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公开(公告)号：CN119478195A
公开(公告)日：2025-02-18
申请号：CN202510051294.9
申请日：2025-01-13
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本说明书公开了一种三维模型的渲染方法、装置、存储介质及电子设备，该方法包括：先确定待渲染模型对应的隐式函数。基于隐式函数，确定用于计算待渲染模型对应的待渲染空间中的每个体素到待渲染模型的有向距离的计算逻辑。再生成用于实现计算逻辑的操作指令序列。通过图形处理器GPU，按照操作指令序列，确定各体素到待渲染模型的有向距离。确定待渲染模型对应的观测视角，并根据观测视角和各有向距离，对待渲染模型进行渲染，得到观测视角对应的渲染图像。通过先生成用于实现计算逻辑的操作指令序列，再由GPU按照操作指令序列计算各体素到待渲染模型的有向距离，提高计算效率，从而提高渲染效率。
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公开(公告)号：CN114415482A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202210324232.7
申请日：2022-03-30
Abstract: 本发明公开了一种基于振镜的超分辨激光直写系统的刻写方法及装置，该方法包括：获取待刻写数据和基于振镜的超分辨激光直写系统的单次扫描范围；根据所述单次扫描范围，将所述待刻写数据分割为若干个子数据；根据全局坐标系，对所述子数据进行旋转，得到旋转数据；获取振镜的X极性和Y极性；根据所述X极性和Y极性，对所述旋转数据进行翻转，得到翻转数据；对所述翻转数据之间的拼接重合区域进行拟合，得到刻写数据；根据所述刻写数据，利用基于振镜的超分辨激光直写系统进行刻写。该方法解决振镜与全局坐标系之间存在角度偏差、振镜X/Y轴向与全局坐标轴向不一致和拼接刻写均匀性不一致的问题。
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公开(公告)号：CN119579841B
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202510137842.X
申请日：2025-02-07
Applicant: 之江实验室
IPC: G06T19/20
Abstract: 本说明书公开了一种三维模型填充方法、装置、存储介质及电子设备。在采用本方法实现三维模型填充时，可根据目标三维模型在各轴向上的长度，通过多次划分的方式，将目标三维模型平均分为多组包含三角面片数量较少的三角面片集，并在计算隐式场值时过滤不必要的三角面片集，仅保留一个最小三角面片集进行计算，得到隐式场值并进行填充。本方法通过将三维模型进行空间划分，无需遍历所有的三角面片，能够在每次计算中快速剔除不必要的三角面片，仅仅对少量三角面片进行计算，极大地提高了计算速度。
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公开(公告)号：CN119478195B
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202510051294.9
申请日：2025-01-13
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本说明书公开了一种三维模型的渲染方法、装置、存储介质及电子设备，该方法包括：先确定待渲染模型对应的隐式函数。基于隐式函数，确定用于计算待渲染模型对应的待渲染空间中的每个体素到待渲染模型的有向距离的计算逻辑。再生成用于实现计算逻辑的操作指令序列。通过图形处理器GPU，按照操作指令序列，确定各体素到待渲染模型的有向距离。确定待渲染模型对应的观测视角，并根据观测视角和各有向距离，对待渲染模型进行渲染，得到观测视角对应的渲染图像。通过先生成用于实现计算逻辑的操作指令序列，再由GPU按照操作指令序列计算各体素到待渲染模型的有向距离，提高计算效率，从而提高渲染效率。
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公开(公告)号：CN115327867A
公开(公告)日：2022-11-11
申请号：CN202211253404.2
申请日：2022-10-13
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种高速高精度对准的激光直写光刻方法与装置，使用位移台与转镜同步运动算法，首先基于激光器产生激光束，基于电光/声光调制器实现激光强度高速调制，基于任意波形发生器产生高速调制信号控制；然后启动位移台，按照预设路径移动，经过预设触发位置时产生触发信号；再基于数据采集卡采集触发信号，获得触发后打开转镜触发激光器，基于转镜位置激光器获得转镜扫描起始点信号，用于启动任意波形发生器输出高速调制信号；最后位移台匀速移动到下一个触发位置产生触发信号，直到位移台预设路径移动结束，完成刻写。本发明基于位移台与转镜同步运动算法，有效解决了现有激光直写光刻系统无法实现高速高精度对准的问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114415481B
