一种Ba8Ga16Ge30热电单晶的生长方法

    公开(公告)号:CN101519800A

    公开(公告)日:2009-09-02

    申请号:CN200910046367.6

    申请日:2009-02-19

    Abstract: 本发明涉及一种Ba8Ga16Ge30热电单晶的生长方法,包括步骤1)制备Ba8Ga16Ge30粉末相:将Ba、Ga、Ge单质按化学计量比混合均匀,真空状态下在1100℃下加热12-15小时,然后缓慢降到室温,酸洗后得到纯相的Ba8Ga16Ge30;2)使用熔体提拉法生长Ba8Ga16Ge30单晶:将步骤1)得到的Ba8Ga16Ge30粉末置于Al2O3坩埚中,然后在提拉式单晶炉内反复抽真空、充气后,升温至1050~1100℃恒温1~3小时,然后降至950~980℃,待温度平衡后,采用定向籽晶,下籽晶,并恒温1~2小时;以1~5℃/h的速度缓慢降温,同时晶体以20~50转/分的速度转动,以1~6mm/h的速度提拉晶体。待晶体生长到所需尺寸,将晶体提离液面,即得到Ba8Ga16Ge30单晶。可以获得高质量的单晶,生长速度较快。

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