小精度可达亚50nm。
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公开(公告)号：CN112505915B
公开(公告)日：2022-08-30
申请号：CN202011296003.6
申请日：2020-11-18
Abstract: 本发明公开了一种激光束漂移实时探测与快速校正装置及方法，该装置包括可调小孔、旋转反射镜、直角棱镜反射镜、纳米位移台、压电调节镜架、分束镜、透镜、位置探测器和控制器等部件；通过纳米位移台与直角棱镜反射镜的组合，实现光束位置漂移的独立调控，通过压电调节镜架实现光束指向角度的独立调控。本发明通过光束指向位置漂移与角度漂移的独立调控，避免了常规光束指向系统中的解耦操作，实现小型化、高精度、快速度的光束稳定控制。利用本发明装置调整得到的稳定光束，可以广泛用于超分辨显微成像系统和高精度激光直写光刻系统。
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公开(公告)号：CN114895535A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202210817874.0
申请日：2022-07-13
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于双步吸收效应与STED原理的超分辨光刻方法，对于含有特殊光引发剂的光刻胶，使用两束不同波长的光源照射光刻胶，第一束激光以聚焦实心斑照射到光刻胶，利用聚焦实心斑与该光刻胶发生双步吸收作用使得光刻胶聚合固化；第二束激光为聚焦空心斑，且与第一束激光的三维中心对准，使得两束光边缘重合区域的光刻胶不发生聚合固化，通过控制两束光的相对能量，从而实现亚衍射极限2D及3D结构刻写，刻写最小精度可达亚50nm。
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