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202210324231.2
申请日：2022-03-30
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的激光直写系统的刻写方法及装置，该方法包括：构建光功率和声光调制器的输入电压之间的拟合关系；获取转镜扫描有效区域内的光功率分布情况；根据预定刻写光功率和所述光功率分布情况，确定单次刻写视场范围；根据所述单次刻写视场范围，对待刻写文件进行分割，得到至少一个子文件；对所述子文件进行灰度补偿矫正，得到刻写数据文件；根据刻写方向的偏转角度，对每个刻写数据文件的行初始位置坐标进行坐标变换；根据变换后的行初始位置坐标和所述拟合关系，利用基于转镜的激光直写系统进行刻写。本方法可以使刻写的效果更加均匀、刻写的准确率更高。
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公开(公告)号：CN114415481A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202210324231.2
申请日：2022-03-30
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的激光直写系统的刻写方法及装置，该方法包括：构建光功率和声光调制器的输入电压之间的拟合关系；获取转镜扫描有效区域内的光功率分布情况；根据预定刻写光功率和所述光功率分布情况，确定单次刻写视场范围；根据所述单次刻写视场范围，对待刻写文件进行分割，得到至少一个子文件；对所述子文件进行灰度补偿矫正，得到刻写数据文件；根据刻写方向的偏转角度，对每个刻写数据文件的行初始位置坐标进行坐标变换；根据变换后的行初始位置坐标和所述拟合关系，利用基于转镜的激光直写系统进行刻写。本方法可以使刻写的效果更加均匀、刻写的准确率更高。
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公开(公告)号：CN119850812A
公开(公告)日：2025-04-18
申请号：CN202510323451.7
申请日：2025-03-19
Applicant: 之江实验室
IPC: G06T15/00 , G06T15/20 , G06T5/70 , G06F30/10 , G06F113/10
Abstract: 本说明书公开了一种增材制造系统渲染方法、装置、存储介质及电子设备。在采用本说明书提供的增材制造系统渲染方法进行构件的渲染时，可通过平滑算法过渡待制造构件的模型和胞元填充阵列的边界区域，得到连续性较强的待定隐式函数，并根据待制造构件的外壳厚度调整待定隐式函数得到目标隐式函数，完成渲染任务。采用本方法不但能够解决显示建模中几何信息复杂数据量大、布尔运算复杂的问题，还通过在布尔运算中使用平滑算法，解决了边界区域不平滑导致球面追踪算法渲染异常问题。同时，通过使用图片集合渲染的方式，避免传统方式将数据模型转为多边形网格，减少计算和存储开销，提高了渲染过程的实时性。
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公开(公告)号：CN113985708B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202111247035.1
申请日：2021-10-26
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种可连续像旋转调制的超分辨高速并行激光直写方法与装置。本发明利用空间光调制器产生多束刻写光与多束抑制光，抑制光与刻写光在空间上重合形成调制后的多光束。利用像旋转器对调制后的多光束排布方向进行旋转，使得多光束排布方向与转镜扫描方向连续可调，实现了五种不同的高速扫描策略。本发明通过引入抑制光，相较于现有双光子并行激光直写具有更高的分辨率。并通过不同的扫描策略，解决了现有系统由于扫描策略单一导致扫描效果与扫描速度不佳的问题。
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公开(公告)号：CN116382043A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310399542.X
申请日：2023-04-14
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请涉及一种激光直写系统刻写方法、装置及计算机设备。所述激光直写系统包括图像传感模块、振镜、位移台，所述方法包括：确定所述位移台移动的第一距离与所述图像传感模块像素点对应移动的第二距离之间的第一关系；基于所述第一关系和预设系数确定振镜电压与刻写长度的第二关系；基于所述第二关系对待刻写文件进行刻写。本申请通过确定振镜电压与刻写长度的第二关系，可以在刻写前直接确定当前刻写环境中的最佳系统参数，根据需要刻写的长度精确控制振镜电压，有效提高实际刻写长度的精确度，解决了多视场刻写可能存在的拼接错位问题，无论是在单视场范围内刻写还是大面积刻写的应用场景都能够有效提高刻写准确率，进而提高刻写成功率。
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